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Tetrafluorideis un réfrigérant cryogénique de carbone qui est relativement inerte dans des conditions normales, un oxygène displacer, et est également utilisée dans les divers procédés de gravure de wafer.
CF4 est actuellement le plus largement utilisé la gravure au plasma de gaz dans l'industrie microélectronique. Il peut être largement utilisés dans la gravure de films minces de matériaux tels que le silicium, dioxyde de silicium, de nitrure de silicium, phosphosilicate de verre et de tungstène et de nettoyage en surface d'appareils électroniques et des cellules solaires. Il est également largement utilisé dans la production de la technologie laser, l'isolement de la phase gazeuse, de réfrigération à basse température, les agents de détection de fuite, le contrôle de l'attitude des fusées spatiales et la décontamination des agents dans la production de circuits imprimés.
En raison de la stabilité chimique tétrafluorure de carbone, tétrafluorure de carbone peut être utilisé dans les fonderies de métaux et des industries en plastique
Spécifications :
| Spécifications | Norme d'entreprise |
| CF4 | ≥ 99,999 % |
| O2+AR | ≤ 1 ppm |
| N2 | ≤ 2 ppm |
| H2 | ≤ 0,3 ppm |
| CO | ≤ 0,3 ppm |
| Le CO2 | ≤ 0,3 ppm |
| SF6 | ≤ 0,3 ppm |
| Le THC | ≤ 0,3 ppm |
| OFC | ≤ 1 ppm |
| L'humidité | ≤ 1 ppm |
Q : Quelles sont les principaux points de vente de produits? TAIYU
R : Nous avons principalement de gaz de spécialité d'alimentation et de gaz d'équipements.
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Chengdu Taiyu Gaz Industriels Co., Ltd
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