• Pulvérisation fabricant de haute pureté cible 3N5 4N 4N5 ta cible cible de pulvérisation au tantale
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Pulvérisation fabricant de haute pureté cible 3N5 4N 4N5 ta cible cible de pulvérisation au tantale

Protection: Resistance to Corrosion, High Melting Point
Usage: Alloys, Electronics
Shape: Round
Concentrate or Not: 99.95%
Paquet de Transport: Wooden Box
Spécifications: customized

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Membre Diamant Depuis 2018

Fournisseurs avec des licences commerciales vérifiées

Évaluation: 5.0/5
Société Commerciale

Info de Base.

N° de Modèle.
Tantalum Sputtering Target
Marque Déposée
ZX. TIG
Origine
Shaanxi, China
Code SH
8103909090
Capacité de Production
60000t/a

Description de Produit

Nom du produit   Feuille de tantale ,fil de la tige de tantale, le tantale, de tantale target,tantale fleuret ,tantale creuset/éCrou/boulon/cap/tasse/astuce etc.
MatéRiel   Pure tantale et alliage de tantale
Grade R05200 R05252 R05400
Standard ASTMB 365 ASTM B708   ASTM B521
Processus LaminéàFroid, laminéS, filéS àChaud
CaractéRistique Point de fusion : 2996ºC / Point d'éBullition : 5423ºC
La densité 16.65g/cm3
Sputtering Target Manufacturer High Purity 3n5 4n 4n5 Ta Target Tantalum Sputtering Target
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