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Fournisseur Audité Équipement de revêtement de dépôt laser pulsé LAB PLD
L'équipement de la série PLD est principalement utilisé pour la culture de cristaux optiques, de ferroélectricité, de ferroaimants, de superconducteurs et de matériaux à couche mince composés organiques, particulièrement adapté à la croissance de matériaux à couche mince superlatorces complexes avec un point de fusion élevé, multi-éléments et contenant des éléments gazeux.
L'équipement peut être divisé en cinq parties selon la structure d'apparence : chambre de dépôt PLD, système de mesure de vide, système de pompage à vide, établi et armoire de commande électrique.
2.1 Chambre de dépôt PLD
Structure sphérique de chambre à vide, taille Φ450mm, en acier inoxydable 1Cr18Ni9Ti, soudage à l'arc par argon, traitement mat par jet de verre en surface. Le taux de fuite de vide est inférieur à 5.0×10-8Pa.I/S. L'interface est scellée avec un joint métallique ou un anneau en caoutchouc fluoré, et un cylindre Φ220 sous la chambre à vide est installé sur la surface de travail. La bride à lame du CF150 est connectée en dessous et la vanne de porte manuelle du CF150 est connectée. Brancher l'ensemble de tuyau de dérivation CF150 et brancher le système de pompe moléculaire 620. Devant la chambre à vide, il y a une porte scellée en caoutchouc avec une fenêtre d'observation, d'un diamètre de Φ150mm, qui est utilisée pour l'entrée et la sortie des échantillons et le remplacement et la maintenance des matériaux cibles. Installer la plate-forme cible rotative sur le côté gauche de la fenêtre d'observation. Installer la table de chauffage d'échantillon directement en face de la table cible rotative. Sur le même plan horizontal que la plate-forme cible rotative, à un angle de 135°, deux fenêtres d'observation d'incident d'un diamètre de Φ100mm sont disposées. Equipé de quartz infrarouge et ultraviolet. Au-dessus de la chambre à vide se trouve une opération d'un diamètre de Φ100mm et deux fenêtres d'observation de test. Il existe également deux ports à bride de rechange CF35 pour les mises à niveau d'équipement. Le corps de la chambre à vide est équipé d'une jauge de résistance, d'une jauge d'ionisation, d'une vanne d'angle de pré-pompage manuelle KF40, d'une vanne de purge manuelle Φ10 et d'une électrode d'éclairage de cuisson CF35.
2.1.1 étage cible rotatif
1). Quatre cibles peuvent être installées une fois, de la taille de la cible : (i) Φ60mm~Φ25mm ;
2). Chaque matériau cible peut effectuer une rotation automatique, la vitesse est de 5-50 tr/min, réglable en continu et contrôlé par le mécanisme d'accouplement magnétique entraîné par le moteur pas-à-pas ;
3). Le mécanisme de transposition du régime de la position cible est contrôlé par un mécanisme d'accouplement magnétique entraîné par un moteur pas-à-pas.
4). Le capot de protection de la cible protège les trois cibles et une seule cible est exposée à des projections pour former un film à la fois afin d'éviter une contamination croisée entre les cibles.
2.1.2 échantillons de composants de l'étage de chauffage
1). Taille du substrat : Φ60mm, peut placer des échantillons Φ10mm-Φ60mm, adopter la méthode de fixation mécanique et remplacer l'échantillon en remplaçant le couvercle du substrat;
2). La température maximale de chauffage de l'échantillon est de 800 ºC±1 ºC ; elle est contrôlée par un retour en boucle fermée du thermocouple ; (des réchauffeurs spéciaux peuvent être faits pour la recherche d'oxyde)
3). Le substrat peut tourner en continu, la vitesse est de 5 à 50 tr/min, ce qui est complété par un moteur pas à pas qui entraîne le mécanisme de l'arbre ;
4). La distance entre la cible et le substrat peut être réglée à 20 mm, ce qui est complété par le mécanisme de réglage manuel des soufflets en dehors de la cavité du substrat mobile ;
2.1.3 Accessoires de fenêtre
1). Φ100mm fenêtre en verre de quartz (bande ultraviolette de 248 nm, pour l'incidence laser)
2). Φ100mm fenêtre en quartz (bande infrarouge)
3). Φ100mm fenêtre en verre optique
2).1.4 système de pompage à vide
Équipé d'une pompe moléculaire KYKY-160/620,
Équipé de 1 pompe mécanique 2XZ-8B,
Équipé de tuyaux à soufflets de 4 Ф40.
Équipé d'un clapet de décharge d'air,
Équipé de 2 KF40 avec électrovannes d'angle de dépression de l'électrovanne d'évent,
Équipé de 1 KF40 avec valve d'angle de vide électromagnétique gonflable,
Équipé d'une vanne de porte manuelle CF150,
Équipé de 2 vannes d'angle manuelles CF35,
Équipé d'un ensemble de tamis moléculaire
2.1.5 chemin de vide
Équipé d'un débitmètre massique à deux canaux, étalonnage du gaz N2. 100 SCCM. Entrer par le réservoir de mélange de gaz et par la vanne d'angle manuelle.
2.1.6 système de mesure de vide
Le système de mesure de vide se compose d'un manomètre de mesure et d'un manomètre de vide. La machine est équipée de jauges de résistance à insertion directe et de jauges à ionisation métallique. Mesurer le degré de vide de l'atmosphère ~2x10-5Pa.
2.1.7 atelier
L'établi est composé d'un cadre et d'un cerard. Le rack est le squelette de l'équipement, en installant les pièces de support. Installer le chemin de gaz, la vidange d'eau et d'autres composants à l'intérieur.
2.1.8 armoire de commande électrique
L'armoire de commande électrique est équipée d'une unité de commande à écran tactile, d'un affichage du débit, d'une alimentation de chauffage de substrat, d'une alimentation d'ionisation, d'une alimentation de pompe moléculaire de 620L et d'une alimentation totale.
1). L'unité de contrôle du vide est commandée par l'API + écran tactile qui contrôle le système de pompage à vide, le processus de rotation des échantillons et le système d'éclairage. L'écran tactile est un écran couleur de 7 pouces.
2). Le substrat et l'alimentation de contrôle du chauffage organique sont composés d'un compteur SR3 conducteur. La précision du contrôle de la température est de ±0,5 ºC. La température de chauffage maximale est de 800 ºC.
3). Indicateur de débit une courroie deux.
4). L'alimentation d'ionisation est utilisée pour nettoyer le substrat, 3 kW/1 kW.
5). L'alimentation de la pompe moléculaire FF160/620 contrôle le démarrage, l'arrêt et le fonctionnement de la pompe moléculaire.
6). En bas se trouve le boîtier de la zone d'alimentation principale. Lorsque le commutateur d'air est fermé, l'équipement est sous tension dans son ensemble. Avec alarme de séquence de phase.
Spécifications de la machine de revêtement PLD
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Le vide ultime de la chambre de dépôt de PLD |
Supérieure à 5x10-5Pa |
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Vitesse de pompage de la chambre de dépôt PLD |
Mieux que 7x10-4Pa en 40 minutes |
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Maintien de la pression de la chambre de dépôt PLD |
12 heures <10 pA |
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Chauffage du substrat |
800 ºC |
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Précision du contrôle de la température |
±0,5 ºC |
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Vitesse de déplacement du substrat |
5 à 50 tr/min |
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Position cible |
4 positions |
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Taille du substrat |
Φ60 |
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Alimentation |
Système d'alimentation triphasé à cinq fils ~380 V, puissance < 7 kW |
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Eau de refroidissement |
Volume de circulation > 15 l/min, température de l'eau de refroidissement : 15 °C à 30 °C. |
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Température de l'environnement de travail |
10 ºC~40 ºC |
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Humidité de l'environnement de travail |
30 %~60 % |
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Espace au sol |
2 000 x 2 500 mm |
Q. êtes-vous fabricant ou société de commerce?
R. nous sommes des fabricants professionnels d' instruments de laboratoire, nous disposons d'une équipe et d'un atelier de R&D professionnels, qui peuvent vous garantir la qualité et le service après-vente.
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