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Film four de recuit en verre photovoltaïque

Marque Déposée: minderhightech
Origine: Guangdong

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Membre Diamant Depuis 2017

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Info de Base.

N° de Modèle.
MD-H0711
Code SH
848620900
Capacité de Production
50 Set/ Month

Description de Produit

Film Photovoltaic Glass Annealing Furnace

Le four de frittage à couche épaisse  est largement utilisé dans les produits suivants à 1100 ºC dans l'atmosphère protectrice ou l'air dans le pré-brûlage, la combustion ou le traitement thermique, y compris la pâte conductrice, la résistance et les médias épais circuit diélectrique de lisier, résistances, condensateurs, inducteurs et autres composants électroniques l'argent de combustion, le tir, le boîtier de circuit, cristal et autres composants du système de chauffage de l'isolant de verre et du traitement thermique du métal. Conception de zone de température de four isolation sophistiquée, ultra-légère, contrôle intelligent de régulateur à boucle unique, avec chauffage rapide, contrôle de température haute précision, uniformité et fiabilité de la température, économie d'énergie et autres caractéristiques, universités, instituts de recherche, usines et entreprises recherche de produits et en vrac l'équipement idéal pour la production.

 

La technologie à couche épaisse est utilisée pour fabriquer des pièces électroniques uniques comme des résistances et des condensateurs, des circuits hybrides, des éléments de chauffage, des capteurs et des systèmes d'affichage. Les matériaux de substrat sont les céramiques (Al2O3, AlN, BeO2, ZrO2), le verre, PCB, métaux couverts par une couche isolante (acier émaillé en porcelaine) et têtes d'impression thermiques. Le matériau à couche épaisse peut être basé sur du verre, DU CERMET, des polymères ou des composés organométalliques à faible fusion.
Les couches de film épais sont généralement déposées par impression écran. Dans certains cas, ils sont structurés par photolithographie aussi.
La pâte à film épais contient des liants et des solvants. La première étape est un pré-séchage pour éliminer les solvants. Une procédure d'allumage spéciale doit ensuite être effectuée afin de retirer les liants et d'obtenir les paramètres souhaités. Il y a deux choses importantes : le profil de température et le débit de gaz. Le profil température-temps est donné par les fournisseurs de pâte de film épais.
Il existe des profils standard pour les pâtes CERMET parmi les nombreux processus spéciaux, différents par un temps total de traitement thermique de 30 à 60 minutes. Ces profils ont un plateau à 850°C pendant 10 minutes. Pendant le chauffage jusqu'à 600 °C, le liant brûle. La zone du four où cela se produit est appelée zone de dysfonctionnement.

Après la gravure, le film est tiré jusqu'à 850 °C afin d'obtenir les données électriques et mécaniques appropriées. Enfin, les films traités doivent refroidir. Un four à couche épaisse est équipé d'un système de débit d'air spécial. Le liant évaporé doit être aspiré, afin de maintenir la zone d'allumage exempte de toute contamination. Tout l'air d'alimentation doit être très propre, particulièrement exempt d'huile et d'eau (point de rosée inférieur à -50°C).
 

modèle MD-H0711
Température max 1050ºC Vitesse du convoyeur 30 mm (1.2 po-8 po)/min
Température de débit 900 deg. c Largeur totale du système 1 200 mm/47"
Largeur de la courroie ≤1000 mm Longueur totale du système 6905 mm/272"
Hauteur du tunnel 300/450/600mm Hauteur totale du système 1350mm/53"
Longueur de chauffage 3150 mm/124" Temp. Type Uniformité +/-3 deg. c
Longueur de refroidissement 1905 mm/75 po Poids net 1 200 kg
Zones de contrôle 7 à 11 Pièce de rechange 1 jeu de carte de chauffage, 1 relais statique
Température
uniformité de
coupe transversale
± 2ºC Atmosphère Air/azote
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