• cible 4n Alumina cible Al2O3, cibles rotatives à oxyde d′alumium/cibles plates
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cible 4n Alumina cible Al2O3, cibles rotatives à oxyde d′alumium/cibles plates

Application: Industrial
formule: Alumimium Oxide
classification: Ceramic Traget
norme de qualité: qualité industrielle
certification: iso
forme: Rotary,Flat,Round

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Guangdong, Chine
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Info de Base.

N° de Modèle.
CYT-AL2O3
Paquet de Transport
Wooden Box
Spécifications
Customized Size
Marque Déposée
CANYUAN
Origine
China
Capacité de Production
1000PCS

Description de Produit

4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
DESCRIPTION DU PRODUIT

Les matériaux cibles d'alumine sont obtenus par des procédés de pressage à chaud sous vide et de frittage de l'atmosphère pour obtenir des blancs cibles d'alumine, qui sont ensuite usinés pour produire la cible finale. Les cibles rotatives sont généralement reliées à un tube de support pour utilisation, tandis que les cibles plates sont utilisées dans les processus de frittage sous vide.

Il est recommandé d'utiliser la cible de surface fixée à un fond de panier en cuivre et la taille peut être personnalisée en fonction des exigences du client.

Paramètres techniques

Pureté : 99.99 %.

Domaines d'application : équipement mécanique, champ optique, domaine de la microélectronique, semi-conducteur.
Nous pouvons réaliser des cibles plates AL2O3 et des cibles de pulvérisation rotatives.
Les spécifications et la pureté peuvent être personnalisées.
La description et le tableau d'analyse de la composition de 4N
AL2O3
  comme suit :
 Spécification des cibles  
Application Matériaux de pulvérisation PVD
Matériau Al2O3 (oxyde d'alumium)
Pureté 4N
Taille personnalisé
Epaisseur personnalisé
Forme Cible de pulvérisation rotative, Type d'anneau, Type de feuille, Type de plat et Type de tube
Densité -g/cm3
Point de fusion -ºC
Méthode de production HANCHE

4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
Notre avantage
4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets


Processus d'opération
4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets

Image d'emballage
4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets


Application :
4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets

Produit associé
Matériau Pureté
(N)
Composants
(poids %)
Densité Fusion
 Point
Thermique
Conductivité
(WM-1K-1)
Coefficient de
 extension
(10-6k-1)
Production
 Processus
Alliage d'aluminium 5N - 2.7 660 235 23.1 Fusion
CR 3N5 - 7.22 1907 94 4.9 HANCHE
Cu 4N - 8.9 1084 400 16.5 Fusion
Alliage magnéto-optique 3N5 - 10.28 2623 139 4.8 HANCHE
NB 4N - 8.6 2477 54 7.3 Fusion
Ta 4N - 16.7 3017 57 6.3 Fusion
Si 4N - 2.33 1414 150 2.6 Frittage et pulvérisation
TI 5N - 4.5 1670 22 8.6 Fusion
W 4N - 19.25 3422 174 4.5 HANCHE
AZO 3N5 98:2 5.6 1975 22 1.5 Frittage
ITO 4N 90:10 7.15 2000 15 2.0 Frittage
GZO 3N5 COMME DEMANDÉ 7.15 - - - Frittage
IGZO 4N COMME DEMANDÉ - - - - Frittage
Boîte-clés 4N - 4.6 1460 5 1.5 Frittage et pulvérisation
TIOX 4N - 4.23 1800 4 7.14 Frittage et pulvérisation
 

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Fabricant/Usine
Produits Principaux
Sputtering Target
Nombre d'Employés
6