• Système de dépôt sous vide à cratère magnétron à cible unique utilisé en laboratoire Pour SEM Research
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Système de dépôt sous vide à cratère magnétron à cible unique utilisé en laboratoire Pour SEM Research

After-sales Service: on-Line Service
Warranty: One Year
Type: pulvérisation de magnétron
Revêtement: Revêtement sous Vide
Substrat: Acier
Certificat: CE

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Henan, Chine
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Aperçu

Info de Base.

N° de Modèle.
TN-MSH325-I-RF-SS
État
Nouveau
nom du produit
Magnertron Sputter Coater
méthode de revêtement
pulvérisation de magnétron
alimentation cc
500 w.
puissance rf
300 w.
taille de la chambre
300*300mm
taille du substrat
150 mm
Substrate Heating
Max. 500c
taille cible
2 Inch*1
alimentation
ca 220 v.
Turbo-Molecular Pump
600 l/s
matériau de la chambre
ss304
Paquet de Transport
Fumigated Wooden Box
Spécifications
600*650*1280mm
Marque Déposée
TN
Origine
China
Capacité de Production
20 Sets Per Month

Description de Produit

Système de dépôt sous vide à cratère magnétron à cible unique utilisé en laboratoire Pour SEM Research

Description du produit

PULVÉRISATION DE MAGNÉTRON : VUE D'ENSEMBLE

L'pulvérisation est un processus de dépôt à base de plasma dans lequel les ions énergétiques sont accélérés vers une cible. Les ions frappent la cible et les atomes sont éjectés (ou pulvérisés) de la surface. Ces atomes se déplacent vers le substrat et s'intègrent dans le film en croissance.

 Le matériel de revêtement par pulvérisation au magnétron est un instrument de revêtement spécial de laboratoire développé par notre société. L'équipement peut être équipé d'une alimentation CC et d'une alimentation RF. La puissance varie de 500 W à 1 000 W. Il peut être utilisé pour préparer des films minces ferroélectriques monocouches ou multicouches, des films conducteurs, des films en alliage, des films semi-conducteurs, des films en céramique, films diélectriques, films optiques, etc

Lab Used Single Target Magnetron Sputtering Coater Vacuum Deposition System for Sem Research

Paramètres du produit

Spécifications du cratère de pulvérisation du magnétron :

Nom du produit Cratère de crapules magnétron
Étape d'échantillonnage Taille Diam.150 mm
Température de chauffage Max. 500 ºC
Précision de la température ±1 ºC
Vitesse de rotation réglable de 1 à 20 tr/min
 Cible de pulvérisation de magnétron Quantité 2 po*1 (1 po, 2 po,  3 po, 4 po en option)
Mode de refroidissement Refroidissement par eau
Refroidisseur d'eau Refroidisseur d'eau de circulation avec débit de 10 l/min
Chambre à vide Taille de la chambre Diam.325*500mm
Matériau de la chambre Acier inoxydable
Fenêtre de surveillance Diam.100 mm
Mode d'ouverture Porte avant ouverte
   Débitmètre massique  2 canaux ; plage de mesure 100 SCCM ; 100 SCCM (peut être personnalisé en fonction des besoins du client)
Système de vide Modèle CY-GZK103-A.
Pompe moléculaire 600 L/s
Pompe d'appui 1,1L/s.
Vide ultime 1,0E-5Pa
Interface de pompage CF160
Interface d'échappement KF40
Mesure de vide Jauge de vide composée
Alimentation CA ; 220 V, 50 / 60 Hz
Débit de pompage Aspirez jusqu'à 1,0E-3Pa en 20 minutes
Configuration de l'alimentation Quantité  Alimentation RF x1
Puissance de sortie max RF 300 W.
Epaisseur du film Moniteur d'épaisseur de film en quartz, résolution : 0.1 Å
Autres paramètres Tension d'alimentation 220 V CA, 50 Hz
Puissance totale 4 KW
Taille totale 600 mm×650 mm×1280 mm
Poids total Environ 350kg

 

Photos détaillées

 

1. NOUS avons le macuter de pulvérisation de magnétron avec 1 cible, 2 cibles, 3 cibles, 4 tagrst, etc. La cible peut être conçue en haut ou en bas de la chambre.
2. Une alimentation CC de 0 à 1 000 W ou une cible de puissance RF est disponible. La fonction de biais est facultative.
3. Taille cible : 1 pouce, 2 pouces, 3 pouces, 4 pouces, etc
4. Une cible magnétique forte et une cible magnétique Pernanent sont facultatives.
5. Cratère de pulvérisation de magnétron avec évaporation, E-Beam est disponible.
6. Service personnalisé toujours disponible!
Lab Used Single Target Magnetron Sputtering Coater Vacuum Deposition System for Sem ResearchLab Used Single Target Magnetron Sputtering Coater Vacuum Deposition System for Sem Research

Lab Used Single Target Magnetron Sputtering Coater Vacuum Deposition System for Sem Research

Profil de l'entreprise

 

1. NOUS avons le cratère de pulvérisation du magnétron avec 1 cible, 2 cibles, 3 cibles, 4 cibles, etc. La cible peut être conçue en haut ou en bas de la chambre.
2. Une alimentation CC de 0 à 1 000 W ou une cible de puissance RF est disponible. La fonction de biais est facultative.
3. Taille cible : 1 pouce, 2 pouces, 3 pouces, 4 pouces, etc
4. Cible magnétique forte et cible magnétique permanente  sont facultatives.
5. Cratère de pulvérisation de magnétron avec évaporation, E-Beam est disponible.
6. Service personnalisé toujours disponible!
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Emballage et expédition

NOUS pouvons expédier le marouflage de magnétron par terre, par mer, par air, par express, peut également organiser le paquet et l'expédition selon vos besoins.
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FAQ

Q. êtes-vous fabricant ou société de commerce?
R. nous sommes des fabricants professionnels d' instruments de laboratoire, nous disposons d'une équipe et d'un atelier de R&D professionnels, qui peuvent vous garantir la qualité et le service après-vente.  

Q. Comment est votre garantie ?
R.  notre garantie est de 12 mois et assure un entretien à vie. Nous fournissons un service en ligne 24 heures sur 24.

Q. combien de temps dure votre livraison ? Si je souhaite personnaliser l'instrument, combien de temps cela prend-il ?
A. 5-10 jours---en magasin. Produits personnalisés---il prend habituellement 30-60 jours selon vos besoins.

Q. alimentation et fiche ?
A. nous pouvons vous fournir des produits conformes à votre norme de tension et de prise locale.

Q. Comment payer?
A.  T T, L / C, D / P, ETC

Q. Comment est le paquet de marchandises? Méthodes de livraison ?
A.  panneau de fumigation standard pour l'exportation emballage de boîtes en bois ou comme vos besoins.
 

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Fabricant/Usine
Produits Principaux
Evaporation Coater; Film Coater
Nombre d'Employés
13