Tétrafluorure de carbone, tétrafluorométhane, R14, CF4 gaz

• Personnalisation: Disponible
• N ° CAS.: 75-73-0
• Formule: cf4
• N° de Modèle.: 99.9%
• EINECS: 200-896-5
• Constituant: Air pur industriel
• Standard Grade: Grade Industriel
• Propriété chimique: Gaz non inflammable
• numéro onu: 1982
• nom d′expédition: tétrafluorométhane
• classe de danger: 2.2
• étiquette: gaz ininflammable
• description générale: gaz incolore/ininflammable
• fichier mol: 75-73-0.mol
• Paquet de Transport: cylindre
• Spécifications: 1,603g/cm3 (-128º c) 27.330(cm·mol)
• Marque Déposée: rm/oem
• Origine: Qingdao, China
• Code SH: 2826199090
• Capacité de Production: 1000 pièces par mois

Description de Produit

Application de SF4 :
le tétrafluorure de carbone est actuellement la plus grande quantité de gaz de gravure plasmatique dans l'industrie de la microélectronique. Il s'agit d'un mélange de gaz de haute pureté et d'oxygène de haute pureté de tétrafluorure de carbone. Il peut être largement utilisé dans la gravure de silicium, de dioxyde de silicium, de nitrure de silicium, de verre de silicium phosphoreux et de matériaux de film de tungstène.
Pour les systèmes au silicium et au dioxyde de silicium, la sélectivité de 45:1 peut être obtenue en ajustant le rapport des deux gaz lors de l'utilisation de la gravure ionique réactive de cf4-h2, ce qui est très utile pour la gravure du film de dioxyde de silicium sur la grille de silicium polycristallin.

Il est également largement utilisé dans le nettoyage de surface des dispositifs électroniques, la production de cellules solaires, la technologie laser, l'isolation en phase gazeuse, la réfrigération cryogénique, l'agent de test de fuite, contrôle de l'attitude de la fusée spatiale et du détergent dans la production de circuits d'impression.

 COA du gaz CF4

Élément	Index
CF4, %(V/V)≥	99.999	99.995	99.99
N2, 10-6(V/V) ≤	4	20	40
O2, 10-6(V/V) ≤	1	5	10
CO2, 10-6(V/V) ≤	1	5	10
CO, 10-6(V/V) ≤	0.3	0.5	1
SF6, 10-6(V/V) ≤	1	1	5
H2O, 10-6(V/V) ≤	1	5	10
HF, 10-6(V/V) ≤	0.1	0.3	0.3
TFC(CH2F2,CHF3,C2F3,C3F8),10-6(V/V) ≤	1	10	30
Teneur totale en impuretés, ppm (V/V) ≤	10	50	100

Spécification CF4

Paramètre Dosage critique	Unité	Société Spécifications	Analyse Résultats	Méthode d'analyse
Tétrafluorométhane (CF4)	%(v/v)	99.999 % min	> 99.999 %	G.C
Oxygène (O2)	v.ppm	<1.0	<0.2	G.C
Azote (N2)	v.ppm	<1.0	<0.6	G.C
Monoxyde de carbone (CO)	v.ppm	<0.5	<0.2	G.C
Dioxyde de carbone (CO2)	v.ppm	<0.5	<0.2	G.C
Hexafluorure de soufre (SF6)	v.ppm	<0.2	<0.1	G.C
Trifluorométhane (CHF3)	v.ppm	<0.5	<0.1	G.C
Autres halocarbures (OFC)*	v.ppm	<1.0	<0.7	G.C
Hydrocarbure total (THC)*	v.ppm	<0.5	<0.1	G.C
Humidité (H2O)	v.ppm	<0.5	<0.2	Analyseur d'humidité
Acidité (HF)	v.ppm	<0.1	<0.08	Analyseur d'acidité
Contenu total de l'impureté	v.ppm	≤10.0	<10.0	G.C
Particale (> 0,1 μm)	pcs/litre	<10.0	<1.0	ICP-MS

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