• cible de pulvérisation de haute qualité d′oxyde de niobium 4n
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cible de pulvérisation de haute qualité d′oxyde de niobium 4n

Application: Industriel
formule: oxyde de niobium
classification: Ceranic Traget
norme de qualité: qualité industrielle
certification: iso
forme: Rotary,Flat,Round

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Info de Base.

N° de Modèle.
CYT-NbO2
Paquet de Transport
Wooden Box
Spécifications
Customized Size
Marque Déposée
CANYUAN
Origine
China
Capacité de Production
1000PCS

Description de Produit

4n Niobium Oxide High Quality Sputtering TargetDESCRIPTION DU PRODUIT

LA cible AZO est une cible d'oxyde de zinc et d'aluminium, principalement composée d'oxyde de zinc dopé d'oxyde d'aluminium, qui est un matériau semi-conducteur de type N. Le frittage de la cible AZOÏQUE est généralement effectué en utilisant le frittage à la pression atmosphérique, le frittage à chaud et le frittage à l'atmosphère.

La méthode de frittage la plus courante est le frittage à la pression atmosphérique; les méthodes de formation courantes incluent le pressage à sec et le pressage isostatique à froid.

La cible ROTATIVE AZOÏQUE est réalisée par pressage à froid et frittage, et est liée au tube arrière. La taille peut être personnalisée en fonction des besoins du client.

La cible PLANE AZOÏQUE est réalisée à l'aide du procédé de frittage de ciment et est moulée sur la plaque arrière. La taille peut être personnalisée en fonction des besoins du client.

Paramètres techniques

Pureté : 99.95 %, 99.99 % ; résistivité (20 °C) : ≤1x10 Ω.cm.

Rapport commun : ZnO:Al2O3=98:2 (poids%).

Domaines d'application : électrodes pour cellules solaires à couche mince, verre conducteur transparent et films flexibles, écrans plasma, réflexion et protection infrarouge, et autres domaines.

Nous pouvons réaliser des cibles plates DE PULVÉRISATION D'AZO et de rotation.
Les spécifications et la pureté peuvent être personnalisées.
Le tableau d'analyse de la description et de la composition de 4N
AZO
  comme suit :
 Spécification des cibles  
Application Matériaux de pulvérisation PVD
Matériau AZO (ZnO:Al2O3)
Pureté 4N
Taille personnalisé
Epaisseur personnalisé
Forme Cible de pulvérisation rotative, Type d'anneau, Type de feuille, Type de plat et Type de tube
Densité -g/cm3
Point de fusion -ºC
Méthode de production HANCHE

4n Niobium Oxide High Quality Sputtering Target
Notre avantage
4n Niobium Oxide High Quality Sputtering Target
4n Niobium Oxide High Quality Sputtering Target


Processus d'opération
4n Niobium Oxide High Quality Sputtering Target
4n Niobium Oxide High Quality Sputtering Target

Image d'emballage
4n Niobium Oxide High Quality Sputtering Target
4n Niobium Oxide High Quality Sputtering Target
4n Niobium Oxide High Quality Sputtering Target


Application :
4n Niobium Oxide High Quality Sputtering Target
4n Niobium Oxide High Quality Sputtering Target
4n Niobium Oxide High Quality Sputtering Target

Produit associé
Matériau Pureté
(N)
Composants
(poids %)
Densité Fusion
 Point
Thermique
Conductivité
(WM-1K-1)
Coefficient de
 extension
(10-6k-1)
Production
 Processus
Alliage d'aluminium 5N - 2.7 660 235 23.1 Fusion
CR 3N5 - 7.22 1907 94 4.9 HANCHE
Cu 4N - 8.9 1084 400 16.5 Fusion
Alliage magnéto-optique 3N5 - 10.28 2623 139 4.8 HANCHE
NB 4N - 8.6 2477 54 7.3 Fusion
Ta 4N - 16.7 3017 57 6.3 Fusion
Si 4N - 2.33 1414 150 2.6 Frittage et pulvérisation
TI 5N - 4.5 1670 22 8.6 Fusion
W 4N - 19.25 3422 174 4.5 HANCHE
AZO 3N5 98:2 5.6 1975 22 1.5 Frittage
ITO 4N 90:10 7.15 2000 15 2.0 Frittage
GZO 3N5 COMME DEMANDÉ 7.15 - - - Frittage
IGZO 4N COMME DEMANDÉ - - - - Frittage
Boîte-clés 4N - 4.6 1460 5 1.5 Frittage et pulvérisation
TIOX 4N - 4.23 1800 4 7.14 Frittage et pulvérisation
 

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Fabricant/Usine
Produits Principaux
Sputtering Target
Nombre d'Employés
6