Gaz d′hélium de haute pureté 99.999% 5n

Détails du Produit
Personnalisation: Disponible
N ° CAS.: 7783-82-6
Formule: il
Membre Diamant Depuis 2018

Fournisseurs avec des licences commerciales vérifiées

Fournisseur Audité Fournisseur Audité

Audité par une agence d'inspection indépendante

Année de Création
2016-08-18
Nombre d'Employés
7
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Info de Base

N° de Modèle.
He
EINECS
7783-82-6
Constituant
Air pur industriel
Standard Grade
Grade électronique
Propriété chimique
Gaz non inflammable
Paquet de Transport
vérin en y.
Spécifications
20 l, 40 l, 470 l
Marque Déposée
kaimei
Origine
Suzhou, China
Code SH
2812190091
Capacité de Production
1000 t/an

Description de Produit

Hélium : généralement un gaz incolore et inodore, c'est la seule substance qui ne peut pas guérir à la pression atmosphérique standard. L'hélium est l'élément le moins réactif. Il est principalement utilisé comme gaz de protection, fluide de travail du réacteur nucléaire refroidi par gaz et réfrigérant cryogénique. Caractéristiques :  
Contaminants Caractéristiques techniques
Oxygène ≤1.0 ppm
Eau ≤3.0 ppm
Hydrogène ≤1.0 ppm
Azote ≤2.0 ppm
Hydrocarbures totaux sous forme de méthane ≤0.5 ppm
Monoxyde de carbone ≤0.5 ppm
Dioxyde de carbone ≤0.5 ppm
Informations sur la société : Jiangsu Kaimei Electronic Material Co., Ltd est doté d'un personnel formé, combine de nombreuses années d'expérience dans l'industrie du gaz. Nous fournissons du gaz en bouteille, du gaz électronique, etc., et le support de gaz, le panneau, les vannes et les raccords et d'autres équipements, pièces et services d'ingénierie à nos clients en Chine et dans le monde entier ; Les produits sont impliqués dans divers domaines industriels, tels que la puce à semi-conducteurs, la cellule solaire, la LED, TFT-LCD, la fibre optique, Verre, laser, médecine , etc., notre mission est de s'associer à nos clients mondiaux pour fournir un support, des solutions et des produits de qualité innovants, fiables et sûrs. Nos produits incluent principalement : H2, O2, N2, AR, CO2, Propane, acétylène, hélium, gaz mélangé au laser, SiH4, Sih2cl2, SiHCl3, SiCl4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, gaz doping mixte (TMB, PH3, B2H6) et autres gaz électroniques.

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