• Laboratoire 2 pouces plasma pulvérisation magnétron RF paraffineuse pour des films minces Non-Conductive
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Laboratoire 2 pouces plasma pulvérisation magnétron RF paraffineuse pour des films minces Non-Conductive

After-sales Service: 1 Year
Warranty: 1 Year
Spécifications: 610mm length*420mm wide*490mm high
Marque Déposée: minder-hightech
Origine: Guangzhou

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Membre Diamant Depuis 2017

Fournisseurs avec des licences commerciales vérifiées

Info de Base.

N° de Modèle.
SD650M
Code SH
8015809090
Capacité de Production
200PCS/Yearpcs/Year

Description de Produit

Vide élevé Ion Teinteuse pulvérisation magnétron  (DC / RF modèle)
 Modèle SD 650

   Nous les fournitures / offre un haut vide Ion Teinteuse pulvérisation magnétron (DC / RF modèle) qui est idéal et conçu pour la science des matériaux et de la préparation des échantillons. Il est largement utilisé pour la majorité des universités et instituts de recherche scientifique de la science des matériaux et du génie à enduire, pour les métaux, céramiques, semi-conducteurs, d'isolants ou d'autres types de matériel membranaire préparation.
   Vide élevé Ion Teinteuse pulvérisation magnétron fournit à l'environnement de pulvérisation plus stables et qui réalise les conditions expérimentales de base de pulvérisation magnétron dans une très courte période de temps. Il fournit des DC / RF deux types de pulvérisation pulvérisation options d'alimentation qui permettent aux conducteurs ou substance non conductrices sur spécimen et améliore la déposition physique de vapeur (PVD) les performances. Il est également excellent pour le traitement de surface et le revêtement. Il est facile à utiliser et convivial ainsi.
Lab 2 Inch RF Plasma Magnetron Sputtering Coater for Non-Conductive Thin FilmsLab 2 Inch RF Plasma Magnetron Sputtering Coater for Non-Conductive Thin FilmsLab 2 Inch RF Plasma Magnetron Sputtering Coater for Non-Conductive Thin FilmsLab 2 Inch RF Plasma Magnetron Sputtering Coater for Non-Conductive Thin FilmsLab 2 Inch RF Plasma Magnetron Sputtering Coater for Non-Conductive Thin Films
pompe à vide et le refroidisseur sont inclus.

Spécifications techniques

Ensemble de pompe à vide

(L'huile nécessaire)Rotary d'huile de pompe à vide +() Turbo MolecularPump jeu gratuit

Vitesse de pompage rotatif

50 Hz:16m3/h (4,4 L/s) / 60 Hz∶19.2m3/h (5,2 L/s)

Vitesse de pompage moléculaire

300 L/s

Limite d'aspiration

5*105Pa

Pression de travail

0,5- 5 Pa

L'aspiration de l'heure

> 10 min (10-3Pa)

Mesure de dépression

Plage de mesure de l'atmosphère à 10-6Pa

Contrôle de gaz

Contrôleur de débit de gaz

La taille de chambre

Φ260*200mm (hauteur) Métal

Magnétron Source Cible

Le format cible φ50 *3mm (Cu)l source cible : Substance magnétique faible / Matériaux

Méthode de fonctionnement

Manuel d'instruction

Poids / taille

100kg / Longueur 610mm x 420mm de large x 490mm de haut

L'alimentation

AC 110V 60 Hz ou AC 220V 50 Hz

La consommation électrique

<300ow

Méthode de refroidissement

(Pompe de refroidissement par air) + ( Pulvérisation de refroidissement à eau cible )

La garantie

Un an de garantie limitée à vie support produit

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