N ° CAS.: | 7440-59-7 |
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Formule: | He |
EINECS: | 231-168-5 |
Constituant: | He |
pureté: | 99.999 % |
cylindre: | 40 l/47 l. |
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La spécification | Cylindre:40L/47L soupape:G5/8/ CGA580/ DISS718 : pression de 13,5 MPa/ 13,5 MPa |
L'application | 1. Dans l'industrie des semiconducteurs, l'hélium est utilisé comme gaz de protection pour la formation de germanium et transistors en silicium;
2. Dans la technologie spatiale, il est utilisé pour le remplacement du système de remplissage d'hydrogène liquide, source d'extrusion de satellite et la roquette, source de gaz et réfrigérateur à hélium pour le contrôle automatique du moteur ;
3. Utilisé pour le gaz liquide de refroidissement et de gaz Thermomètre en réacteur nucléaire.
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