• cibles rotatives à oxyde de niobium/cibles plates 4n Nbo2
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cibles rotatives à oxyde de niobium/cibles plates 4n Nbo2

Application: Industrial
formule: oxyde de niobium
classification: Ceramic Traget
norme de qualité: qualité industrielle
certification: iso
forme: Rotary,Flat,Round

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Guangdong, Chine
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Info de Base.

N° de Modèle.
CYT-NbO2
Paquet de Transport
Wooden Box
Spécifications
Customized Size
Marque Déposée
CANYUAN
Origine
China
Capacité de Production
1000PCS

Description de Produit

4n NbO2 Target Niobium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
DESCRIPTION DU PRODUIT

La cible rotative à oxyde de niobium utilise la technologie de pulvérisation de plasma pour fabriquer, et la taille et la pureté sont personnalisées en fonction des exigences du client.

La cible plane à l'oxyde de niobium utilise un processus de frittage à froid et est généralement utilisée en conjonction avec une plaque d'appui en cuivre. La taille et la pureté sont personnalisées en fonction des exigences du client.


PARAMÈTRES TECHNIQUES

Pureté : 99.99 % ; résistivité (20 °C) : ≤0,1 Ω.cm.

Domaines d'application : verre à faible E, cellules solaires à couche mince, TFT-LCD, électronique à semi-conducteurs, revêtements optiques, revêtements décoratifs.
Nous pouvons réaliser des cibles plates NbO2 et des cibles de pulvérisation rotatives.
Les spécifications et la pureté peuvent être personnalisées.
La description et le tableau d'analyse de la composition de 4N NbO2
  comme suit :
 Spécification des cibles  
Application Matériaux de pulvérisation PVD
Matériau NbO2 (oxyde de titane)
Pureté 4N
Taille personnalisé
Epaisseur personnalisé
Forme Cible de pulvérisation rotative, Type d'anneau, Type de feuille, Type de plat et Type de tube
Densité -g/cm3
Point de fusion -ºC
Méthode de production HANCHE

4n NbO2 Target Niobium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
Notre avantage
4n NbO2 Target Niobium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
4n NbO2 Target Niobium Oxide Rotary Targets/Flat Targets


Processus d'opération
4n NbO2 Target Niobium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
4n NbO2 Target Niobium Oxide Rotary Targets/Flat Targets

Image d'emballage
4n NbO2 Target Niobium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
4n NbO2 Target Niobium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
4n NbO2 Target Niobium Oxide Rotary Targets/Flat Targets


Application :
4n NbO2 Target Niobium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
4n NbO2 Target Niobium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
4n NbO2 Target Niobium Oxide Rotary Targets/Flat Targets

Produit associé
Matériau Pureté
(N)
Composants
(poids %)
Densité Fusion
 Point
Thermique
Conductivité
(WM-1K-1)
Coefficient de
 extension
(10-6k-1)
Production
 Processus
Alliage d'aluminium 5N - 2.7 660 235 23.1 Fusion
CR 3N5 - 7.22 1907 94 4.9 HANCHE
Cu 4N - 8.9 1084 400 16.5 Fusion
Alliage magnéto-optique 3N5 - 10.28 2623 139 4.8 HANCHE
NB 4N - 8.6 2477 54 7.3 Fusion
Ta 4N - 16.7 3017 57 6.3 Fusion
Si 4N - 2.33 1414 150 2.6 Frittage et pulvérisation
TI 5N - 4.5 1670 22 8.6 Fusion
W 4N - 19.25 3422 174 4.5 HANCHE
AZO 3N5 98:2 5.6 1975 22 1.5 Frittage
ITO 4N 90:10 7.15 2000 15 2.0 Frittage
GZO 3N5 COMME DEMANDÉ 7.15 - - - Frittage
IGZO 4N COMME DEMANDÉ - - - - Frittage
Boîte-clés 4N - 4.6 1460 5 1.5 Frittage et pulvérisation
TIOX 4N - 4.23 1800 4 7.14 Frittage et pulvérisation
 

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Fabricant/Usine
Produits Principaux
Sputtering Target
Nombre d'Employés
6