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Fournisseur Audité Double Target High Vacuum Magnetron craptère pour revêtement diélectrique Film
PULVÉRISATION DE MAGNÉTRON : VUE D'ENSEMBLE
L'pulvérisation est un processus de dépôt à base de plasma dans lequel les ions énergétiques sont accélérés vers une cible. Les ions frappent la cible et les atomes sont éjectés (ou pulvérisés) de la surface. Ces atomes se déplacent vers le substrat et s'intègrent dans le film en croissance.
1. Par rapport à la pulvérisation plasmatique classique, la pulvérisation de magnétron présente les avantages d'une énergie élevée, d'une vitesse élevée, d'un taux de dépôt élevé et d'une faible augmentation de la température de l'échantillon;
Spécifications du cratère de pulvérisation du magnétron :
| Nom du produit | Double cible, cratère de pulvérisation Magnetron | |
| Modèle | TN-MSZ300S-II-DCDC-SS | |
| Vol | 220 V CA, 50 Hz | |
| Puissance totale | 6 KW | |
| Vide du système | <=5×10-4Pa | |
| Etape d'échantillonnage | Taille | φ150mm |
| Température de chauffage | <=500 ºC | |
| Précision | ±1 ºC | |
| Vitesse de rotation | 0 à 20 tr/min, réglable | |
| Pistolet à pulvérisation | Taille cible | Φ50.8mm, épaisseur <=3 mm |
| Refroidissement | Refroidissement par eau | |
| Débit | 10 l/min | |
| Chambre à vide | Taille de la chambre | φ500*500mm |
| Matériau de la chambre | SUS304 | |
| Obervation | φ100mm | |
| Ouverture | Toit ouvert | |
| Système de gaz | Débitmètre massique unidirectionnel, AR-200SCCM | |
| Système de vide | Système de pompe moléculaire--600L/s. | |
| Epaisseur du film | Moniteur d'épaisseur de film en quartz, fréquence 0.10 Å | |
| Puissance de pulvérisation | Alimentation DC du fer à piquer 500W*1, alimentation RF 300W*1 | |
| Connexion | API+écran tactile | |
| Taille totale | 1090*900*1250mm | |
| Poids | 350 kg | |
1. NOUS avons le cratère de pulvérisation du magnétron avec 1 cible, 2 cibles, 3 cibles, 4 cibles, etc. La cible peut être conçue en haut ou en bas de la chambre.
2. Une alimentation CC de 0 à 1 000 W ou une cible de puissance RF est disponible. La fonction de biais est facultative.
3. Taille cible : 1 pouce, 2 pouces, 3 pouces, 4 pouces, etc
4. Cible magnétique forte et cible magnétique permanente sont facultatives.
5. Cratère de pulvérisation de magnétron avec évaporation, E-Beam est disponible.
6. Service personnalisé toujours disponible!
Zhengzhou Tainuo film Materials Co., Ltd. Est une entreprise complète qui intègre la conception, la recherche et le développement, la production et la vente.
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