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Equipement CVD de laboratoire sous vide pour revêtement de film polycristallin

After-sales Service: on-Line Service
Warranty: One Year
Application: Industry, School, Lab
Customized: Customized
Certification: CE
Structure: Portable

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Henan, Chine
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Aperçu

Info de Base.

N° de Modèle.
TN-CVD-O1200
Material
Stainless Steel
Type
Tubular Furnace
nom du produit
CVD Tuber Furnace
matériau du tube
quartz haute pureté
température
1 200 °c.
zone de chauffage
200mm*1
taille du tube du four
50*450 mm
Paquet de Transport
Fumigated Wooden Box
Marque Déposée
TN
Origine
China
Code SH
8401200000
Capacité de Production
20 Sets Per Month

Description de Produit

Description du produit

Equipement CVD de laboratoire sous vide pour revêtement de film polycristallin

Lab Vacuum CVD Equipment for Polycrystalline Film Coating

1. Ce système CVD est spécialement conçu pour la production de graphène, à l'aide d'un four à mini-tube de 1200ºC, équipé d'un haut-
   débitmètre massique de précision et jauge de vide à couche mince.

2. Par rapport à la jauge de résistance Pirani conventionnelle, la lecture de la jauge à couche mince est précise et n'est pas affectée par le
   type de gaz, qui est très approprié pour le processus de revêtement sous vide.

3. Le four à tubes CVD est équipé d'un dispositif de détection de gaz combustible, qui est relié à une électrovanne à l'air
   sortie. En cas de fuite, l'électrovanne peut être fermée pour garantir la sécurité.


4. Le four à tubes CVD est fourni avec un encombrement et est très adapté à la préparation en laboratoire de CVD.
Paramètres du produit

Spécifications du CVD avec four à tube 1200C

Paramètres du four à tubes Mini CVD 1200ºC :
Tension d'alimentation 220 V CA, 50 Hz
Puissance maximale 2 KW
 Zone de chauffage Zone de chauffage simple 200 mm
Longueur de zone de température constante 100 mm
Élément chauffant Fil en alliage résistant à la chaleur
Thermocouple Tapez K
Température de fonctionnement ≤1150ºC
Vitesse de chauffage Suggérez ≤ 10 ºC/min
Précision du contrôle de la température ±1 ºC
Méthode de contrôle de la température Courbe de traitement ai-PID à 30 segments, avec protection contre la surchauffe et l'épuisement
Matériau du tube du four Quartz haute pureté
Taille du tube du four φ50mm D.E. x 450 mm L.
Pompe à vide   Vitesse de pompage de la pompe mécanique 1,1 l/s.
Vide ultime 5 Pa
 Paramètres du débitmètre massique à trois canaux
Type de soupape Pointeau en acier inoxydable
Nombre de chemins de gaz Trois
Plage de pression 0.05 à 0,3 MPa
Portée AR 0 à 500 sccm
H2 0 à 200 sccm
CH4 0~10 sccm
Plage de contrôle de débit ±1.5 %
Volume du réservoir de mélange 750 ml
Matériau du chemin de gaz acier inoxydable 304
Interface de tuyauterie connecteur à cosse 6,35 mm
Alimentation 220 V CA 50 Hz
Photos détaillées

1. NOUS avons CVD/PECVD machine avec système d'alimentation en gaz+système de vide+four à tube + générateur de plasma.

2. Four à tubes (température) :1200C, 1400C, 1600C, température personnalisée disponible.

3. Four à tubes (zone de chauffage) :zone unique, zone double, zone triple, personnalisé le nombre de zones de chauffage est disponible.

4. Matériau du tube : quartz, corindon, alliage et autre matériau du tube est personnalisable.

5. Le tube de diamètre et de longueur différents est personnalisable.

6. Générateur de plasma : 100 W, 150 W, 300 W, 500 W, 1000 W, et d'autres puissances de générateur de plasma est personnalisable.

7. Débitmètre : un débitmètre à 1 ou 3 canaux ou un débitmètre à canaux multiples est disponible en option en fonction de votre processus.
Lab Vacuum CVD Equipment for Polycrystalline Film Coating

Four à tube CVD avec zone de chauffage simple 1200C  

Lab Vacuum CVD Equipment for Polycrystalline Film CoatingPECVD-- four à tubes avec triple zone de chauffage  

Lab Vacuum CVD Equipment for Polycrystalline Film CoatingPECVD-- rouleau à rouleau
Lab Vacuum CVD Equipment for Polycrystalline Film CoatingPECVD-- type rotatif

Lab Vacuum CVD Equipment for Polycrystalline Film CoatingSystème CVD MOS2 au bisulfure de molybdène
Lab Vacuum CVD Equipment for Polycrystalline Film CoatingSystème DCCVD

Lab Vacuum CVD Equipment for Polycrystalline Film CoatingSystème HPCVD


Lab Vacuum CVD Equipment for Polycrystalline Film Coating

Profil de l'entreprise

Lab Vacuum CVD Equipment for Polycrystalline Film CoatingLab Vacuum CVD Equipment for Polycrystalline Film Coating

Emballage et expédition

Nous pouvons expédier le CVD, PECVD machine par mer, par air, par terre et par Express, nous pouvons également organiser l'expédition selon vos besoins.
Lab Vacuum CVD Equipment for Polycrystalline Film Coating

FAQ

Q. êtes-vous fabricant ou société de commerce?
R. nous sommes des fabricants professionnels d' instruments de laboratoire, nous disposons d'une équipe et d'un atelier de R&D professionnels, qui peuvent vous garantir la qualité et le service après-vente.  

Q. Comment est votre garantie ?
R.  notre garantie est de 12 mois et assure un entretien à vie. Nous fournissons un service en ligne 24 heures sur 24.

Q. combien de temps dure votre livraison ? Si je souhaite personnaliser l'instrument, combien de temps cela prend-il ?
A. 5-10 jours---en magasin. Produits personnalisés---il prend habituellement 30-60 jours selon vos besoins.

Q. alimentation et fiche ?
A. nous pouvons vous fournir des produits conformes à votre norme de tension et de prise locale.

Q. Comment payer?
A.  T T, L / C, D / P, ETC

Q. Comment est le paquet de marchandises? Méthodes de livraison ?
A.  panneau de fumigation standard pour l'exportation emballage de boîtes en bois ou comme vos besoins.

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Fabricant/Usine
Produits Principaux
Evaporation Coater; Film Coater
Nombre d'Employés
13