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Lab Desktop RF Magnetron Coater à crachats plasma

After-sales Service: on-Line Service
Warranty: One Year
Type: pulvérisation de magnétron
Coating: Vacuum Coating
Substrate: Steel
Certification: CE

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Membre d'Or Depuis 2023

Fournisseurs avec des licences commerciales vérifiées

Henan, Chine
pour voir toutes les étiquettes de résistance vérifiées (15)
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Aperçu

Info de Base.

N° de Modèle.
TN-MSZ300S-II-DCDC-SS
Condition
New
nom du produit
Magnertron Sputter Coater
méthode de revêtement
pulvérisation de magnétron
alimentation cc
500 w.
puissance rf
300 w.
taille de la chambre
325*500mm
taille du substrat
150 mm
Substrate Heating
Max. 500c
taille cible
2 Inch*1
alimentation
ca 220 v.
Turbo-Molecular Pump
600 l/s
matériau de la chambre
ss304
Paquet de Transport
Fumigated Wooden Box
Spécifications
600*650*1080mm
Marque Déposée
TN
Origine
China
Capacité de Production
20 Sets Per Month

Description de Produit

Description du produit

PULVÉRISATION DE MAGNÉTRON : VUE D'ENSEMBLE

L'pulvérisation est un processus de dépôt à base de plasma dans lequel les ions énergétiques sont accélérés vers une cible. Les ions frappent la cible et les atomes sont éjectés (ou pulvérisés) de la surface. Ces atomes se déplacent vers le substrat et s'intègrent dans le film en croissance.

 Le matériel de revêtement par pulvérisation au magnétron est un instrument de revêtement spécial de laboratoire développé par notre société. L'équipement peut être équipé d'une alimentation CC et d'une alimentation RF. La puissance varie de 500 W à 1 000 W. Il peut être utilisé pour préparer des films minces ferroélectriques monocouches ou multicouches, des films conducteurs, des films en alliage, des films semi-conducteurs, des films en céramique, films diélectriques, films optiques, etc

Lab RF de bureau magnetron plasma crachat coater

Par rapport au crachat plasma classique, le crachat magnétron présente les avantages d'une énergie élevée, d'une vitesse élevée, d'un taux de dépôt élevé et d'une faible augmentation de la température de l'échantillon. La cible magnétron est équipée d'une couche intermédiaire refroidie par eau. Le refroidisseur d'eau peut efficacement éliminer la chaleur et éviter l'accumulation de chaleur sur la surface cible, de sorte que le revêtement magnétron puisse fonctionner de manière stable pendant une longue période.

Lab Desktop RF Magnetron Plasma Sputtering Coater

Paramètres du produit

Spécifications du coater de cracheur cible magnétron unique

Alimentation 220 V CA, 50 Hz
Toute la puissance 6 KW
Degré de vide limite 5 x 10-4 Pa
Paramètres de la table d'échantillons Taille φ150mm
Température 500 ºC max
Commande de température ±1 ºC
Vitesse de rotation réglable de 1 à 20 tr/min
Paramètres de la tête de pulvérisation du magnétron Quantité:1/2/3 Taille : 2 po
Mode de refroidissement Refroidissement par eau, débit requis : 10 l/min  
Refroidisseur d'eau Refroidissement par  eau de circulation 10 l/min
Chambre à vide Taille φ300mm X 340 mm H
Matériau SUS
Fenêtre de surveillance   φ100mm
Mode d'ouverture   type ouvert, cible facile à remplacer
 Régulateur de débit de gaz Un canal, 200 sccm AR ;
Pompe à vide Un système de pompe moléculaire, pompage 600L/S.
Jauge d'épaisseur de film vibrant à quartz Un ensemble,  résolution  0.10  angstrom
Source d'alimentation de la gouttière Alimentation c.c. : 500 W-1 000 W, adaptée à la préparation de films métalliques
Alimentation RF 500W-1000W, adaptée aux films non métalliques
 Mode de fonctionnement   Fonctionnement de l'ordinateur tout-en-un
Dimensions hors tout 1090 mm X 900 mm X 125 mm
  Poids total 350 kg

 

Photos détaillées

1. NOUS avons le macuter de pulvérisation de magnétron avec 1 cible, 2 cibles, 3 cibles, cible peut être conçu en haut ou en bas de
   la chambre.
2. Alimentation CC ou cible de puissance RF disponible.
3. Un matériau cible différent est facultatif
4. Une cible magnétique forte et une cible magnétique Pernanent sont facultatives
5. Le cratère de pulvérisation du magnétron avec source d'évaporation est disponible

6. Service personnalisé toujours disponible!



Lab Desktop RF Magnetron Plasma Sputtering Coater

Cratère à crachat magnétron à cible unique avec alimentation CC

Lab Desktop RF Magnetron Plasma Sputtering CoaterCratère à crachat magnétron à cible unique avec puissance RF


Lab Desktop RF Magnetron Plasma Sputtering Coater

Cratère de pulvérisation magnétron cible simple bas de bureau


Lab Desktop RF Magnetron Plasma Sputtering Coater

Profil de l'entreprise

Lab Desktop RF Magnetron Plasma Sputtering CoaterLab Desktop RF Magnetron Plasma Sputtering Coater

Emballage et expédition

NOUS pouvons expédier le magnetron cratter coater par terre, par mer, par air, par express, peut également organiser le paquet et l'expédition selon vos besoins.
Lab Desktop RF Magnetron Plasma Sputtering Coater

FAQ

Q. êtes-vous fabricant ou société de commerce?
R. nous sommes des fabricants professionnels d' instruments de laboratoire, nous disposons d'une équipe et d'un atelier de R&D professionnels, qui peuvent vous garantir la qualité et le service après-vente.  

Q. Comment est votre garantie ?
R.  notre garantie est de 12 mois et assure un entretien à vie. Nous fournissons un service en ligne 24 heures sur 24.

Q. combien de temps dure votre livraison ? Si je souhaite personnaliser l'instrument, combien de temps cela prend-il ?
A. 5-10 jours---en magasin. Produits personnalisés---il prend habituellement 30-60 jours selon vos besoins.

Q. alimentation et fiche ?
A. nous pouvons vous fournir des produits conformes à votre norme de tension et de prise locale.

Q. Comment payer?
A.  T T, L / C, D / P, ETC

Q. Comment est le paquet de marchandises? Méthodes de livraison ?
A.  panneau de fumigation standard pour l'exportation emballage de boîtes en bois ou comme vos besoins.
 

Contactez-nous

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Fabricant/Usine
Produits Principaux
Evaporation Coater; Film Coater
Nombre d'Employés
13