Prix de gros d′usine haute pureté 10L 6kg 99.9% CF4 gaz

• Personnalisation: Disponible
• N ° CAS.: 75-73-0
• Formule: cf4
• N° de Modèle.: 99.9%
• EINECS: 200-896-5
• Constituant: Air pur industriel
• Standard Grade: Grade Industriel
• Propriété chimique: Gaz non inflammable
• numéro onu: 1982
• nom d′expédition: tétrafluorométhane
• classe de danger: 2.2
• étiquette: gaz ininflammable
• description générale: gaz incolore/ininflammable
• fichier mol: 75-73-0.mol
• Paquet de Transport: cylindre
• Spécifications: 1,603g/cm3 (-128º c) 27.330(cm·mol)
• Marque Déposée: rm/oem
• Origine: Qingdao, China
• Code SH: 2826199090
• Capacité de Production: 1000 pièces par mois

Description de Produit

Application de SF4 :
Tétrafluorure de carbone est la plus grande quantité de gravure au plasma de gaz dans l'industrie microélectronique à présent. Il est un mélange de gaz de haute pureté et de haute pureté tétrafluorure de carbone d'oxygène. Il peut être largement utilisés dans la gravure de silicium, dioxyde de silicium, de nitrure de silicium silicium, de phosphore en verre et matériaux de film de tungstène.
Pour les systèmes de silicium et de dioxyde de silicium, la sélectivité de 45:1 peut être obtenu en réglant le ratio des deux gaz lorsque l'aide de la gravure ionique réactive de CF4-H2, qui est très utile pour la gravure sur le dioxyde de silicium film sur le silicium polycristallin gate.

Il est également largement utilisé dans le nettoyage de surfaces d'appareils électroniques, de la production de cellules solaires, la technologie laser, l'isolement de la phase gazeuse, de réfrigération cryogéniques, test de fuite, de contrôle de l'agent de l'espace rocket attitude, et de détergent dans le circuit d'impression de production.

 L'ACO de CF4 ESSENCE

Le point	Index
CF4, %(V/V)≥	99.999	99,995	99.99
N2, 10-6(V/V) ≤	4	20	40
O2, 10-6(V/V) ≤	1	5	10
Le CO2, 10-6(V/V) ≤	1	5	10
CO, 10-6(V/V) ≤	0,3	0,5	1
SF6, 10-6(V/V) ≤	1	1	5
H2O, 10-6(V/V) ≤	1	5	10
HF, 10-6(V/V) ≤	0,1	0,3	0,3
TFC(CH2F2,CHF3,C2F3,C3F8),10-6(V/V) ≤	1	10	30
Total la teneur en impuretés, ppm (v/v) ≤	10	50	100

Spécification de CF4

Le paramètre Essai de critique	Unité	Company La spécification	L'analyse Les résultats	Méthode d'analyse
Tetrafluoromethane (CF4)	%(V/V)	99.999% Min	>99,999 %	G.C
L'oxygène(O2)	V.ppm	<1,0	<0,2	G.C
L'azote(N2)	V.ppm	<1,0	<0,6	G.C
Le monoxyde de carbone(CO)	V.ppm	<0,5	<0,2	G.C
Le dioxyde de carbone(CO2)	V.ppm	<0,5	<0,2	G.C
Hexafluorure de soufre (SF6)	V.ppm	<0,2	<0,1	G.C
Trifluorométhane(CHF3)	V.ppm	<0,5	<0,1	G.C
D'autres halocarbures)*(OFC	V.ppm	<1,0	<0,7	G.C
D'hydrocarbures totaux (THC)*	V.ppm	<0,5	<0,1	G.C
L'humidité(H2O)	V.ppm	<0,5	<0,2	Analyseur d'humidité
L'acidité(comme HF)	V.ppm	<0,1	<0,08	Analyseur d'acidité
Contenu total de l'impureté	V.ppm	≤10.0	<10.0	G.C
Particale(>0.1μm)	Pcs/litre	<10.0	<1,0	ICP-MS

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