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Fournisseur Audité L' équipement de craquage à crachats magnétron c.c. à cible unique est un équipement de revêtement à crachats magnétron économique, dont les recherches et le développement sont indépendants par notre entreprise. Il a les caractéristiques de la normalisation, de la modularisation et de la personnalisation. Les cibles magnétron peuvent être sélectionnées de 1 pouce, 2 pouces et 3 pouces, et les clients peuvent choisir selon la taille du substrat plaqué ; l'alimentation est une alimentation c.c. haute puissance de 1 500 W, qui peut être utilisée pour le revêtement de pulvérisation métallique haute énergie. Selon les exigences expérimentales, les alimentations CC ou RF d'autres spécifications peuvent également être sélectionnées pour réaliser des opérations de revêtement de divers matériaux.
L'instrument de revêtement est doté de deux débitmètres de masse de haute précision et les clients peuvent personnaliser le chemin de gaz de quatre débitmètres de masse s'ils ont d'autres exigences pour répondre aux exigences de la construction d'un environnement gazeux complexe ; L'instrument est équipé d'une pompe turbomoléculaire avancée en standard et le vide ultime peut atteindre 1,0E-5Pa. En même temps, d'autres types de pompes moléculaires sont disponibles à l'achat. Le chemin de gaz de la pompe moléculaire est contrôlé par plusieurs électrovannes, qui peuvent ouvrir la cavité pour prélever des échantillons sans éteindre la pompe, ce qui améliore considérablement votre efficacité de travail. Ce produit peut être équipé d'un ordinateur de contrôle industriel intégré pour contrôler le système. Le programme informatique peut réaliser la plupart des fonctions telles que le contrôle du groupe de pompe à vide et le contrôle de l'alimentation électrique de pulvérisation, ce qui peut améliorer encore l'efficacité de votre expérience.
Champ d'application du cratère de pulvérisation magnétron à cible unique :
Le cratère de pulvérisation magnétron c.c. à cible unique peut être utilisé pour préparer des films ferroélectriques monocouches, des films conducteurs, des films en alliage, etc. Par rapport à un équipement similaire, cet instrument de revêtement de pulvérisation magnétron à cible unique est non seulement largement utilisé, mais il présente également les avantages d'une petite taille et d'une utilisation facile. Il s'agit d'un équipement idéal pour la préparation en laboratoire de films minces, et il est particulièrement adapté à la recherche en laboratoire sur les électrolytes solides, les OLED, etc
| Instrument de revêtement par pulvérisation au magnétron DC à cible unique | ||
| Étape d'échantillonnage | Dimensions | φ100mm |
| Plage de chauffage | Température ambiante env. 500 ºC | |
| Vitesse réglable | réglable de 1 à 20 tr/min | |
| magnétique contrôle cible pistolet |
Plan cible | Cible du plan circulaire |
| Vide de pulvérisation | 10 PA~0,2 Pa | |
| Diamètre cible | 50 à 50,8 mm | |
| Epaisseur cible | 2 à 5 mm | |
| Tension d'isolation | > 2000V | |
| Spécifications des câbles | SL-16 | |
| Température cible de la tête | <=65 ºC | |
| réel nul Cavité corps |
Traitement de la paroi interne | Polissage électrolytique |
| Taille de l'empreinte | φ254mm × 300 mm | |
| Matériau de la cavité | acier inoxydable 304 | |
| Fenêtre d'observation | Fenêtre en quartz, diamètre φ100mm | |
| Méthode ouverte | Ouverture supérieure, support auxiliaire de vérin | |
| gaz corps contrôle système |
Contrôle de débit | Débitmètre massique, plage de 0 à 200 SCCM gaz argon |
| Type de distributeur | Electrovanne | |
| État statique du distributeur | Normalement fermé | |
| Mesure de la linéarité | ±1.5% F.S | |
| Répétabilité de la mesure | ±0.2% F.S | |
| Mesure du temps de réponse | ≤ 8 seconde (T95) | |
| Plage de pression de service | 0,3 MPa | |
| Pression du corps de soupape | 3 MPa | |
| Température de fonctionnement | (5 À 45 °C) | |
| Matériau du corps | Acier inoxydable 316L | |
| Taux de fuite du corps de soupape | 1×10-8Pa.m3/s. | |
| Joints de tuyauterie | 1/4″raccord de compression | |
| Signal d'entrée et de sortie | 0 À 5 V. | |
| Alimentation | ±15 V (±5 %) (+15 V 50 mA, -15 V 200 mA) | |
| Dimensions hors tout mm | 130 (largeur) × 102 (hauteur) × 28 (épaisseur) | |
| Interface de communication | Protocole MODBUS RS485 | |
| Alimentation CC | Puissance | 500 W. |
| Tension de sortie | 0 À 600 V. | |
| Longueur de calage | 65000 seconde | |
| Heure de début | 1 à 10 secondes | |
| Mesure de l'épaisseur du film | Alimentation électrique | CC : courant maximum de 5 V (±10 %) 400 mA |
| Résolution | ±0,03Hz(5 MHz),0,0136Å / mesure (aluminium) | |
| Précision de mesure | ±0.5% d'épaisseur + 1 unité | |
| Période de mesure | 100 ms~1S/heure (peut être réglé) | |
| Plage de mesure | 500,000 Å (aluminium) | |
| Fréquence du cristal | 6 MHz | |
| Interface de communication | Interface série RS-232/485 | |
| Afficher les chiffres | Affichage LED à 8 chiffres | |
| Pompe moléculaire | Vitesse de pompage de la pompe moléculaire | 80 L/S |
| Vitesse nominale | 65 000 tr/min | |
| Valeur de vibration | <=0,1 um | |
| Heure de début | <=4,5min | |
| Temps d'arrêt | <7 min | |
| Méthode de refroidissement | Refroidi par air | |
| Température de l'eau de refroidissement | <=37 ºC | |
| Débit d'eau de refroidissement | 1 l/min | |
| Sens d'installation | Vertical ±5° | |
| Orifice d'aspiration | 150 CF | |
| Raccord d'échappement | KF40 | |
| Pompe d'avancement | Débit de pompage | 1,1 L/S (VRD-4) |
| Vide ultime | 5×10-2Pa | |
| Alimentation | CA : 220 V/50 Hz | |
| Puissance | 400 W. | |
| Bruit | <=56 db | |
| Orifice d'aspiration | KF40 | |
| Raccord d'échappement | KF25 | |
| Détendeur de pression | La soupape de décharge d'air à commande pneumatique et électronique est installée sur la chambre à vide | |
| Le vide ultime de toute la machine | <=5×10-4Pa | |
| Taux de suralimentation de la chambre à vide | <=2,5 Pa/h. | |
| Système logiciel | 1 jeu de logiciels de surveillance et de gestion | |
| Cible de test | 2 cibles en cuivre d'un diamètre de 2 pouces et une épaisseur de 3 mm | |
Remarques :
1. Nous avons le cratère de pulvérisation du magnétron avec 1 cible, 2 cibles, 3 cibles, la cible peut être conçue en haut ou en bas de la chambre.
2. Alimentation CC ou cible de puissance RF disponible
3. Un matériau cible différent est facultatif
4. Cible magnétique forte et cible magnétique permanente sont facultatives
5. Le cratère de pulvérisation du magnétron avec source d'évaporation est disponible
6. Service personnalisé toujours disponible!
Q. êtes-vous un fabricant ou une société de commerce?
R. nous sommes des fabricants d'instruments de laboratoire professionnels, disposant de notre propre équipe de conception et de notre usine avec une expérience technique mature, et nous pouvons garantir la qualité des produits et le prix optimal.
Q. Comment est le système de service après-vente de votre entreprise ?
R. la période de garantie du produit est de 12 mois, nous pouvons assurer la maintenance à vie. Nous disposons de services professionnels de pré-vente et d'après-vente qui peuvent vous répondre dans les 24 heures pour résoudre les problèmes techniques.
Q. combien de temps dure votre livraison ? Si je souhaite personnaliser l'instrument, combien de temps cela prend-il ?
A.1. Si les marchandises sont en stock, il est de 5-10 jours. 2. Nous pouvons fournir des services personnalisés pour nos clients. Cela prend généralement 30-60 jours selon les spécifications de l'instrument personnalisé.
Q. l'alimentation et la fiche de notre pays sont différentes. Comment la résoudre ?
R. nous pouvons fournir un transformateur et une prise selon vos besoins locaux, selon la prise électrique des différents pays.
Q. Comment payer?
A.T / T, L / C, D / P, etc., il est recommandé d'utiliser le produit fait dans la garantie commerciale de la Chine.
Q. Comment est le paquet de marchandises? Méthodes de livraison ?
A.1. Panneau de fumigation standard pour exportation emballage en carton en bois 2. Express, air, mer expédition selon les exigences du client, trouver la manière la plus appropriée.
Pour plus de questions, veuillez nous contacter.
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