Équipement de revêtement par pulvérisation magnétron haute précision pour laboratoire système de revêtement métallique

• Personnalisation: Disponible
• Service après-vente: service en ligne
• Garantie: un an
• N° de Modèle.: Made-to-order
• Type: Ligne de Production de Revêtement
• Revêtement: Revêtement sous Vide
• Substrat: Acier
• Certificat: CE
• État: Nouveau
• étape d′échantillonnage: dia. 100 mm
• température de chauffage: max. 500 ºc
• vitesse de rotation: 1-30rpm Adjustable
• matériau de la chambre: quartz haute pureté
• Paquet de Transport: boîtier en bois
• Spécifications: personnalisé
• Marque Déposée: rj
• Origine: Zhengzhou, China

Description de Produit

Système de pulvérisation magnétron Dual-Target de bureau
(Co-Sputtering système modulaire pour le dépôt Thin-Film avancée)

 

Spécifications clés

L'organe	Paramètres
Stade de l'échantillon	- Diamètre : 100-150mm - Chauffage : ≤500°C (±1°C) - Rotation : réglable de 1-20 tr/min
Magnétron cibles	- Quantité : 2× 2 pouces - : Refroidis par eau de refroidissement (10L/min de débit)
La chambre à vide	- Dimensions : Φ219mm × 280 mm (acier inoxydable) - Fenêtre de visualisation : fenêtre de quartz φ40mm - Chargement : avant/haut-ouverture design avec  obturateur rotatif pour la cible de la commutation
L'alimentation	- DC + RF : 1×300W (maxi), ≤600V, temps de réponse <5ms
Système de refroidissement	- Réservoir d'eau : capacité de 9L, 10L/min de débit
Moniteur d'épaisseur	- Précision : 0.1Å (facultatif, refroidis par eau)
Pompe à vide	- Primaire : pompe rotative à ailettes (1,1 l/s) - Secondaire : Turbo pompe moléculaire (60L/s, l'import-grade) - Ports : KF40 (d'admission), KF16 (sortie)
Général	- Alimentation : AC 220V, 50Hz, 4.5kW total

 

Fonctionnalités

1. Dépôts multicouche
   • Double-co-pulvérisation cible avec obturateur mécanique pour le dépôt d'impulsion/séquentielle.
   • Étape de rotation garantit film chauffé l'uniformité (p. ex., pour l'oxyde en alliage d/piles).
2. Performances High-Vacuum
   • Chambre en acier inoxydable (pression de base <10^-5 Pa avec recommandé de la pompe).
   • Compact de Classe d'importation turbo minimise l'encombrement de la pompe tout en conservant 60L/s de vitesse.
3. Contrôle de processus
   • En option  Surveillance épaisseur en temps réel (0.1Å résolution).
   • La conception à chargement frontal avec fenêtre au quartz pour l'observation in situ.

 

Les applications

• Electronics:/films métalliques conductrices (p. ex., l'UA, Al, Cu).
• Optique : Anti-reflet revêtements/IR.
• La recherche : SEM multicouche des échantillons, des films minces de céramique (avec la puissance RF).

 

Notes techniques

• Pompe non inclus - Compatible avec pompes moléculaires turbo importés (p. ex., Pfeiffer HiPace 80).
• Extensible : Ajouter pulsed DC ou la puissance RF supplémentaires pour la pulvérisation réactive.

 

Pourquoi choisir ce système ?
 Space-Saving : Conception de bureau (optimisé pour les laboratoires avec un espace limité).
 Flexible : changer de cible de dépôt sans briser le vide.
 Industrial-Grade Précision : ± 1 °C la commande de température, de la pompe rapide vers le bas.
Pour les configurations OEM (p. ex., 4-systèmes cible), contacter notre équipe technique.

 

*Remarque : Toutes les spécifications de se conformer à la norme ISO 9001. Les collecteurs de gaz personnalisé (p. ex., 4 canaux MFC) disponibles sur demande.