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Fournisseur Audité Cratère en PVD à pulvérisation magnétron à vide élevé avec pulvérisation de puissance c.c. Pistolet pour films en alliage
PULVÉRISATION DE MAGNÉTRON : VUE D'ENSEMBLE
L'pulvérisation est un processus de dépôt à base de plasma dans lequel les ions énergétiques sont accélérés vers une cible. Les ions frappent la cible et les atomes sont éjectés (ou pulvérisés) de la surface. Ces atomes se déplacent vers le substrat et s'intègrent dans le film en croissance.
Ce cratère de crapules à cible magnétron simple à alimentation CC est très adapté au placage en aluminium et à d'autres matériaux très sensibles à l'air. Cet équipement de cratère à pulvérisation au magnétron présente une structure compacte et une fonction parfaite, est facile à utiliser et convient parfaitement à divers tests de revêtement.
Spécifications du cratère à crachat magnétron simple :
| Étape d'échantillonnage | Taille | φ100mm |
| Vitesse de rotation | 0-20tr/min réglable | |
| Chauffage | Max. 500 ºC | |
| Tête de pulvérisation de magnétron | Quantité | 2 po x 1 |
| Chambre à vide | Taille de la chambre | φ180mm x 215 mm |
| Fenêtre d'observation | Omnidirectionnel transparent | |
| Matériau de la chambre | SS304 | |
| Méthode ouverte | Couvercle supérieur amovible | |
| Système de vide | Pompe mécanique | Pompe à palettes rotative |
| Orifice de pompage | KF16 | |
| Interface d'échappement | KF16 | |
| Pompe moléculaire | Pompe Turbo-moléculaire | |
| Orifice de pompage | KF40 | |
| Interface d'échappement | KF40 | |
| Mesure de vide | Jauge de résistance + jauge d'ionisation | |
| Vide ultime | 1,0E-4Pa | |
| Alimentation | 220 V CA 50 / 60 Hz | |
| Débit de pompage | Pompe mécanique 1,1L/s pompe moléculaire 600L/s. | |
| Configuration de l'alimentation | Quantité | Alimentation CC x1 |
| Puissance de sortie max | Alimentation CC 500 W. | |
| Tension d'alimentation | 220 V CA, 50 Hz | |
| Autres | Puissance totale | 2 KW |
| Taille totale | 550 mm x 350 mm x 500 mm |
1. NOUS avons le cratère de pulvérisation du magnétron avec 1 cible, 2 cibles, 3 cibles, 4 cibles, etc. La cible peut être conçue en haut ou en bas de la chambre.
2. Une alimentation CC de 0 à 1 000 W ou une cible de puissance RF est disponible. La fonction de biais est facultative.
3. Taille cible : 1 pouce, 2 pouces, 3 pouces, 4 pouces, etc
4. Cible magnétique forte et cible magnétique permanente sont facultatives.
5. Cratère de pulvérisation de magnétron avec évaporation, E-Beam est disponible.
6. Service personnalisé toujours disponible!
Zhengzhou Tainuo film Materials Co., Ltd. Est une entreprise complète qui intègre la conception, la recherche et le développement, la production et la vente.
Les principaux produits de notre entreprise sont : le cratère de spin, le cratère d'évaporation thermique, le cratère de crapules de magnétron, le crapules de crapules de plasma, le crapules d'évaporation à faisceau E, Machine de revêtement laser à impulsions PLD, nettoyeur plasma, système CVD, système PECVD, machine de découpe de fil diamant, four de fusion/poêle, four de fusion à arc, etc
Nos produits sont largement utilisés dans le domaine de la recherche en sciences des matériaux. Nous avons une vaste coopération avec des universités, des laboratoires et des entreprises de nouveaux matériaux. Il a été exporté avec succès vers plus de 20 pays et régions, dont les États-Unis, le Royaume-Uni, l'Allemagne, la Russie, la Suisse, Le Canada, le Brésil, etc. Et ont établi des relations de coopération à long terme avec les concessionnaires locaux.
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Q. êtes-vous fabricant ou société de commerce?
R. nous sommes des fabricants professionnels d' instruments de laboratoire, nous disposons d'une équipe et d'un atelier de R&D professionnels, qui peuvent vous garantir la qualité et le service après-vente.
Q. Comment est votre garantie ?
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Q. combien de temps dure votre livraison ? Si je souhaite personnaliser l'instrument, combien de temps cela prend-il ?
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Q. Comment payer?
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