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Petit aspirateur pour plasma, Etcher pour produits électroniques, aspirateur pour machine de traitement de surface à plasma

Service après-vente: en ligne
Garantie: 1 an
Type: petit aspirateur à plasma
Poids: 0-100Kg
Source D′Énergie: AC220V
Paquet de Transport: Plywood Case

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Membre Diamant Depuis 2023

Fournisseurs avec des licences commerciales vérifiées

Société Commerciale

Info de Base.

N° de Modèle.
LRGD-10
Spécifications
250mm *75mm *270mm (L*W*H)
Marque Déposée
LONROY
Origine
Chine
Code SH
9024800000
Capacité de Production
200pieces/Month

Description de Produit

Petit aspirateur à plasma, Etcher pour produits électroniques, traitement de surface à plasma sous vide machine
Paramètre de produit
Nom du produit Aspirateur à plasma
Modèle du produit GD-10
Alimentation 220 V CA (±10 V)
Alimentation 100 w-300 w.
Taille de la cavité (mm) 560X550X400 mm (L X P X H)
Fréquence de fonctionnement 40 KHZ et 13.56 MHz (en option)
Pression de la source d'air 2-2.5 kg
poids 100 kg
Utiliser du gaz Azote, oxygène, azote, air
Longueur de connexion

2 m à 4 m

Small Vacuum Plasma Cleaner, Etcher for Electronic Products, Vacuum Plasma Surface Treatment Machine
Petit aspirateur à plasma, Etcher pour produits électroniques, traitement de surface à plasma sous vide machine
Caractéristiques fonctionnelles

Modification de la surface du produit
La modification de l'équipement plasma de Fangrui peut réduire efficacement le influencer les facteurs de prétraitement matériel de 95%

Activation de la surface du produit
Le taux d'activation de surface des matériaux prétraités avec Fangrui le matériel plasma est de 98%

Nettoyage des surfaces du produit
La modification de l'équipement plasma de Fangrui peut réduire efficacement le influencer les facteurs de prétraitement matériel de 95%

Collage de surface de produit
L'adhérence de la surface du matériau a été améliorée de 92 % En utilisant l'équipement plasma Fangrui

Application de plusieurs industries
Convient à 95 % de l'industrie, compatibilité élevée
Industrie automobile
Industrie de la fabrication de téléphones mobiles
Industrie de l'impression et de la teinture de textiles
Industrie de l'emballage des semi-conducteurs
Industrie lourde
Nouvelle industrie énergétique
Champ FBC/PCB
Industrie médicale

Petit aspirateur à plasma, Etcher pour produits électroniques, traitement de surface à plasma sous vide machine
Tout d'abord, les avantages de la machine de nettoyage à aspiration d'équisération

Par rapport aux procédés traditionnels, la technologie de traitement de surface du plasma présente les avantages suivants :
[Fonction forte] : la modification se produit uniquement à la surface du matériau (quelques à des dizaines de nanomètres), sans modifier les propriétés inhérentes de la matrice
Pour donner une ou plusieurs nouvelles fonctions ;
[Application large] : quel que soit le type de substrat de l'objet de traitement, tel que le métal, le plastique, le verre, les matériaux polymères, etc., peuvent être traitées;
[Facile à utiliser] : processus simple, facile à utiliser, contrôle de production solide et stabilité élevée;
[Haute efficacité] : temps de traitement court, taux de réaction élevé, bonne uniformité du traitement;
[Économie d'énergie, protection de l'environnement] : tout le processus de traitement à sec, pas de consommation de ressources en eau, pas besoin d'ajouter des agents chimiques, pas de pollution.
Deux, présentation du produit
RD-10 la machine de nettoyage à plasma sous vide est une chambre de réaction sous vide qui peut tourner la machine de nettoyage à 360°, largement utilisée dans la production de petits lots d'entreprises ou d'universités pour la recherche scientifique. L'ensemble de la machine est compact, stable, à l'effet de traitement uniforme et stable, à un coût élevé, la chambre de réaction sous vide peut pivoter de 360°, 360° sans traitement d'angle mort des produits granulés et des petits produits irréguliers.
1. Composition de l'équipement
La machine de nettoyage au plasma est composée d'une chambre de réaction (également appelée chambre à vide), d'un système de vide, d'un système de décharge, d'un système de commande électrique, d'un système de contrôle du débit d'admission.
La chambre de réaction est constituée d'une chambre à vide et d'une électrode, qui est un espace de réaction de plasma. Les éléments à traiter sont placés dans la chambre de réaction. Le système de vide est composé d'un manomètre à vide, d'une pompe à vide et d'un tuyau de vide, qui est chargé de purifier l'air dans la chambre de réaction et de maintenir un degré de vide approprié pendant le fonctionnement. Le système de décharge fournit le signal et l'énergie à la chambre de réaction pour stimuler l'ionisation du gaz de réaction dans la chambre pour former le plasma nécessaire. Le système de commande électronique a pour fonction de contrôler le processus de fonctionnement de l'équipement en fonction des paramètres et étapes optimaux du processus et de maintenir la stabilité des paramètres du processus ; le système de commande du débit d'admission est principalement composé de débitmètres de masse et de soupapes électromagnétiques. Sa fonction est de contrôler avec précision le débit d'admission du gaz de réaction et de maintenir le vide requis pendant la période de travail.
Le dispositif utilise un écran tactile + automate programmable PLC, les paramètres de traitement peuvent être réglés arbitrairement sur l'écran tactile, avec fonction de commutation manuelle/automatique. Le fonctionnement automatique adopte "un type de clé", et le processus de travail est entièrement contrôlé automatiquement par l'ordinateur. Le fonctionnement manuel est effectué par l'utilisateur sur l'interface du mode manuel.

 
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numéro Type d'élément Paramètre spécifique
1 Générateur de plasma

Fréquence intermédiaire 40 kHz puissance de fréquence intermédiaire 100 ~ 300 W.
Equipé d'un panneau de commande à écran tactile importé, pour répondre aux besoins de l'utilisateur

2 Logiciel de contrôle de réaction plasma La technologie Fang Rui a développé un logiciel propriétaire V1.0

Commande entièrement automatique du système

3 Chambre à vide Taille interne de la cavité : Φ210*300mm
Matériau de la chambre : matériau en acier inoxydable 304
4 Chambre de réaction à vide

Taille interne de la cavité : Φ160*230mm

Matériau de la chambre : matériau en acier inoxydable 304

5 électrode

Conception de la structure d'électrode cylindrique.

Volume de réaction : 5L

6 Pompe à vide

Pompe à vide à palettes rotatives bipolaires à débit direct : 14,4 m3/h.

Vide limite: 6*10-2Pa puissance: 0.55KW

7

Tuyaux et composants

Tuyau de vide : tuyau annelé de vide en acier inoxydable 304

Composants de la conduite de gaz de travail : flexible transparent PVC + 304 connecteurs en acier inoxydable pour garantir un fonctionnement efficace et la fiabilité de l'équipement.

8 Jauge de vide Tableau d'affichage numérique Panasonic japonais
9 Contrôle des gaz Gaz de procédé 2 voies, commande d'électrovanne, réglage manuel mécanique 0.1 ~ 1 NL/min
10 Gaz de procédé plasma Prendre en charge deux gaz de procédé : argon, oxygène (argon, oxygène, azote, hydrogène, tétrafluorure de carbone en option)
11 Mode de contrôle 4.3 « ecran tactile de commande industrielle, affichage en temps réel de l'état de fonctionnement
12 Durée d'aspiration Pression 30 s < 50 Pa
13 Système de coupure sous vide

Electrovanne + silencieux

Temps de coupure du vide : 30 s.

14

Temps de traitement unique

1-30 minutes (selon les caractéristiques du produit, les paramètres d'alimentation et de durée sont différents)
15 Matériau de l'électrode Électrodes en acier inoxydable 304 personnalisées
16 Autres paramètres

Alimentation : AC220V(±10V)

Taille de la machine : W700×D640×H475 mm (pour référence)

Poids de la machine : 55 kg

Machine : peinture antirouille de haute qualité

17 Plage de vitesse du moteur <10 tours /min

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