Application: | printing |
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Forme: | Appartement |
Alliage: | Non-alliage |
certificat: | ASTM, JIS, FR, ASTMB |
Technique: | anodized and coated |
Qualité: | 1000 Series |
Fournisseurs avec des licences commerciales vérifiées
Haomei société production et fonctionnement positif HDP-I plaque PS, négatif plaque PS (HDN), thermique CTP (HLR), Haomei de plaque PS avec structure de sable composite, bonne hydrophilicité, Rough guide gaz, photosensible rapide, tirage, points clairs, etc
Le système de plaques PS fait partie d'une gamme complète de films, de numérisations, d'épreuves numériques, de plaques et de produits d'imagerie conçus pour augmenter votre productivité. Toutes nos usines étant certifiées ISO 9000, vous pouvez vous attendre à une homogénéité d'un produit à l'autre, d'une boîte à l'autre, d'un lot à l'autre. De plus, toutes les plaques sont fabriquées dans l'usine de pointe de haomei
Graphique positif HMP -i version PS utilisé impression couleur; HMP - II livres et journaux utilisés; HMP -III est adapté pour l'épreuvage de plaque, graphique négatif version PS, l'utilisation de faible développement de base, développement rapide; Bonne stabilité, taux de durabilité élevé, taux de résistance élevé, peut atteindre plus de 200000,pour les journaux, les processus d'agent commercial tels que l'impression, mais après exposition pour améliorer encore la force de résistance.
Épaisseur de l'aluminium |
0.15-0,3 mm |
Etat alliage d'aluminium |
1050H18 |
Rugosité de surface |
0.5-0,65 μm |
Masse par unité de surface de la couche d'oxyde |
2.0-3,5g/m2 |
Masse par unité de surface de la couche sensible |
2.0-2,5g/m2 |
Quantité d'exposition |
140-200mj/m2 |
Reproduction de points |
2-98% |
Définition |
8 μm |
Dernsity de Piaae surstotfi couleur de fond |
<0.01 |
Taux d'anti-impression |
50,000-100,000 impressions |
Période de stockage |
L8mois, ombragé, contre l'humidité, contre la chaleur |
Conditions de dépôt |
Temperature30°C,humiditérelative 65°C,hauteur de pile 1,5 M. |
UV CTP spécifications techniques | |
Type de plaque | Plaque offset positive pour la fabrication de plaques UV-CTP |
Application | Tous les types de machine CTCP |
Substrat | Aluminium anodisé à grain électrochimique |
Epaisseur | 0,15 mm-0,30 mm |
Largeur maximale de grain court | 1 500 mm |
Sensibilité spectrale | Lampe UV 350 nm Laser UV 365-375 nm et 405-410 |
Compatibilité du dispositif de réglage de plaque | Luscher Xpose ! UV, Basysprint UV-Setter, Cron UVP etc |
Bougies chauffe-plat | Filtre UV ou jaune |
Sensibilité | 60 mj/cm2 |
Développement | Conductivité : min . 55 ms, max . 65 ms. Température : 20-25 degrés PH13.00-13.10 |
Développeur | Révélateur de plaque offset positif commun |
Reproduction de points | 1 %--99 % 200 lignes/pouce |
Couleur de l'image finale | Vert |
Durée de conservation | 12 mois lors qu'ils sont stockés dans un endroit sans lumière , à l'abri du froid, de la chaleur et de l' humidité |
Longueur de course | 0,30 mm au-dessus de 100, 000 ( la longueur réelle du tirage peut varier en fonction des conditions de presse, d'encre et de stock . |
Fournisseurs avec des licences commerciales vérifiées