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PULVÉRISATION DE MAGNÉTRON : VUE D'ENSEMBLE
L'pulvérisation est un processus de dépôt à base de plasma dans lequel les ions énergétiques sont accélérés vers une cible. Les ions frappent la cible et les atomes sont éjectés (ou pulvérisés) de la surface. Ces atomes se déplacent vers le substrat et s'intègrent dans le film en croissance.
Caractéristiques du cratère de pulvérisation de magnétron :
1. Le coater à crachats de magnétron à triple cible est un équipement de revêtement de crachats de magnétron économique. Il est standardisé, modulaire et personnalisable.
2. Il y a des cibles magnétron de 1 pouce, 2 pouces et 3 pouces. Vous pouvez choisir la cible en fonction du format du substrat à enduire.
3. Le cratère à crachats magnétron est équipé d'une puissance de 500 W CC et d'une puissance de 500 W RF. La puissance CC est utilisée pour les matériaux de conductrive et la puissance RF est utilisée pour les matériaux isolants. Puissance de 300 W à 1 000 W selon vos besoins.
4. Le cratère de pulvérisation magnétron est équipé d'un débitmètre de masse haute précision à deux canaux. Les débitmètres de masse à quatre canaux sont de
disponible
5. Le cratère de pulvérisation du magnétron est équipé d'une pompe turbo-moléculaire, et le vide ultime est jusqu'à 10E-5Pa, d'autres types de pompes moléculaires sont disponibles à l'achat.
6. Le chemin du gaz de la pompe moléculaire est contrôlé par plusieurs électrovannes, vous pouvez ouvrir la chambre pour prélever l'échantillon sans
arrêt de la pompe.
7. Ce produit peut être équipé d'un ordinateur industriel intégré pour contrôler le système.
Spécifications du cratère de pulvérisation du magnétron :
| Nom du produit | Triple cratère de pulvérisation magnétron Target | |
| Étape d'échantillonnage | Taille | Diam.150 mm |
| Température de chauffage | 500 ºC max | |
| Précision de la température | ±1 ºC | |
| Vitesse de rotation | réglable de 1 à 20 tr/min | |
| Cible de pulvérisation de magnétron | Quantité | 2"×3 (1", 2" en option) |
| Mode de refroidissement | Refroidissement par eau | |
| Refroidisseur d'eau | Refroidisseur d'eau de circulation avec débit de 10 l/min | |
| Chambre à vide | Taille de la chambre | Diam.300*300mm |
| Matériau de la chambre | Acier inoxydable | |
| Fenêtre de surveillance | Diam.100 mm | |
| Mode d'ouverture | Ouverture supérieure | |
| Débitmètre massique | 2 canaux ; plage de mesure 100 SCCM ; 100 SCCM (peut être personnalisé en fonction des besoins du client) | |
| Système de vide | Modèle | CY-GZK103-A. |
| Pompe moléculaire | 600 L/s | |
| Pompe d'appui | 1,1L/s. | |
| Vide ultime | 1,0E-5Pa | |
| Interface de pompage | CF160 | |
| Interface d'échappement | KF40 | |
| Mesure de vide | Jauge de vide composée | |
| Alimentation | CA ; 220 V 50 / 60 Hz | |
| Débit de pompage | Aspirez jusqu'à 1,0E-3Pa en 20 minutes | |
| Configuration de l'alimentation | Quantité | Alimentation CC x2 Alimentation RF x1 |
| Puissance de sortie max | 500 W CC, 300 W RF | |
| Autres paramètres | Tension d'alimentation | 220 V CA, 50 Hz |
| Puissance totale | 4 KW | |
| Taille totale | 600 mm×650 mm×1280 mm | |
| Poids total | Environ 350kg | |
1. NOUS avons le macuter de pulvérisation de magnétron avec 1 cible, 2 cibles, 3 cibles, 4 tagrst, etc. La cible peut être conçue en haut ou en bas de la chambre.
2. Une alimentation CC de 0 à 1 000 W ou une cible de puissance RF est disponible. La fonction de biais est facultative.
3. Taille cible : 1 pouce, 2 pouces, 3 pouces, 4 pouces, etc
4. Une cible magnétique forte et une cible magnétique Pernanent sont facultatives
5. Cratère de pulvérisation de magnétron avec évaporation, E-Beam est disponible
6. Service personnalisé toujours disponible!
Zhengzhou Tainuo film Materials Co., Ltd. Est une entreprise complète qui intègre la conception, la recherche et le développement, la production et la vente.
Les principaux produits de notre entreprise sont : le cratère de spin, le cratère d'évaporation thermique, le cratère de crapules de magnétron, le crapules de crapules de plasma, le crapules d'évaporation à faisceau E, Machine de revêtement laser à impulsions PLD, nettoyeur plasma, système CVD, système PECVD, machine de découpe de fil diamant, four de fusion/poêle, four de fusion à arc, etc
Nos produits sont largement utilisés dans le domaine de la recherche en sciences des matériaux. Nous avons une vaste coopération avec des universités, des laboratoires et des entreprises de nouveaux matériaux. Il a été exporté avec succès vers plus de 20 pays et régions, dont les États-Unis, le Royaume-Uni, l'Allemagne, la Russie, la Suisse, Le Canada, le Brésil, etc. Et ont établi des relations de coopération à long terme avec les concessionnaires locaux.
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Q. êtes-vous fabricant ou société de commerce?
R. nous sommes des fabricants professionnels d' instruments de laboratoire, nous disposons d'une équipe et d'un atelier de R&D professionnels, qui peuvent vous garantir la qualité et le service après-vente.
Q. Comment est votre garantie ?
R. notre garantie est de 12 mois et assure un entretien à vie. Nous fournissons un service en ligne 24 heures sur 24.
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