Fonction: | Cuve de stockage de pression |
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Demande: | Gaz |
Matériel: | Acier inoxydable |
Pression: | 10.0MPa≤p <100.0MPa |
Support de stockage: | Food Grade CO2 |
Niveau de pression: | Haute pression (10.0MPa ≤ p <100.0MPa) |
Fournisseurs avec des licences commerciales vérifiées
1. L'application et des détails spécifiques De gaz | ||||
L'hélium de haute pureté(il) | ||||
Application principale: Utilisé Dans L' Étude De La température, Chromatographie en phase gazeuse ultralow Analyse, de Métaux non ferreux , Fuite de soudage, Chimiques , de dépôt en phase gazeuse La croissance des cristaux, La Configuration De La Concentration plasmatique de Sec, Mélange spécial, Utilisé Comme Un Standard de Gaz, Équilibre gaz, Gaz médical, Ballonnet gonflable, Tube, Combinaisons de plongée, Etc. |
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Le Nom Du Gaz | Spécifications | La teneur en impuretés (10-6) | Numéro de la norme | |
Il a | 99, 999 % | Ne≤4 O2≤1, 0 H2≤1 N2≤2 CO≤0, 5 CO2≤0, 5 CH4≤0, 5 H2O≤3 | GB/T48443-1995 | |
99, 995 % | Ne≤15 O2≤3 H2≤3 N2≤10 CO≤1 de CO2≤1 CH4≤1 H2O≤10 | GB/T48442-1995 | ||
L' Oxyde nitreux (N2O) | ||||
But: 1. La Médecine: Régulation immunitaire de La Pression artérielle, Nerf de La transmission, Régulation physiologique Et La Fonction physiologique Comme L'inhibition De L' Agrégation plaquettaire 2. L'industrie pétrochimique Champs: Dans Le Domaine De l ' Industrie pétrochimique De Développer de Nouvelles Applications, Utilisé Dans La terminaison de réaction de polymérisation 3. D'autres Domaines: Réfrigérants, Liquide inflammable, les Conservateurs, Matières premières chimiques , Spectrométrie par absorption atomique En utilisant le Gaz, La fabrication de semiconducteurs Avec Injection de gaz d'équilibre , L'oxydation de l'agent, Standard Et de gaz de Fumée, de Dépression de L'agent de la cassette de détection de fuite, Etc. |
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Le Nom Du Gaz | Spécifications | La teneur en impuretés (10-6) | Numéro de la norme | |
N2O | 99, 9%/99, 999 % | CO≤5 ≤10 Halogène de CO2≤0, 2 de L'humidité≤100 Aucune, NO2≤0, 5 NH3≤5 | CP2005 & Q3901-1999/H | |
L'argon de haute pureté(Ar) | ||||
Objet: Utilisé Pour le Soudage, de La fabrication en acier inoxydable Et Fonte Des Métaux non ferreux, Également Utilisé Dans Le Processus de fabrication de semi-conducteurs Dépôt de vapeur inchemical, Crystal , Forte de L'oxydation du champ acoustique, l' Extension, Diffusion, Silicium polycristallin, Tungstène, L'implantation ionique, de Frittage, Etc. Utilisé Comme Un Standard de gaz à L'équilibre à zéro le Gaz naturel, Gaz, Chromatographie en phase gazeuse de Gaz porteur, Etc. |
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Le Nom Du Gaz | Spécifications | La teneur en impuretés (10-6) | Numéro de la norme | |
Ar | 99.9993% | N2≤4 O2≤1 H2≤1 THC≤1 H2O≤2.6 | GB/T4842-2006 | |
99, 999 % | N2≤5 O2≤2 H2≤1 THC≤2 H2O≤4 | |||
Le Dioxyde de carbone de haute pureté | (CO2) | |||
But: Laser, d' Industrie électronique, de Liquide de refroidissement du réacteur, La Recherche scientifique, Etc. | ||||
Le Nom Du Gaz | Spécifications | La teneur en impuretés (10-6) | Numéro de la norme | |
Le CO2 | 99, 99% | H2≤50 O2≤10 N2≤50 CO≤5 THC≤5 H2O≤15 | La Norme de l'entreprise | |
99, 995 % | H2≤20 O2≤5 N2≤30 CO≤2 THC≤3 H2O≤8 | |||
99, 999 % | H2≤5 O2≤1 N2≤3 CO≤0, 5 THC≤2 H2O≤3 |
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