• Ordinateur de bureau compacte haute performance évaporateur sous vide à film mince rotatif
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Ordinateur de bureau compacte haute performance évaporateur sous vide à film mince rotatif

Type: Coating Spray Gun
Coating: Vacuum Coating
Substrate: Aluminum
Certification: CE, TUV
Condition: New
chambre à vide: quartz haute pureté

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Membre Diamant Depuis 2016

Fournisseurs avec des licences commerciales vérifiées

Fabricant/Usine & Société Commerciale

Info de Base.

N° de Modèle.
CY-VTC-16-3HD-LD
étape d′échantillonnage
ø 50 mm
panneau de commande
écran tactile
protection
acier inoxydable
nom
évaporateur rotatif
produit
évaporateur thermique
Paquet de Transport
Wooden Box
Spécifications
150 mm ID x 150 mm H
Marque Déposée
CY
Origine
Zhengzhou, China
Code SH
8543709990
Capacité de Production
340 Sets Per Month

Description de Produit

3 Objectif rotatif Teinteuse pulvérisation plasma w. Chauffage de substrat (500°C), y compris 3 cibles -  

Introduction d'un évaporateur rotatif

Est une certification CE compact trois pulvérisation plasma teinteuse cible rotatif avec un contrôleur numérique à écran tactile et un substrat capable de chauffage de chauffage jusqu'à 500 °C. Il peut enduire 1- 3 types de matériaux métalliques à l'échantillon avec un diamètre jusqu'à 50 mm. Trois cibles de pulvérisation : or, argent, cuivre sont

Inclus pour une utilisation immédiate.

Paramètre technique de l'évaporateur rotatif

Puissance d'entrée

Monophasée 220 VCA, 50 / 60 Hz

700 W (y compris la pompe à vide)

Pour l'utilisation 110V AC, nous allons inclure un transformateur pour vous. Veuillez sélectionner la tension dans les options de produit

Puissance de sortie

1600 VCC

40 mA max.

La chambre à vide

La chambre à vide : ID de 150 mm x 150 mm H, faite de quartz de haute pureté

Bride d'étanchéité en acier inoxydable avec joint torique plat

Stade de l'échantillon avec chauffage

La phase taille : 50 mm de dia.

Plage de distance pulvérisation : 25 - 40 mm réglable

Stade pivotante avec trois positions de pulvérisation (contrôlée par l'écran tactile)

Chauffage de substrat est intégré avec un maximum de température de chauffage de 500 °C

Le contrôleur de température PID avec +/- 1 °C de l'exactitude est intégré à l'écran tactile

Panneau de commande

Écran couleur tactile 6" avec PLC L'intégration pour un fonctionnement facile

Jauge de vide, pulvérisation compteur actuel, et de commande de température du substrat sont intégrés à l'écran tactile

Boutons de réglage sur le panneau avant pour le gaz d'admission et commande de courant de pulvérisation

Position de pulvérisation, minuterie de pulvérisation et le processus logging sont accessibles à partir de l'écran tactile

Shield

Cage de protection en acier inoxydable est inclus pour une protection supplémentaire

Cibles de pulvérisation

Exigences de taille cible : 47 mm de diamètre x 2,5 mm max.

pompe à vide
(Facultatif)


 

Construit en KF25 port vide pour la connexion à une pompe à vide

Connecteur de pompe à vide avec KF25 est nécessaire, mais non inclus. Utilisateur peut choisir

Un double stade mécanique pour l'aspiration pompe à vide jusqu'à 10^-2 Torr

Ou d'un turbo pompe pour aspirer jusqu'à 10^-4 Torr

pompe à vide peut être branché dans la prise de courant sur la gauche de paraffineuse pour le contrôle automatique

Dimensions

440 mm L × 330 mm W × 455 mm H

poids net

50 kg

Plus de photos d'un évaporateur rotatif
Compact High Performance Desktop Rotary Thin Film Vacuum Evaporator
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Compact High Performance Desktop Rotary Thin Film Vacuum Evaporator
 

 

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