• Cratère de pulvérisation Magnetron Target simple DC de 4 pouces pour Film d′oxyde
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Cratère de pulvérisation Magnetron Target simple DC de 4 pouces pour Film d′oxyde

After-sales Service: on-Line Service
Warranty: One Year
Type: pulvérisation de magnétron
Revêtement: Revêtement sous Vide
Substrat: Acier
Certificat: CE

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Membre d'Or Depuis 2023

Fournisseurs avec des licences commerciales vérifiées

Henan, Chine
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Aperçu

Info de Base.

N° de Modèle.
TN-MSP360G-1DC
État
Nouveau
nom du produit
Magnertron Sputter Coater
méthode de revêtement
pulvérisation de magnétron
Target Power
500 w cc
taille de la chambre
213*307mm
taille du substrat
100 mm
Substrate Heating
Max. 500c
taille cible
2 pouces
alimentation
ca 220 v.
pompe à palettes rotative
1,1l/s.
Turbo-Molecular Pump
600 l/s
Paquet de Transport
Fumigated Wooden Box
Spécifications
550*350*500mm
Marque Déposée
TN
Origine
China
Capacité de Production
20 Sets Per Month

Description de Produit

Description du produit

PULVÉRISATION DE MAGNÉTRON : VUE D'ENSEMBLE

L'pulvérisation est un processus de dépôt à base de plasma dans lequel les ions énergétiques sont accélérés vers une cible. Les ions frappent la cible et les atomes sont éjectés (ou pulvérisés) de la surface. Ces atomes se déplacent vers le substrat et s'intègrent dans le film en croissance.

Cible magnétron 4 pouces Câleur de pulvérisation magnétron DC à cible unique pour film d'oxyde

L' équipement de craquage à crachats magnétron c.c. à cible unique est un équipement de revêtement à crachats magnétron économique, dont les recherches et le développement sont indépendants par notre entreprise. Il a les caractéristiques de la normalisation, de la modularisation et de la personnalisation.  Les cibles magnétron peuvent être sélectionnées de 1 pouce, 2 pouces et 3 pouces, et les clients peuvent choisir selon la taille du substrat plaqué ; l'alimentation est une alimentation c.c. haute puissance de 1 500 W, qui peut être utilisée pour le revêtement de pulvérisation métallique haute énergie. Selon les exigences expérimentales, les alimentations CC ou RF d'autres spécifications peuvent également être sélectionnées pour réaliser des opérations de revêtement de divers matériaux.


4-Inch Magnetron Target Single Target DC Magnetron Sputtering Coater for Oxide Film

Paramètres du produit

Spécifications du cratère de crapules magnétron  
 

Cratère de pulvérisation magnétron c.c. à cible unique

Exemple

Tableau

Dimensions hors tout

φ 360 mm

Régime réglable

réglable de 1 à 20 tr/min

 Cible

Plan cible

Cible du plan circulaire

Vide de pulvérisation

0,1 Pa à 3 Pa

Diamètre cible

100 à 101,6 mm

Epaisseur cible

3 mm

Tension d'isolation

> 2000V

Spécifications des câbles

SL-16

 

 

Température cible de la tête

<= 65 ºC

Vide

chambre

Traitement de la paroi interne

Polissage électrolytique

Taille de l'empreinte

Φ500mm x 500 mm

Matériau de la cavité

acier inoxydable 304

Fenêtre de visualisation

Fenêtre en quartz, φ100mm de diamètre

Méthode d'ouverture

Ouverture latérale

Gaz

contrôle

Contrôle de débit

Débitmètre massique, plage de mesure 0 ~ 100 SCCM

Type de gaz

L'argon, l'azote, l'oxygène et d'autres gaz sont disponibles

Types de vannes de régulation

Régulateur à solénoïde

État statique de la soupape de régulation

Fermeture normale

Mesure de la linéarité

Plus ou moins 1.5 % F.S

Précision de répétition de mesure

Plus ou moins 0.2 % F.S

Mesurer le temps de réponse

≤ 8 secondes (T95)

Pression de service

0.3 MPa

Corps résistant à la pression

3 MPa

Température ambiante de fonctionnement

(5 ~ 45) ºC

Matériau du corps

Acier inoxydable 316L

Taux de fuite du corps

1×10-8Pa.m3/s.

Raccords de tuyauterie

1/4 « joints à double paroi

Signaux d'entrée/sortie

0 à 5 V.

Alimentation

±15 V (±5 %) (+15 V 50 mA, -15 V 200 mA)

Dimensions hors tout mm

130 (l) x 102 (H) x 28 (H)

Interface de communication

Protocole MODBUS RS485

Alimentation CC

Alimentation

1 500 W.

 

 

 

 

Film

epaisseur

mesure

Alimentation électrique

CC : courant maximum de 5 V (±10 %) 400 mA

Résolution

±0,03 Hz (5 MHz), 0,0136A/mesure (aluminium)

Précision de mesure

±0.5% d'épaisseur +1 unité

Cycle de mesure

100 ms ~ 1S/ temps (peut être réglé)

Plage de mesure

500,000 A (aluminium)

Fréquence du cristal

6 MHz

Interface de communication

Interface série RS-232/485

Bits d'affichage

Affichage LED 8 bits

Moléculaire

pompe

Vitesse de pompage moléculaire

1 200 L/S.

Vitesse nominale

2 000 tr/min

Valeur de vibration

<= 0.1 um

Heure de démarrage

5 min

Temps d'arrêt

7 min

Méthode de refroidissement

Refroidissement par eau + refroidissement par air

Température de l'eau de refroidissement

<=37 ºC

Débit d'eau de refroidissement

1 l/min

Sens de montage

Vertical ±5.

Interface d'extraction d'air

150 CF

Orifice d'échappement

KF40

Avant

pompe

Débit de pompage

VRD-16

Vide ultime

1 Pa

Alimentation

CA : 220 V/50 Hz

Puissance du moteur

400 W.

Bruit

<=56 db

Interface d'extraction d'air

KF40

Orifice d'échappement

KF25

Soupape

Robinet-vanne

Une vanne de porte est disposée entre la dépression

et la pompe moléculaire

Soupape de coupure

Une soupape de coupure est installée entre le

la pompe moléculaire et le niveau avant

Robinet de vidange latéral

Un robinet de vidange latéral est installé entre le

chambre à vide et étage avant

Vanne de purge

Une soupape de purge électromagnétique est installée

sur la chambre à vide

Vide ultime de toute la machine

<=5X10-4Pa

Cible de test

1 pièce de cible en nickel de 4 pouces de diamètre et épaisseur 3 mm

 

Photos détaillées

1. NOUS avons le macuter de pulvérisation de magnétron avec 1 cible, 2 cibles, 3 cibles, cible peut être conçu en haut ou en bas de
   la chambre.
2. Cible de puissance DC ou RF disponible. La fonction de biais est facultative
3. taille cible : 1 pouce, 2 pouces, 3 pouces, 4 pouces  
4. Une cible magnétique forte et une cible magnétique Pernanent sont facultatives
5. Cratère de pulvérisation de magnétron avec évaporation, faisceau électronique disponible

6. Service personnalisé toujours disponible!

4-Inch Magnetron Target Single Target DC Magnetron Sputtering Coater for Oxide Film

4-Inch Magnetron Target Single Target DC Magnetron Sputtering Coater for Oxide Film

4-Inch Magnetron Target Single Target DC Magnetron Sputtering Coater for Oxide Film4-Inch Magnetron Target Single Target DC Magnetron Sputtering Coater for Oxide Film

Profil de l'entreprise

4-Inch Magnetron Target Single Target DC Magnetron Sputtering Coater for Oxide Film

Emballage et expédition

NOUS pouvons expédier le magnetron cratter coater par terre, par mer, par air, par express, peut également organiser le paquet et l'expédition selon vos besoins.
4-Inch Magnetron Target Single Target DC Magnetron Sputtering Coater for Oxide Film

FAQ

Q. êtes-vous fabricant ou société de commerce?
R. nous sommes des fabricants professionnels d' instruments de laboratoire, nous disposons d'une équipe et d'un atelier de R&D professionnels, qui peuvent vous garantir la qualité et le service après-vente.  

Q. Comment est votre garantie ?
R.  notre garantie est de 12 mois et assure un entretien à vie. Nous fournissons un service en ligne 24 heures sur 24.

Q. combien de temps dure votre livraison ? Si je souhaite personnaliser l'instrument, combien de temps cela prend-il ?
A. 5-10 jours---en magasin. Produits personnalisés---il prend habituellement 30-60 jours selon vos besoins.

Q. alimentation et fiche ?
A. nous pouvons vous fournir des produits conformes à votre norme de tension et de prise locale.

Q. Comment payer?
A.  T T, L / C, D / P, ETC

Q. Comment est le paquet de marchandises? Méthodes de livraison ?
A.  panneau de fumigation standard pour l'exportation emballage de boîtes en bois ou comme vos besoins.

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Fabricant/Usine
Produits Principaux
Evaporation Coater; Film Coater
Nombre d'Employés
13