• PVD Coater à crachats Magnetron pour revêtement de film Wafer
  • PVD Coater à crachats Magnetron pour revêtement de film Wafer
  • PVD Coater à crachats Magnetron pour revêtement de film Wafer
  • PVD Coater à crachats Magnetron pour revêtement de film Wafer
  • PVD Coater à crachats Magnetron pour revêtement de film Wafer
  • PVD Coater à crachats Magnetron pour revêtement de film Wafer

PVD Coater à crachats Magnetron pour revêtement de film Wafer

After-sales Service: on-Line Service
Warranty: One Year
Type: pulvérisation de magnétron
Revêtement: Revêtement sous Vide
Substrat: Acier
Certificat: CE

Contacter le Fournisseur

Membre d'Or Depuis 2023

Fournisseurs avec des licences commerciales vérifiées

Henan, Chine
pour voir toutes les étiquettes de résistance vérifiées (15)
  • Aperçu
  • Description du produit
  • Paramètres du produit
  • Photos détaillées
  • Profil de l′entreprise
  • Emballage et expédition
  • FAQ
  • Contactez-nous
Aperçu

Info de Base.

N° de Modèle.
TN-MSP300S-2DC1RF
État
Nouveau
nom du produit
Magnertron Sputter Coater
méthode de revêtement
pulvérisation de magnétron
alimentation cc
500W*2
puissance rf
500W*1
taille de la chambre
300*300mm
taille du substrat
140 mm
Substrate Heating
Max. 500c
taille cible
2 Inch*3
alimentation
ca 220 v.
pompe à palettes rotative
1,1l/s.
Turbo-Molecular Pump
600 l/s
matériau de la chambre
ss304
Paquet de Transport
Fumigated Wooden Box
Spécifications
600*650*1280mm
Marque Déposée
TN
Origine
China
Capacité de Production
20 Sets Per Month

Description de Produit

Description du produit

PULVÉRISATION DE MAGNÉTRON : VUE D'ENSEMBLE

L'pulvérisation est un processus de dépôt à base de plasma dans lequel les ions énergétiques sont accélérés vers une cible. Les ions frappent la cible et les atomes sont éjectés (ou pulvérisés) de la surface. Ces atomes se déplacent vers le substrat et s'intègrent dans le film en croissance.

Système de dépôt par pulvérisation au magnétron de laboratoire avec pompe à vide à film et alimentation

1. Le coater à crachats de magnétron à triple cible est un équipement de revêtement de crachats de magnétron économique. Il est standardisé, modulaire et personnalisable.

2. Il y a des cibles magnétron de 1 pouce, 2 pouces et 3 pouces. Vous pouvez choisir la cible en fonction du format du substrat à enduire.

3. Le cratère à crachats magnétron est équipé d'une puissance de 500 W CC et d'une puissance de 500 W RF. La puissance CC est utilisée pour les matériaux de conductrive et la puissance RF est utilisée pour les matériaux isolants.  Puissance de 300 W à 1 000 W selon vos besoins.

4. Le cratère de pulvérisation magnétron est équipé d'un débitmètre de masse haute précision à deux canaux. Les débitmètres de masse à quatre canaux sont de
   disponible

5. Le cratère de pulvérisation du magnétron est équipé d'une pompe turbo-moléculaire, et le vide ultime est jusqu'à 10E-5Pa, d'autres types de pompes moléculaires sont disponibles à l'achat.

6. Le chemin du gaz de la pompe moléculaire est contrôlé par plusieurs électrovannes, vous pouvez ouvrir la chambre pour prélever l'échantillon sans
   arrêt de la pompe.

7. Ce produit peut être équipé d'un ordinateur industriel intégré pour contrôler le système.

8.  L'équipement est équipé d'un étage d'échantillon de vibration, qui peut tourner la poudre ou les particules sur lui irrégulièrement, assurez-vous que
   la surface de toutes les particules peut être recouverte
 de film pendant le processus de revêtement. Il s'agit d'un équipement PVD spécialement conçu pour
   échantillons granulaires.


PVD Coating Machine Magnetron Sputtering Coater for Wafer Film Coating

Paramètres du produit

Spécifications du cratère de pulvérisation du magnétron

Étape d'échantillonnage Taille Diam.140 mm
Température de chauffage 500 ºC max
Précision de la température ±1 ºC
Vitesse de rotation réglable de 1 à 20 tr/min
Tête de pulvérisation de magnétron Quantité 2"×3 (1", 2" en option)
Mode de refroidissement Refroidissement par eau
Refroidisseur d'eau Refroidisseur d'eau de circulation avec débit de 10 l/min
Chambre à vide Taille de la chambre Ø 300 mm×300 mm
Matériau de la chambre Acier inoxydable
Fenêtre de surveillance Diam.100 mm
Mode d'ouverture Capot supérieur ouvert
 Débitmètre massique  2 canaux ; plage de mesure 100 SCCM ; 100 SCCM (peut être personnalisé en fonction des besoins du client)
Système de vide Modèle TN-GZK103-A.
Pompe moléculaire CY-600
Pompe d'appui Pompe à palettes rotative
Vide ultime 1,0E-5Pa
Interface de pompage CF160
Interface d'échappement KF40
Mesure de vide Jauge de vide composée
Alimentation CA ; 220 V 50 / 60 Hz
Débit de pompage Pompe moléculaire: 600L/S pompe rotative à palettes: 1.1L/S.   
Performances de pompage de gaz complètes : vide jusqu'à 1,0E-3Pa en 20 minutes
Configuration de l'alimentation Quantité Alimentation CC x2
Alimentation RF x1
Puissance de sortie max 500 W CC, 500 W RF
Autres paramètres Tension d'alimentation 220 V CA, 50 Hz
Puissance totale 4 KW
Taille totale 600 mm×650 mm×1280 mm
Poids total Environ 300kg
 
Photos détaillées

1. NOUS avons le cratère de pulvérisation du magnétron avec 1 cible, 2 cibles, 3 cibles, 4 cibles, la cible peut être conçue en haut ou en bas de la chambre.
2. Une alimentation CC de 0 à 1 000 W ou une cible de puissance RF est disponible. La fonction de biais est facultative
3. Taille cible : 1 pouce, 2 pouces, 3 pouces, 4 pouces
4. Une cible magnétique forte et une cible magnétique Pernanent sont facultatives
5. Cratère de pulvérisation de magnétron avec évaporation, E-Beam est disponible

6. Service personnalisé toujours disponible!


PVD Coating Machine Magnetron Sputtering Coater for Wafer Film CoatingPVD Coating Machine Magnetron Sputtering Coater for Wafer Film Coating

PVD Coating Machine Magnetron Sputtering Coater for Wafer Film CoatingPVD Coating Machine Magnetron Sputtering Coater for Wafer Film Coating

Profil de l'entreprise

PVD Coating Machine Magnetron Sputtering Coater for Wafer Film Coating

Emballage et expédition

NOUS pouvons expédier le magnetron cratter coater par terre, par mer, par air, par express, peut également organiser le paquet et l'expédition selon vos besoins.
PVD Coating Machine Magnetron Sputtering Coater for Wafer Film Coating

FAQ

Q. êtes-vous fabricant ou société de commerce?
R. nous sommes des fabricants professionnels d' instruments de laboratoire, nous disposons d'une équipe et d'un atelier de R&D professionnels, qui peuvent vous garantir la qualité et le service après-vente.  

Q. Comment est votre garantie ?
R.  notre garantie est de 12 mois et assure un entretien à vie. Nous fournissons un service en ligne 24 heures sur 24.

Q. combien de temps dure votre livraison ? Si je souhaite personnaliser l'instrument, combien de temps cela prend-il ?
A. 5-10 jours---en magasin. Produits personnalisés---il prend habituellement 30-60 jours selon vos besoins.

Q. alimentation et fiche ?
A. nous pouvons vous fournir des produits conformes à votre norme de tension et de prise locale.

Q. Comment payer?
A.  T T, L / C, D / P, ETC

Q. Comment est le paquet de marchandises? Méthodes de livraison ?
A.  panneau de fumigation standard pour l'exportation emballage de boîtes en bois ou comme vos besoins.

Contactez-nous

LE MAGNÉTRON CRAQUE LE BON PROCESSUS POUR VOTRE TRAVAIL?

Comment pouvons-nous vous aider à atteindre vos objectifs ? Quels obstacles techniques notre équipe d'ingénieurs peut-elle vous aider à surmonter ? Veuillez appuyer sur le bouton « Get In Contact » pour nous contacter. Nous serions ravis d'apprendre vos recherches et de vous aider de la manière que nous pouvons.

Envoyez votre demande directement à ce fournisseur

*De:
*A:
*Message:

Entrez entre 20 à 4000 caractères.

Ce n'est pas ce que vous recherchez? Publier la Demande d'Achat Maintenant

Vous Aimerez Aussi

Contacter le Fournisseur

Membre d'Or Depuis 2023

Fournisseurs avec des licences commerciales vérifiées

Fabricant/Usine
Produits Principaux
Evaporation Coater; Film Coater
Nombre d'Employés
13