• Lab Desktop Double Target Magnetron Spoutering Coater avec 2 DC Puissance
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Lab Desktop Double Target Magnetron Spoutering Coater avec 2 DC Puissance

After-sales Service: on-Line Service
Warranty: One Year
Type: pulvérisation de magnétron
Revêtement: Revêtement sous Vide
Substrat: Acier
Certificat: CE

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Membre d'Or Depuis 2023

Fournisseurs avec des licences commerciales vérifiées

Henan, Chine
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Aperçu

Info de Base.

N° de Modèle.
TN-MSP300S-2DC
État
Nouveau
nom du produit
Dual Target Magnertron Sputtering Coater
méthode de revêtement
pulvérisation de magnétron
Target Power
500 w cc
taille de la chambre
300*300mm
taille du substrat
140 mm
Substrate Heating
<500c
taille cible
2 pouces*2
alimentation
ca 220 v.
pompe à vide
600 l/s
matériau de la chambre
ss304
Paquet de Transport
Fumigated Wooden Box
Spécifications
600*650*1080mm
Marque Déposée
TN
Origine
China
Capacité de Production
20 Sets Per Month

Description de Produit

Lab Desktop Double Target Magnetron Spoutering Coater avec 2 DC Puissance

Description du produit

PULVÉRISATION DE MAGNÉTRON : VUE D'ENSEMBLE

L'pulvérisation est un processus de dépôt à base de plasma dans lequel les ions énergétiques sont accélérés vers une cible. Les ions frappent la cible et les atomes sont éjectés (ou pulvérisés) de la surface. Ces atomes se déplacent vers le substrat et s'intègrent dans le film en croissance.

Caractéristiques du cratère de pulvérisation de magnétron :

1. Le cratère à pulvérisation de magnétron c.c. à double cible est un équipement de revêtement à pulvérisation de magnétron économique et normalisé,
   modulaire et personnalisable.  Les deux cibles peuvent répondre aux besoins de revêtements multiples ou multiples.

2. Il y a une cible magnétron de 1 pouce, 2 pouces et 3 pouces à facultatif. Vous pouvez choisir la cible en fonction de la taille de l'
   substrat. Le coater est équipé de deux alimentations de 500 W CC. Et il est utilisé pour la préparation de matériaux conducteurs.


3. La machine de revêtement est équipée d'un débitmètre de masse haute précision à deux canaux. Un débitmètre massique à quatre canaux est disponible.

4. Le système de vide est une pompe turbo-moléculaire, le vide ultime est jusqu'à 1,0E-5Pa, une pompe personnalisée est disponible.

5.le chemin de gaz de la pompe moléculaire est contrôlé par plusieurs électrovannes, vous pouvez ouvrir la chambre pour prélever l'échantillon sans arrêter la pompe.

6. Calculateur intégré pour la commande disponible. Toutes les fonctions peuvent être relantées par le calculateur


Lab Desktop Dual Target Magnetron Sputtering Coater with 2 DC Power

Paramètres du produit

Spécifications du cratère de pulvérisation du magnétron :

Nom du produit Double cible, cratère de pulvérisation Magnetron
Modèle TN-MSZ300S-II-DCDC-SS
Vol 220 V CA, 50 Hz
Puissance totale 2 KW
Vide du système <=5×10-4Pa
Etape d'échantillonnage Taille φ140mm
Température de chauffage <=500 ºC
Précision ±1 ºC
Vitesse de rotation 0 à 20 tr/min, réglable
Pistolet à pulvérisation Taille cible Φ50.8mm, épaisseur <=3 mm
Refroidissement Refroidissement par eau
Débit 10 l/min
Chambre à vide Taille de la chambre φ300mm*300mm
Matériau de la chambre SUS304
Obervation φ100mm
Ouverture Toit ouvert
Système de gaz Débitmètre massique unidirectionnel, AR-200SCCM
Système de vide Système de pompe moléculaire--600L/s.
Epaisseur du film Moniteur d'épaisseur de film en quartz, fréquence 0.10  Å
Puissance de pulvérisation Alimentation CC 500W*2
Connexion API+écran tactile
Taille totale 600 mm×650 mm×1080mm
Poids 145kg

 

Photos détaillées

1. NOUS avons le macuter de pulvérisation de magnétron avec 1 cible, 2 cibles, 3 cibles, 4 tagrst, etc. La cible peut être conçue en haut ou en bas de la chambre.
2. Une alimentation CC de 0 à 1 000 W ou une cible de puissance RF est disponible. La fonction de biais est facultative.
3. Taille cible : 1 pouce, 2 pouces, 3 pouces, 4 pouces, etc
4. Une cible magnétique forte et une cible magnétique Pernanent sont facultatives.
5. Cratère de pulvérisation de magnétron avec évaporation, E-Beam est disponible.
6. Service personnalisé toujours disponible!


Lab Desktop Dual Target Magnetron Sputtering Coater with 2 DC Power

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Profil de l'entreprise

Lab Desktop Dual Target Magnetron Sputtering Coater with 2 DC Power

Emballage et expédition

NOUS pouvons expédier le marouflage de magnétron par terre, par mer, par air, par express, peut également organiser le paquet et l'expédition selon vos besoins.
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FAQ

Q. êtes-vous fabricant ou société de commerce?
R. nous sommes des fabricants professionnels d' instruments de laboratoire, nous disposons d'une équipe et d'un atelier de R&D professionnels, qui peuvent vous garantir la qualité et le service après-vente.  

Q. Comment est votre garantie ?
R.  notre garantie est de 12 mois et assure un entretien à vie. Nous fournissons un service en ligne 24 heures sur 24.

Q. combien de temps dure votre livraison ? Si je souhaite personnaliser l'instrument, combien de temps cela prend-il ?
A. 5-10 jours---en magasin. Produits personnalisés---il prend habituellement 30-60 jours selon vos besoins.

Q. alimentation et fiche ?
A. nous pouvons vous fournir des produits conformes à votre norme de tension et de prise locale.

Q. Comment payer?
A.  T T, L / C, D / P, ETC

Q. Comment est le paquet de marchandises? Méthodes de livraison ?
A.  panneau de fumigation standard pour l'exportation emballage de boîtes en bois ou comme vos besoins.
 

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Fabricant/Usine
Produits Principaux
Evaporation Coater; Film Coater
Nombre d'Employés
13