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Nous pouvons produire des cibles en cuivre de pureté et d'exigences diverses avec une pureté de 99.9% à 99.9999%. La teneur en oxygène peut être inférieure à <1 ppm. Il est principalement utilisé pour le câblage de l'écran d'affichage et de l'écran tactile et son film protecteur, la couche d'absorption de la lumière solaire, le câblage des semi-conducteurs, etc. Industrie. En plus de répondre aux besoins des clients en matière de cibles plates (la plus grande génération G8,5), nous pouvons également produire des cibles tournantes en cuivre, principalement utilisées dans l'industrie de l'écran tactile. Les grains de cristal de la cible de cuivre de haute pureté sont difficiles à briser. Nous ne pouvons contrôler la croissance du cristal que par un traitement de déformation très large pour obtenir une microstructure fine et uniforme, afin de garantir que le revêtement de pulvérisation peut obtenir un taux d'érosion plus faible et réduire la sensibilité à la formation de particules pendant le pulvérisation. La figure suivante montre deux images d'inspection métallographique microscopique types de cibles d'exsuquage de cuivre, avec une taille moyenne de particules < 50 μm.
Application :
Les impuretés présentes dans la cible d'pulvérisation de cuivre réduisent la conductivité du matériau, et les éléments d'impureté sont le principal facteur qui affecte le rendement dans la production de films semi-conducteurs. Les impuretés sous forme de titane, de phosphore, de calcium, de fer, de chrome et de sélénium sont particulièrement critiques. Ces métaux sont très faibles dans nos cibles de cuivre et leur teneur en impuretés est bien inférieure à la valeur standard requise par les clients. Le tableau suivant est le certificat d'analyse de composition de la cible de pulvérisation de cuivre de haute pureté 4N.
Les méthodes d'analyse utilisées sont les suivantes :
1. Utiliser le GDMS ou l'ICP-OES pour analyser les éléments métalliques ;
2. Utiliser LECO pour l'analyse des éléments gazeux.
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