After-sales Service: | 2 Years |
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Warranty: | 1 Years |
Application: | School, Lab |
Customized: | Customized |
Structure: | Desktop |
Material: | Stainless Steel |
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Système PECVD
Le système PECVD utilise des fréquences micro-ondes ou radio pour ioniser le gaz contenant les atomes constitutifs du film pour former un plasma localement. Le plasma a une forte activité chimique et il est facile de réagir pour déposer le film désiré sur le substrat. Le système est largement utilisé pour déposer des films SiO2 de haute qualité, Si3N4, diamant, dur, optique, Nanotube de carbone (CNT), matériau composite C/C, revêtement SIC, revêtement graphite, etc
Modèle | DM-12NT-PECVD | DM-14ST-PECVD | DM-17MT-PECVD |
Température max | 1200ºC | 1400ºC | 1700ºC |
Température de fonctionnement | 1100ºC | 1300ºC | 1600ºC |
Élément chauffant | Fil de résistance | SIC | MoSi2 |
Thermocouple | Type K. | Type S. | Type B. |
Zone de température | Nombre/diamètre/longueur (peut être personnalisé) | ||
Précision de la température | ±1 ºC | ||
Tension nominale | AC220V50Hz/60Hz (peut être personnalisé) | ||
Contrôle des gaz | Débitmètre à flotteur/débitmètre massique | ||
Système de vide | Pompe rotative/pompe de diffusion/pompe moléculaire turbo (en option) | ||
Puissance RF | 100 W (en option) | ||
Fonction en option | Écran tactile/télécommande/surveillance de l'ordinateur | ||
Peut être personnalisé |
T1. Et le service après-vente ?
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