Application: | Wafer /Sapphire Polishing |
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Material: | 99.7% Alumina |
Type: | Ceramic Disc |
Paquet de Transport: | Carton and Wooden Case. |
Spécifications: | D180, 360, 450, 600mm customized size |
Marque Déposée: | Chemshun Ceamics |
Fournisseurs avec des licences commerciales vérifiées
99,7%Al2O3 de l'alumine substrat comme matériau de haute pureté et le nouveau matériau de grande taille, il a d'excellentes propriétés physiques et chimiques stables caractères, le bon prix comparez avec d'autres matériaux. L'alumine de haute pureté est toujours poursuivi le développement par le Sommet mondial de recherche et de céramiques de pointe et les usines de céramique fine. Farcera 99,7%d'alumine de produits de la série de la céramique utilisée principalement dans l'industrie semi-conducteurs comme le panneau de meulage de CMP processus, long de grande taille de l'alumine substrat en céramique utilisés dans l'écran LCD et la lithographie de l'industrie comme la céramique de bord.
Nous vous présentons ici Chemshun 99,7 % de l'alumine de haute pureté wafer/plaque de polissage de saphir utilisés dans le processus de CMP de l'industrie des semi-conducteurs.
Application :
Comme l'alumine plaquette en céramique de polissage et le saphir clapotis disques utilisés dans la semi-conducteurs, polissage de diamants etc.
Processus : tous les types de processus de polissage et le rodage, tels que le polissage mécanique chimique CMP, le polissage mécanique, de précision le polissage.
Fonctionnalité :
Haute pureté et de durabilité chimique
Haute résistance mécanique et la dureté
Haute résistance à la corrosion
Résistance haute tension
Résistant aux hautes températures jusqu'à 1700ºC
Des performances extrêmement à l'abrasion
Excellente isolation performante
Tous les types de taille 180,360, 450, 600 mm etc
Nom du produit | 99,7 alumine haute pureté clapotis de polissage des disques en céramique |
Matériel | 99,7 % de l'alumine |
La taille normale | D180, 360, 450, 600mm, taille personnalisée accepté. |
La couleur | L'ivoire |
L'application | Galette et saphir processus CMP dans l'industrie semi-conducteurs |
Min.L'ordonnance | 1Pic |
Unité | 99,7 l'alumine céramique | ||
Propriétés générales | Teneur en Al2O3 | Wt% | 99.7-99.9 |
La densité | Gm/cc | 3.94-3.97 | |
La couleur | - | L'ivoire | |
Absorption d'eau | % | 0 | |
Propriétés mécaniques | Résistance en flexion(MOR) 20 ºC | Mpa(psix10^3) | 440-550 |
Module élastique 20ºC | GPa (psix10^6) | 375 | |
Dureté Vickers | Gpa(kg/mm2) R45N | >=17 | |
Résistance en flexion | Gpa | 390 | |
Résistance à la traction de 25ºC | MPa(psix10^3) | 248 | |
La ténacité (K I C) | Mpa* m^1/2 | 4-5 | |
Properities thermique | Conductivité thermique(20ºC) | W/mk | 30 |
Coefficient de dilatation thermique(25-1000ºC) | 1x 10^-6/ºC | 7.6 | |
Résistance aux chocs thermiques | ºC | 200 | |
Température d'utilisation maximale | ºC | 1700 | |
Properities électrique | Rigidité diélectrique (1MHz) | Ac-kv/mm(ac v/mil) | 8.7 |
La constante diélectrique(1 MHz) | 25ºC | 9.7 | |
Résistivité transversale | Ohm-cm (25ºC) | >10^14 | |
Ohm-cm (500ºC) | 2x10^12 | ||
Ohm-cm (1000ºC) | 2x10^7 |
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