Cible de pulvérisation Nbo2 ronde à 99.99 % pour revêtement sous vide

• Application: Industriel
• formule: oxyde de niobium
• classification: traget ceranique
• N° de Modèle.: CYT-NbO2
• norme de qualité: qualité industrielle
• certification: iso
• forme: rotatif,plat,rond
• Paquet de Transport: boîte en bois
• Spécifications: taille personnalisée
• Marque Déposée: canyuan
• Origine: Chine
• Capacité de Production: 1 000 pièces

Description de Produit

DESCRIPTION DU PRODUIT

LA cible AZO est une cible d'oxyde de zinc et d'aluminium, principalement composée d'oxyde de zinc dopé d'oxyde d'aluminium, qui est un matériau semi-conducteur de type N. Le frittage de la cible AZOÏQUE est généralement effectué en utilisant le frittage à la pression atmosphérique, le frittage à chaud et le frittage à l'atmosphère.

La méthode de frittage la plus courante est le frittage à la pression atmosphérique; les méthodes de formation courantes incluent le pressage à sec et le pressage isostatique à froid.

La cible ROTATIVE AZOÏQUE est réalisée par pressage à froid et frittage, et est liée au tube arrière. La taille peut être personnalisée en fonction des besoins du client.

La cible PLANE AZOÏQUE est réalisée à l'aide du procédé de frittage de ciment et est moulée sur la plaque arrière. La taille peut être personnalisée en fonction des besoins du client.

Paramètres techniques

Pureté : 99.95 %, 99.99 % ; résistivité (20 °C) : ≤1x10 Ω.cm.

Rapport commun : ZnO:Al2O3=98:2 (poids%).

Domaines d'application : électrodes pour cellules solaires à couche mince, verre conducteur transparent et films flexibles, écrans plasma, réflexion et protection infrarouge, et autres domaines.

Nous pouvons réaliser des cibles plates DE PULVÉRISATION D'AZO et de rotation.
Les spécifications et la pureté peuvent être personnalisées.
Le tableau d'analyse de la description et de la composition de 4N AZO  comme suit :

Spécification des cibles
Application	Matériaux de pulvérisation PVD
Matériau	AZO (ZnO:Al2O3)
Pureté	4N
Taille	personnalisé
Epaisseur	personnalisé
Forme	Cible de pulvérisation rotative, Type d'anneau, Type de feuille, Type de plat et Type de tube
Densité	-g/cm3
Point de fusion	-ºC
Méthode de production	HANCHE

Notre avantage

Processus d'opération

Image d'emballage

Application :

Produit associé

Matériau	Pureté (N)	Composants (poids %)	Densité	Fusion  Point	Thermique Conductivité (WM-1K-1)	Coefficient de  extension (10-6k-1)	Production  Processus
Alliage d'aluminium	5N	-	2.7	660	235	23.1	Fusion
CR	3N5	-	7.22	1907	94	4.9	HANCHE
Cu	4N	-	8.9	1084	400	16.5	Fusion
Alliage magnéto-optique	3N5	-	10.28	2623	139	4.8	HANCHE
NB	4N	-	8.6	2477	54	7.3	Fusion
Ta	4N	-	16.7	3017	57	6.3	Fusion
Si	4N	-	2.33	1414	150	2.6	Frittage et pulvérisation
TI	5N	-	4.5	1670	22	8.6	Fusion
W	4N	-	19.25	3422	174	4.5	HANCHE
AZO	3N5	98:2	5.6	1975	22	1.5	Frittage
ITO	4N	90:10	7.15	2000	15	2.0	Frittage
GZO	3N5	COMME DEMANDÉ	7.15	-	-	-	Frittage
IGZO	4N	COMME DEMANDÉ	-	-	-	-	Frittage
Boîte-clés	4N	-	4.6	1460	5	1.5	Frittage et pulvérisation
TIOX	4N	-	4.23	1800	4	7.14	Frittage et pulvérisation