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Fournisseur Audité Machine de laboratoire à plasma amélioré CVD (PECVD) pour la préparation du sulfure
Caractéristiques du système PECVD
| Four à deux tubes de zone de chauffage | Modèle du produit | TN-PE-HPCVD-50R-1100-Q | |
| Matériau du tube du four | Quartz haute pureté | ||
| Diamètre du tube | 50 mm | ||
| Longueur du tube du four | 1 200 mm | ||
| Longueur de la chambre du four | 440mm | ||
| Longueur de la zone de chauffage | 200 mm + 200 mm | ||
| Température de fonctionnement | 0 À 1 100 ºC | ||
| Précision du contrôle de la température | ±1 ºC | ||
| Mode de contrôle de la température | commande de température à 30 ou 50 segments | ||
| Mode d'affichage | Ecran tactile LCD couleur HD | ||
| Méthode d'étanchéité | bride à vide en acier inoxydable 304 | ||
| Alimentation | CA : 220 V 50 / 60 Hz 2,5 kw | ||
| Système de sortie RF | Plage de puissance | 0 à 500 W réglable | |
| fréquence de travail | 13,56 MHz + 0.005 % | ||
| Mode de travail | Sortie continue | ||
| Mode d'impédance correspondant | Il peut être assorti et la lueur est répartie uniformément dans le tube du four | ||
| Stabilité de puissance | ≤2 W. | ||
| Puissance réfléchie de fonctionnement normal | ≤3 W. | ||
| Puissance réfléchie amplifiée | ≤70 W. | ||
| Composant harmonique | ≤-50 dBc | ||
| Efficacité globale | ≥ 70 % | ||
| Facteur de puissance | ≥ 90 % | ||
| Tension/fréquence d'alimentation | Fréquence c.a. monophasée (187 V~153 V) 50 / 60 Hz | ||
| Mode de contrôle | Contrôle interne/ quantité analogique API/communication RS232/485 | ||
| Paramètres de protection de l'alimentation | Protection contre les surintensités CC, protection contre les surchauffes de l'amplificateur de puissance, protection contre la puissance réfléchie | ||
| Méthode de refroidissement | Refroidissement forcé à l'air | ||
| Zone de lueur | Sous AR, l'alimentation en fréquence radio et la bobine coopèrent avec la lueur pour remplir le tube du four | ||
| Bateau d'évaporation | Température de fonctionnement | 1300ºC | |
| Source d'évaporation | Panier en fil de tungstène, creuset conique en alumine en option | ||
| Thermocouple | Thermocouple de type S. | ||
| Courant de travail | ≤30 A. | ||
| Puissance max | 500 W. | ||
| Système d'alimentation en gaz | Débitmètre | Débitmètre massique à quatre canaux | |
| Plage de débit | Gamme MFC1 : 0 à 200 SCcm gamme MFC2 : 0 à 200 SCcm Gamme MFC3 : 0 à 500 SCcm gamme MFC4 : 0 à 500 SCcm Correspondant aux gaz H2, CH4, N2, AR. |
||
| Précision de mesure | ±1.5% F.S | ||
| Répétabilité | ±0.2%FS | ||
| Précision linéaire | ±1%F.S. | ||
| Temps de réponse | ≤4 s. | ||
| Pression de service | -0,15 Mpa~0,15 Mpa | ||
| Contrôle de débit | Commande à écran tactile LCD, affichage numérique, chaque canal de gaz contient une vanne à pointeau pour un contrôle individuel. | ||
| Interface d'admission | Il peut être connecté avec un diamètre externe de 1/4NPS ou 6 mm tuyau en acier inoxydable | ||
| Interface de sortie | Il peut être connecté avec un diamètre externe de 1/4NPS ou 6 mm tuyau en acier inoxydable | ||
| Méthode de connexion | Connecteur à double embout | ||
| Température de fonctionnement | 5 À 45 ºC | ||
| Prémélange de gaz | Équipé d'un dispositif de prémélange des gaz | ||
| Système d'échappement | Modèle du produit | TN-GZK103-A. | |
| Pompe moléculaire | Pompe turbomoléculaire | ||
| Pompe d'appui | Pompe rotative à palettes à deux étages | ||
| Débit de pompage | Pompe moléculaire: 600L/S. | Performances de pompage complètes : 30 minutes de vide peut atteindre 5×10E-3Pa | |
| Pompe à palettes rotatives: 1,1L/S. | |||
| Vide ultime | 5×10E-4Pa | ||
| Orifice de pompage | KF40 | ||
| Interface d'échappement | KF16 | ||
| Mesure de vide | Jauge de vide composée | ||
1. NOUS avons CVD/PECVD machine avec système d'alimentation en gaz+système de vide+four à tube + générateur de plasma.
2. Four à tubes (température) :1200C, 1400C, 1600C, température personnalisée disponible.
3. Four à tubes (zone de chauffage) :zone unique, zone double, zone triple, personnalisé le nombre de zones de chauffage est disponible.
4. Matériau du tube : quartz, corindon, alliage et autre matériau du tube est personnalisable.
5. Le tube de diamètre et de longueur différents est personnalisable.
6. Générateur de plasma : 100 W, 150 W, 300 W, 500 W, 1000 W, et d'autres puissances de générateur de plasma est personnalisable.
7. Débitmètre : un débitmètre à 1 ou 3 canaux ou un débitmètre à canaux multiples est disponible en option en fonction de votre processus.
Zhengzhou Tainuo film Materials Co., Ltd. Est une entreprise complète qui intègre la conception, la recherche et le développement, la production et la vente.
Les principaux produits de notre entreprise sont : le cratère de spin, le cratère d'évaporation thermique, le cratère de crapules de magnétron, le crapules de crapules de plasma, le crapules d'évaporation à faisceau E, Machine de revêtement laser à impulsions PLD, nettoyeur plasma, système CVD, système PECVD, machine de découpe de fil diamant, four de fusion/poêle, four de fusion à arc, etc
Nos produits sont largement utilisés dans le domaine de la recherche en sciences des matériaux. Nous avons une vaste coopération avec des universités, des laboratoires et des entreprises de nouveaux matériaux. Il a été exporté avec succès vers plus de 20 pays et régions, dont les États-Unis, le Royaume-Uni, l'Allemagne, la Russie, la Suisse, Le Canada, le Brésil, etc. Et ont établi des relations de coopération à long terme avec les concessionnaires locaux.
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Q. êtes-vous fabricant ou société de commerce?
R. nous sommes des fabricants professionnels d' instruments de laboratoire, nous disposons d'une équipe et d'un atelier de R&D professionnels, qui peuvent vous garantir la qualité et le service après-vente.
Q. Comment est votre garantie ?
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