405nm Plaque CTP violette à impression négative de journal chimique faible

• Personnalisation: Disponible
• Matériel: Aluminium
• Utilisation: Impression d′Offset
• N° de Modèle.: Ecoo -V
• Type: plaque ctp violette
• Style: Négatif
• sensibilité aux essais: 405 nm
• énergie d′exposition: 50 uj/centimètre carré
• insoleuse de plaques: insoleuse de plaques violet
• révélateur recommandé: imaf nega910
• exposer le laser: 405 nm
• modèle similaire: pro-v, n95-vcf
• Paquet de Transport: emballage standard pour exportation
• Spécifications: 510 x 400 x 0,15 (mm)
• Marque Déposée: eoo
• Origine: Chine
• Code SH: 370130
• Capacité de Production: 500, 000m2

Description de Produit

                         Plaque CTP violette basse chimie pour impression de journaux offset
 

Spécifications techniques  de

Ecoo-V est une plaque CTP écologique photopolymère violet à faible teneur en produits chimiques pour  l'impression de journaux. Il s'agit d'une sorte de plaque spécialisée pour les CTP violets pour  l'impression de haut niveau, qui peut être numérisée par laser 410nm contrôlé par ordinateur, et

monté sur la presse pour l'impression après préchauffage, rinçage, développement, etc

La plaque est appliquée avec de nombreuses technologies les plus récentes, comme un excellent  substrat d'aluminium rugueux, une conception de formulation haute résolution et une technologie de revêtement multicouche avancée. Ces technologies de pointe garantissent la qualité et la stabilité de la propriété.

Plaque CTP violette à faible teneur chimique
 

Type de plaque	ECOO V
Fonctionnalités	Plaque violette à faible teneur chimique et à fonctionnement négatif, peut également fonctionner comme une plaque violette normale
Application	Journal
Substrat	Substrat d'aluminium anodisé à grain électrochimique
Jauge	0.20/0.25/0.30/0.40mm
Plaque de réglage	Dispositif de réglage de plaque violet par voie directe existant
Processeur	Les procédés traditionnels de transformation des violets et les procédés de transformation des violets à faible teneur en produits chimiques
Développeur	FUJI LP. DWS. Agfa PL. 10. IMAF NEGA 910 ; GOMME PVD
Traitement	Réglage de la température de préchauffage 90-100ºC(température de surface de la plaque) Pour FUJI LP-DWS : température du révélateur 25-26ºC/temps d'arrêt 16-17 secondes pour Agfa PL-10 : température du révélateur 24ºC/temps d'arrêt 17 secondes
Sensibilité spectrale	405 nm
Énergie laser	50-60  μj/cm²
Résolution	150 lpi (2-98%), en dessous de 1800 dpi, ligne de 25 μm peut être produite
Produits chimiques	Finisseur PVG
Préchauffez	95-121ºC
Température de développement	24±2ºC
Temps de développement	20 s
Longueur de course	200,000 impressions non cuites ; 500,000 impressions cuites
Durée de conservation	12 mois dans les conditions de stockage recommandées
Stockage	Température: 18-26ºC humidité relative: 30-70% HR
Avantages	Respect de l'environnement----- aider  les entreprises  à  se développer Des   performances de développement stables,  compatibles  avec  divers  types  de  développeurs, réduisent   les investissements en équipements  et   les coûts de maintenance

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