Pièces en graphite pour implantation d′ions de semi-conducteurs et décapage au plasma

• Type: Graphite Parts
• Composition: C
• Teneur en carbone: 99.9995
• Grade: Customization
• Formant Way: Graphite Isostatique
• Morphologie cristalline: Artificial Graphite
• Paquet de Transport: Wooden Case
• Marque Déposée: SIAMC
• Origine: China
• Code SH: 681519

Description de Produit

Les produits en graphite de SIAMC sont largement utilisés dans les équipements d'implantation ionique et de gravure au plasma en raison de leur excellente résistance à la chaleur, de leur conductivité thermique, de leur faible teneur en impuretés et de leur résistance à la corrosion par les faisceaux d'ions.
Dans l'implantation ionique, le graphite de haute pureté est utilisé dans les tubes de vol, les fentes diverses, les électrodes, les couvercles d'électrodes, les conduits, et terminateurs de faisceau. Ces composants doivent être résistants à la corrosion causée par les faisceaux d'ions.
Dans le cas de la gravure au plasma, les composants de la chambre de réaction au plasma sont exposés au gaz de gravure, ce qui peut entraîner une contamination et une corrosion. Cependant, le graphite est résistant à la corrosion dans des conditions de travail extrêmes telles que le bombardement ionique ou le plasma, ce qui en fait un matériau idéal pour les composants d'équipement de gravure au plasma, tels que les électrodes en graphite.
Les produits en graphite de haute qualité de SIAMC offrent d'excellentes performances et une fiabilité exceptionnelle pour l'implantation ionique et le décapage au plasma, garantissant ainsi la qualité et l'efficacité du traitement des semi-conducteurs.