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Graphite pour implantation ionique dans la fabrication de semi-conducteurs

Type: Graphite Mold
Composition: Carbon
Carbon Content: High-Carbon
Grade: Industrial Grade
Forming Way: Isostatic Graphite
Crystal Morphology: Compact Crystalline Graphite

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Fabricant/Usine

Info de Base.

N° de Modèle.
TJLZZR001
densité en vrac
1.8g/cm3-1.85g/cm3
application
Ion Implantation
résistance à la flexion
No Less Than 45 MPa
stregnth compressif
pas moins de 60 mpa
pureté
élevée
Paquet de Transport
Carton, Plywood Case or as Customers′ Requirement.
Spécifications
can be customized
Origine
China
Code SH
6815190090
Capacité de Production
500000 PCS/Month

Description de Produit

Graphite for Ion Implantation in Semiconductor Manufacturing
Les produits en graphite jouent un rôle indispensable dans de nombreux processus de production de semi-conducteurs, tels que : croissance à un cristal, implantation d'ions ou gravure au plasma, processus de production de puces à LED. Ces procédés doivent être utilisés dans un environnement à haute température et hautement corrosif, et les produits en graphite doivent être d'une grande pureté et d'une précision absolue. Le système de chauffage du four à cristal unique Czochralski utilise un grand nombre de matériaux en graphite, et les produits en graphite sont également utilisés comme outils et composants auxiliaires dans le traitement des plaquettes semi-conductrices (y compris la fusion de zones, l'épitaxie et le traitement de formes); Le graphite est également un matériau indispensable dans la production de matériaux polysilicium pour les plaquettes de silicium semi-conducteurs.
 

 

L'implantation ionique est un processus complexe et sensible utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs. Pour un fonctionnement réussi, la pureté du faisceau et la stabilité du processus sont importantes. Ici, les pièces en graphite jouent un rôle essentiel. Dans l'ensemble, le coût total de l'entretien du système peut être réduit lorsque des matériaux conventionnels sont remplacés par des matériaux de meilleure qualité et des alliages spécifiques au procédé.

Le graphite est principalement utilisé dans les faisceaux d'implanteurs d'ions. Les propriétés thermiques, chimiques, électriques et mécaniques de ces matériaux sont essentielles pour améliorer la durée de vie du système.

Nous utilisons du graphite spécialisé purifié avec des particules de taille ultra-fine pour produire des composants en graphite pour l'implantation ionique.



Toutes les tailles et formes peuvent être personnalisées. Nous pouvons produire de l'accordign à dessin à partir de cusotomères.  



Graphite for Ion Implantation in Semiconductor Manufacturing
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Emballage sûr :  

Graphite for Ion Implantation in Semiconductor Manufacturing
Large application de graphite :  
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