| Personnalisation: | Disponible |
|---|---|
| Service après-vente: | installation et formation gratuites, assistance technique |
| Garantie: | garantie limitée d′un an |
Fournisseurs avec des licences commerciales vérifiées
Fournisseur Audité Audité par une agence d'inspection indépendante
Bijoux et montres pulvérisation PVD revêtement anti-finger AF machine
Cette machine est utilisée pour les bijoux en acier ou les bijoux en alliages pour obtenir IPG.IPS,IPR IPB, l'or rose revêtements en platine etc. C'est un équipement de protection de l'environnement, pas de gaz résiduaires et pas d'eau usée, la caractéristique principale de la machine de revêtement IPG pvd est à faible coût , et l'adhérence du revêtement est plus forte que l'électrodéposition traditionnelle.
Généralement, pour le placage de bijoux, il faut utiliser une machine de revêtement par pulvérisation MF. La machine de revêtement sous vide à pulvérisation à fréquence moyenne intègre principalement la technologie de pulvérisation au magnétron MF et le revêtement par évaporation d'ions d'arc électrique, combinant la source d'ions et la tension de polarisation d'impulsion. Il est entièrement automatique lors du revêtement des films.
Paramètres techniques :
| Mode Dimensions |
JTL-900 | JTL-1100 | JTL-1300 | JTL-1600 |
| Φ9001000mm | Φ11001000mm | Φ13001200 mm | Φ16001200 mm | |
| Mode de revêtement et configuration principale |
3 paires arc électrique + 2 paires de cathode rectangulaire plane | 6 paires arc électrique + 2 paires de cathode cylindrique | 5 paires arc électrique + 4 paires de cathode cylindrique | 6 paires arc électrique + 8 paires de cathode cylindrique |
| Types de film | Films métalliques,films diélectriques,films composés,films de réaction,films de fonction Muti-layer | |||
| Source d'alimentation | Alimentation électrique en arc électrique, alimentation en magnétron CC, alimentation en magnétron MF.alimentation en tension de polarisation d'impulsion.alimentation en source d'ions. | |||
| Contrôle des gaz de procédé | Débitmètre de qualité + électrovanne céramique | |||
| Structure de la chambre à vide | Porte verticale simple (latérale), postposition du système de pompe, double refroidissement par eau | |||
| Système de vide | Pompe à molécule(pompe à diffusion)+pompe Roots +pompe mécanique (8.0*10 -4 Pa) | |||
| Vitesse de pompage | Temps de pompage inférieur à 15 minutes, de la pression atmosphérique à 310 -3 Pa | |||
| Mode de mouvement de la pièce | Rotation publique contrôle de fréquence : 0-20 rotations par minute | |||
| Mode de mesure | Affichage numérique jauge de vide composite : de l'atmosphère à 1.0*10 -5 Pa | |||
| Mode de contrôle | Système de contrôle d'automatisation complet PC+PLC/PC+HMI | |||
| Remarque | Nous pouvons concevoir la dimension de l'équipement en fonction des exigences techniques spéciales du client. |
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Contact: Lillian Yang
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