Équipement de dépôt chimique en phase vapeur à plasma à cathode chaude en courant continu pour film polycristallin

Détails du Produit
Service après-vente: 12 mois
Garantie: 12 mois
Type: Ligne de Production de Revêtement
Membre d'Or Depuis 2023

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Info de Base

N° de Modèle.
TN-DCCVD
Revêtement
Revêtement sous Vide
Substrat
Acier
Certificat
CE
État
Nouveau
système d′alimentation en gaz
débitmètre de gaz
pompe moléculaire
600 l/s
longueur du tube
1 000 mm
longueur de la zone de chauffage
300 mm
four à tube sous vide
passer l′aspirateur dans un tube en aluminium de haute pureté
précision de mesure
+-0.2%
pompe à palettes rotative
1,1l/s.
vide ultime
1,0e-5pa
température de fonctionnement
0-1450c
diamètre du tube
60mm
Paquet de Transport
emballage de boîte en bois pour panneau de fumigation standard pour exportation
Marque Déposée
tn
Origine
Henan China
Code SH
8486209000
Capacité de Production
220/mois

Description de Produit

 

Equipement de dépôt de vapeur chimique à courant continu à plasma à cathode chaude (DMVD) Pour la croissance du diamant à cristal unique

 
Description du produit

L'équipement de dépôt de vapeur chimique à courant continu à plasma à cathode chaude (DMVD) est développé sur la base de la décharge de lueur à cathode froide conventionnelle et est principalement utilisé pour le dépôt et la croissance de cristaux simples de diamant ou de film polycristallin.

La zone de composition et les caractéristiques de base de la décharge de la cathode chaude :

La décharge luminescente de l'équipement de dépôt de vapeur chimique à courant continu de plasma à cathode chaude peut être divisée en quatre zones le long de l'axe de la cathode à l'anode : couche luminescente de la cathode, zone sombre de Faraday, bille de plasma à lueur de colonne positive et couche luminescente de l'anode. Parmi eux, la couche de lueur de la cathode est une mince couche d'émission de lumière près de la cathode, où se produit la décharge énorme d'onde, qui joue un rôle important dans le processus de décharge de la lueur; la zone sombre de Faraday est la zone de transition entre la zone de la cathode et la zone de la colonne positive. Les électrons entrent en collision dans la région de la cathode et perdent de l'énergie, et les électrons lents ne suffisent pas à provoquer l'ionisation et l'excitation, de sorte qu'ils présentent une zone sombre qui n'émet pas de lumière; La bille de plasma phosphorescent dans la zone de la colonne positive est à la position la plus évidente de la décharge luminescente, et sa largeur est autour de la cathode, l'espacement de l'anode est d'environ 4/5, et la longueur change avec le changement de l'anode et l'espacement de la cathode; par rapport à la zone de la colonne positive, la couche de lueur de l'anode émet une lumière légèrement plus sombre.
 

La cathode chaude, la haute pression de gaz et la haute densité de courant sont les caractéristiques de base de la décharge de la cathode chaude qui sont différentes de la décharge de la cathode froide conventionnelle. Pendant la décharge, il existe une distribution de l'intensité, de la couleur et de la luminosité de la lueur entre les électrodes, qui sont divisées en quatre zones évidentes. La décharge de la lueur couvre toute la surface de la cathode, et la tension de décharge augmente avec l'augmentation du courant de décharge; l'émission d'électrons de la cathode est combinée par l'émission thermique et le processus γ, et le degré de polarisation entre les deux est principalement déterminé par la température de la cathode; La zone de chute de la cathode est de maintenir la lueur la partie indispensable de la décharge de la lumière, l'épaisseur de cette zone est très mince, il ya une forte chute potentielle, ainsi la force de champ dans cette zone est très élevée, et de générer une décharge énorme d'onde. La densité actuelle de la décharge de la lueur de la cathode chaude est beaucoup plus grande que celle de la décharge de la lueur de la cathode froide.


 
Paramètres du produit

eposition   chambre

Couche intermédiaire refroidie par eau en acier inoxydable

Concevoir la taille de cavité appropriée en fonction   de la taille de l'électrode pour s'assurer qu'il n'y a pas de décharge entre la cavité    et l'électrode

Ouvrir la cavité

Soulevez pour ouvrir la cavité ou ouvrez la porte   avant, ce qui est pratique pour le lissage et le nettoyage

Fenêtre d'observation

Configurez plusieurs fenêtres d'observation pour vous assurer   que la cathode, l'anode et la table de dépôt peuvent être observées

   Système de vide

Pompe à vide

Le vide est pompé par une pompe mécanique, pas besoin   de configurer la pompe moléculaire

Vide ultime

0.1 à 1 Pa

Temps d'arrêt de la pompe

5 à 15 min

Réglage de l'évent

Assurez-vous que le pompage est uniforme

Plage de réglage de la pression d'air

0,1 Pa~30 KPa

Détendeur de pression

Peut être restauré à l'atmosphère

Jauge de vide

Le manomètre à vide haute précision mesure avec précision   la valeur de pression du cavité

Système de distribution de gaz

Configuration de la source d'air

5 sources de gaz d'hydrogène, de méthane, d'azote,   d'argon et d'oxygène, avec un autre réservé à la sauvegarde

Contrôle du débit de gaz

Le débit volumique est contrôlé par MFC et un débitmètre   avec une plage appropriée est sélectionné en fonction de la taille de la cavité.    Des débits différents affectent le temps de montée de pression.  En général, le débit d'hydrogène : méthane :   azote : argon : oxygène est de 40:1:40:1

Réglage de l'admission d'air

Réglage raisonnable de l'entrée d'air pour garantir   l'uniformité de l'entrée d'air

Système de refroidissement par eau

Puissance du refroidisseur d'eau

La puissance de refroidissement et la tête du refroidisseur d'eau doivent   correspondre à la génération de chaleur de l'équipement et au débit d'eau de refroidissement, et   la température doit être réglable, généralement réglée à environ 20 °C.

Soupape

La chambre de dépôt, la cathode et l'anode doivent toutes   être refroidies, et un séparateur d'eau doit être installé, et   des vannes manuelles sont placées à l'entrée et à la sortie de chaque branche du séparateur d'eau.

Température de fonctionnement

La température de fonctionnement de l'anode est de 600 à 1100ºC, la température de fonctionnement de la cathode est de 700 à 1100ºC

Puissance

Tension de fonctionnement

600 à 1 200 V, tension de sortie réglable

Courant de travail

6 À 15 A.

Système de commande

1)   contrôle du débit de gaz ;

2)   commande de levage d'électrode, affichage en temps réel de la distance de la cathode et de l'anode,   précision du contrôle 1 mm ;

3)   surveillance et affichage de la température de la cathode, de l'anode et du substrat;

4) certaines   fonctions peuvent être réglées manuellement, comme la pression d'air ;

5) alarme de défaut   pour éviter  tout dysfonctionnement ;

Électrode

1) le   diamètre de l'anode est de 60 mm et le matériau est le cuivre

2) le   diamètre de la cathode est de 80 à 100 mm et le matériau est le molybdène. Après   une utilisation à long terme, le carbone est facile à déposer sur la surface de la cathode et   la décharge est instable. Par conséquent, il doit être conçu comme une   structure remplaçable;

3) la   distance entre la cathode et l'anode est réglable, la plage est de 10 à 60 mm,   la distance est affichée en temps réel et la précision de réglage est de 1 mm ;

4) les   bords de la cathode et de l'anode peuvent être arrondis pour empêcher la décharge de bord;

5) l'   anode peut être négativement polarisée et la plage de tension de polarisation est comprise entre 0 et 400 V.

6) le bord   de l'électrode est isolé pour empêcher la décharge du bord ;

 
 

 
Photos détaillées

 

Hot Cathode Direct Current Plasma Chemical Vapor Deposition Equipment (DCCVD) for Polycrystalline FilmHot Cathode Direct Current Plasma Chemical Vapor Deposition Equipment (DCCVD) for Polycrystalline Film



 
Profil de l'entreprise

 


Hot Cathode Direct Current Plasma Chemical Vapor Deposition Equipment (DCCVD) for Polycrystalline FilmHot Cathode Direct Current Plasma Chemical Vapor Deposition Equipment (DCCVD) for Polycrystalline FilmHot Cathode Direct Current Plasma Chemical Vapor Deposition Equipment (DCCVD) for Polycrystalline FilmHot Cathode Direct Current Plasma Chemical Vapor Deposition Equipment (DCCVD) for Polycrystalline FilmHot Cathode Direct Current Plasma Chemical Vapor Deposition Equipment (DCCVD) for Polycrystalline FilmHot Cathode Direct Current Plasma Chemical Vapor Deposition Equipment (DCCVD) for Polycrystalline FilmHot Cathode Direct Current Plasma Chemical Vapor Deposition Equipment (DCCVD) for Polycrystalline Film
FAQ

Q. êtes-vous un fabricant ou une société de commerce?

R. nous sommes des fabricants d'instruments de laboratoire professionnels, nous avons leur propre équipe de conception et leur propre usine, nous avons une expérience technique mature et nous pouvons garantir la qualité des produits et le prix optimal.

Q. Comment est le système de service après-vente de votre entreprise ?
R. la période de garantie du produit est de 12 mois, nous pouvons assurer la maintenance à vie. Nous disposons de services professionnels de pré-vente et d'après-vente qui peuvent vous répondre dans les 24 heures pour résoudre les problèmes techniques.

Q. combien de temps dure votre livraison ? Si je souhaite personnaliser l'instrument, combien de temps cela prend-il ?
A.1. Si les marchandises sont en stock, il est de 5-10 jours. 2. Nous pouvons fournir des services personnalisés pour nos clients. Cela prend généralement 30-60 jours selon les spécifications de l'instrument personnalisé.

Q. l'alimentation et la fiche de notre pays sont différentes. Comment la résoudre ?
R. nous pouvons fournir un transformateur et une prise selon vos besoins locaux, selon la prise électrique des différents pays.

Q. Comment payer?
A.T / T, L / C, D / P, etc., il est recommandé d'utiliser ****** Trade Guarantee.

Q. Comment est le paquet de marchandises? Méthodes de livraison ?
A.1. Panneau de fumigation standard pour exportation emballage en carton en bois 2. Express, air, mer expédition selon les exigences du client, trouver la manière la plus appropriée.

Pour plus de questions, veuillez me contacter.
 

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