OEM Chine 99.995% Diborane de haute pureté dans l′azote (B2H6/N2) - 47L Cylindre

• Personnalisation: Disponible
• N ° CAS.: 115-25-3
• Formule: c4f8
• EINECS: 7783-82-6
• Constituant: Air pur industriel
• Standard Grade: Grade électronique
• Propriété chimique: Gaz non inflammable
• Paquet de Transport: tt, y-cylinder, t-drum, camion-citerne
• Spécifications: 20 l, 40 l, 280 l et personnalisable
• Marque Déposée: kaimei
• Origine: Suzhou
• Code SH: 2812190091
• Capacité de Production: 600t/an

Description de Produit

L'Octafluorocyclobutane est un agent de gravure.  
Caractéristiques: Gaz incolore avec odeur de moisi caractéristique. Très oxydant à des températures élevées,
peut ensuite enflammer les matières organiques. Densité du gaz plus lourde que l'air (2.4).

Spécification du produit
 

Nom du produit	Octafluorocyclobutane
Type de produit	C4F8
Pureté	n5.0
Spéc. Cylindre	44L
Contentes de remplissage (20 °C)	50kg
Pression de remplissage  (20 °C,-5 %)	2.74 bar
Type de soupape	DISS 716
Applications	Le champ des semi-conducteurs est utilisé dans le processus de séchage du plasma, comme isolant de gaz pour les équipements électriques et électroniques, comme liquide de refroidissement et réfrigérant.

Informations sur la société :
Suzhou Kaimei Electronic Material  Co., Ltd est doté d'un personnel formé, combine de nombreuses années d'expérience dans l'industrie du gaz. Nous fournissons du gaz en bouteille, du gaz électronique, etc., et le support de gaz, le panneau, les vannes et les raccords et d'autres équipements, pièces et services d'ingénierie à nos clients en Chine et dans le monde entier ; Les produits sont impliqués dans divers domaines industriels, tels que la puce à semi-conducteurs, la cellule solaire, la LED, TFT-LCD, la fibre optique, Verre, laser, médecine , etc., notre mission est de s'associer à nos clients mondiaux pour fournir un support, des solutions et des produits de qualité innovants, fiables et sûrs.
Nos produits incluent principalement : H2, O2, N2, AR, CO2, Propane, acétylène, hélium, gaz mélangé au laser,  SiH4, Sih2cl2, SiHCl3, SiCl4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, gaz doping mixte (TMB, PH3, B2H6) et autres gaz électroniques.

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