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à propos de cible de pulvérisation
  • Innovation technologique
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  • Capacités de Fabrication Substantielles

cible de pulvérisation200+ usines vérifiées

Sid Metal Co., Ltd

13 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
Envoyer demande
Zr702 Zr705 Cible en tube de zirconium Conductivité thermique Haute pureté Cible de pulvérisation

Zr702 Zr705 Cible en tube de zirconium Conductivité thermique Haute pureté Cible de pulvérisation

1,00-3 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en titane Ti Target / Cible rotative en titane pour semi-conducteurs / Pulvérisation de revêtement sous vide

Cible de pulvérisation en titane Ti Target / Cible rotative en titane pour semi-conducteurs / Pulvérisation de revêtement sous vide

1,00-100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de Zirconium de Haute Pureté Zr702 Zr705 Conductivité Thermique Cible de Sputtering

Cible de Zirconium de Haute Pureté Zr702 Zr705 Conductivité Thermique Cible de Sputtering

0,05-100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.99% Cible de pulvérisation de chrome Revêtement en chrome Cible en chrome

99.99% Cible de pulvérisation de chrome Revêtement en chrome Cible en chrome

100,00-600,00 $US
2 Pièces(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

Envoyer demande
Cible de pulvérisation Cu/cible rotative cuivre pour conducteur/semi-conducteur à revêtement métallique

Cible de pulvérisation Cu/cible rotative cuivre pour conducteur/semi-conducteur à revêtement métallique

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible céramique au silicium-polyéthylène pour pulvérisation de la cible/photovoltaïque solaire

Cible céramique au silicium-polyéthylène pour pulvérisation de la cible/photovoltaïque solaire

35,00-50,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible en silicium monocristallin Mono-Si pour la pulvérisation, cible céramique pour photovoltaïques solaires, téléphone mobile

Cible en silicium monocristallin Mono-Si pour la pulvérisation, cible céramique pour photovoltaïques solaires, téléphone mobile

35,00-75,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible en alliage CuNiTi, cible de pulvérisation en alliage de cuivre, nickel et titane pour écran LCD/panneau tactile

Cible en alliage CuNiTi, cible de pulvérisation en alliage de cuivre, nickel et titane pour écran LCD/panneau tactile

50,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 ans
·Société Commerciale
Envoyer demande
3mm Cible épaisse en ruthénium, cible de pulvérisation de Ru

3mm Cible épaisse en ruthénium, cible de pulvérisation de Ru

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation de rhénium Re 99.99% haute pureté, cible ronde de métal Re

Cible de pulvérisation de rhénium Re 99.99% haute pureté, cible ronde de métal Re

1 000,00-4 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.999% Cible en tungstène, cible de pulvérisation W

99.999% Cible en tungstène, cible de pulvérisation W

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en cuivre pur 99.9%~99.9999%

Cible de pulvérisation en cuivre pur 99.9%~99.9999%

100,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

Envoyer demande
Cible de ruthénium par pulvérisation magnétron haute pureté

Cible de ruthénium par pulvérisation magnétron haute pureté

32 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible en aluminium de haute pureté pour pulvérisation cathodique sous vide

Cible en aluminium de haute pureté pour pulvérisation cathodique sous vide

1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en or cible Au

Cible de pulvérisation en or cible Au

1 850 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible en nickel de pulvérisation par magnétron de haute pureté

Cible en nickel de pulvérisation par magnétron de haute pureté

800,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

Envoyer demande
99.9% Cible de pulvérisation en nickel chrome aluminium pour revêtement sous vide dans le processus PVD, cible de chrome tantale

99.9% Cible de pulvérisation en nickel chrome aluminium pour revêtement sous vide dans le processus PVD, cible de chrome tantale

55,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Bonne résistance vente chaude cible de pulvérisation au chrome

Bonne résistance vente chaude cible de pulvérisation au chrome

30,00-50,00 $US
5 Pièces(MOQ)
Cible ronde en nickel de haute qualité pour la pulvérisation

Cible ronde en nickel de haute qualité pour la pulvérisation

10,00 $US
1 pcs(MOQ)
Cible de pulvérisation ronde en zirconium à haute température de fusion Zr702

Cible de pulvérisation ronde en zirconium à haute température de fusion Zr702

15,00 $US
1 pcs(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

Envoyer demande
99.95% Cible de pulvérisation en chrome pur, cible en chrome de haute pureté pour revêtement PVD

99.95% Cible de pulvérisation en chrome pur, cible en chrome de haute pureté pour revêtement PVD

30,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cibles en alliage de nickel haute pureté Xinkang Nickel Vanadium Niv7% cibles de pulvérisation

Cibles en alliage de nickel haute pureté Xinkang Nickel Vanadium Niv7% cibles de pulvérisation

35,00-40,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en alliage de nickel et de chrome de haute qualité pour revêtement

Cible de pulvérisation en alliage de nickel et de chrome de haute qualité pour revêtement

35,00-40,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.95% Cible de pulvérisation de chrome Revêtement en chrome Cible en chrome

99.95% Cible de pulvérisation de chrome Revêtement en chrome Cible en chrome

50,00-100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
Envoyer demande
Prix d'usine 99.999% Cible de pulvérisation au chrome

Prix d'usine 99.999% Cible de pulvérisation au chrome

60,00-150,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cibles de pulvérisation en chrome métallique de haute pureté 99.99% TANKII

Cibles de pulvérisation en chrome métallique de haute pureté 99.99% TANKII

60,00-150,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Prix d'usine Vente 99.999% Cible de pulvérisation au chrome

Prix d'usine Vente 99.999% Cible de pulvérisation au chrome

60,00-150,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Fabricant personnalisé à bas prix, cible de pulvérisation en métal chrome pur de haute pureté pour revêtement PVD

Fabricant personnalisé à bas prix, cible de pulvérisation en métal chrome pur de haute pureté pour revêtement PVD

60,00-150,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Luoyang Modi Tungsten & Molybdenum Material Co., Ltd.

Envoyer demande
Ta-Mo Alloy Plate Tantalum Molybdenum Sputtering Target

Ta-Mo Alloy Plate Tantalum Molybdenum Sputtering Target

57,00-72,00 $US
1 Kg(MOQ)
High Purity Sputtering Target Material Molybdenum Sputtering Target

High Purity Sputtering Target Material Molybdenum Sputtering Target

57,00-72,00 $US
1 Kg(MOQ)
Mo1 Molybdenum Sputtering Target Molybdenum Target Price

Mo1 Molybdenum Sputtering Target Molybdenum Target Price

57,00-72,00 $US
1 Kg(MOQ)
Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

75,00-95,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible de pulvérisation tubulaire plane en aluminium Al pour revêtement PVD à prix avantageux

Cible de pulvérisation tubulaire plane en aluminium Al pour revêtement PVD à prix avantageux

80,00-500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en alliage de titane Wolfram, revêtement PVD, usine en Chine

Cible de pulvérisation en alliage de titane Wolfram, revêtement PVD, usine en Chine

300,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en aluminium plan rond pour revêtement PVD usine

Cible de pulvérisation en aluminium plan rond pour revêtement PVD usine

80,00-500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation tubulaire plane en nickel de haute pureté valeur prix usine

Cible de pulvérisation tubulaire plane en nickel de haute pureté valeur prix usine

300,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
Envoyer demande
Cible de pulvérisation en alliage de titane de haute pureté sur mesure pour l'électronique

Cible de pulvérisation en alliage de titane de haute pureté sur mesure pour l'électronique

115,00-130,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cibles de pulvérisation en yttrium de qualité supérieure pour la fabrication d'électronique avancée

Cibles de pulvérisation en yttrium de qualité supérieure pour la fabrication d'électronique avancée

115,00-130,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en métal d'ytterbium de haute pureté pour des applications avancées

Cible de pulvérisation en métal d'ytterbium de haute pureté pour des applications avancées

190,00-199,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en titane premium pour des applications de revêtement avancées

Cible de pulvérisation en titane premium pour des applications de revêtement avancées

115,00-130,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 ans·5.0
Envoyer demande
Cibles de pulvérisation en nickel à haute densité Msgp - Parfaitement adaptées aux applications de revêtement de dispositifs médicaux

Cibles de pulvérisation en nickel à haute densité Msgp - Parfaitement adaptées aux applications de revêtement de dispositifs médicaux

260,00-280,00 $US
50 kilograms(MOQ)
Cible de pulvérisation en chrome rectangulaire avec usinage de trou pour revêtement métallique de précision

Cible de pulvérisation en chrome rectangulaire avec usinage de trou pour revêtement métallique de précision

99,00-180,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cibles de pulvérisation en nickel à ultra haute densité pour la métallisation des wafers semi-conducteurs

Cibles de pulvérisation en nickel à ultra haute densité pour la métallisation des wafers semi-conducteurs

80,00-100,00 $US
50 kilograms(MOQ)
Cibles de pulvérisation en nickel résistant à l'usure pour le revêtement de capteurs électroniques automobiles

Cibles de pulvérisation en nickel résistant à l'usure pour le revêtement de capteurs électroniques automobiles

120,00-140,00 $US
50 kilograms(MOQ)
1/4

Zhuzhou Weilai New Materials Technology Co., Ltd.

8 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
Envoyer demande
Nous fournissons divers types de cibles à anode rotative, sablage, cibles de pulvérisation à anode rotative noircies

Nous fournissons divers types de cibles à anode rotative, sablage, cibles de pulvérisation à anode rotative noircies

142,00-168,00 $US
30 Pièces(MOQ)
Cible de pulvérisation rotative en métal, cible d'anode rotative en molybdène rhénium tungstène

Cible de pulvérisation rotative en métal, cible d'anode rotative en molybdène rhénium tungstène

142,00-168,00 $US
30 Pièces(MOQ)
Matériau cible en molybdène meilleur prix cible de pulvérisation en tungstène-rhénium anode de surface CT rotative

Matériau cible en molybdène meilleur prix cible de pulvérisation en tungstène-rhénium anode de surface CT rotative

142,00-168,00 $US
30 Pièces(MOQ)
Nous fournissons divers types de cibles métalliques rotatives, cible de molybdène pour pulvérisation, cible d'anode en rhénium et cible de tungstène pour pulvérisation

Nous fournissons divers types de cibles métalliques rotatives, cible de molybdène pour pulvérisation, cible d'anode en rhénium et cible de tungstène pour pulvérisation

142,00-168,00 $US
30 Pièces(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 ans·5.0
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
Envoyer demande
Cible de pulvérisation de molybdène poli (99.95% pur)

Cible de pulvérisation de molybdène poli (99.95% pur)

40,00-60,00 $US
1 Kg(MOQ)
Mo1 Prix de la cible de molybdène pour la pulvérisation

Mo1 Prix de la cible de molybdène pour la pulvérisation

40,00-88,00 $US
1 kg(MOQ)
Cible de pulvérisation de molybdène à plaque ronde Mo1 de haute pureté

Cible de pulvérisation de molybdène à plaque ronde Mo1 de haute pureté

40,00-88,00 $US
1 kg(MOQ)
Cible en molybdène pour le revêtement par pulvérisation sous vide

Cible en molybdène pour le revêtement par pulvérisation sous vide

45,00 $US
1 kg(MOQ)
1/2

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
Envoyer demande
Cible en carbure de silicium céramique TMAXCN 99.5% pour le dépôt par pulvérisation

Cible en carbure de silicium céramique TMAXCN 99.5% pour le dépôt par pulvérisation

78,00-90,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Marque TMAXCN en stock 99.99 % Cible de pulvérisation en cuivre Cu de haute pureté

Marque TMAXCN en stock 99.99 % Cible de pulvérisation en cuivre Cu de haute pureté

78,00-90,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en aluminium (Al) de haute pureté de la marque TMAXCN 4" Dia. X 0.25" 4n

Cible de pulvérisation en aluminium (Al) de haute pureté de la marque TMAXCN 4" Dia. X 0.25" 4n

78,00-90,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation TMAXCN de haute pureté 99.95% Fer Nickel Fe-Ni pour revêtement de film mince métallique

Cible de pulvérisation TMAXCN de haute pureté 99.95% Fer Nickel Fe-Ni pour revêtement de film mince métallique

78,00-90,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Luoyang Bless Tungsten & Molybdenum Materials Co., Ltd.

12 ans
·Société Commerciale
Envoyer demande
Cibles de pulvérisation en molybdène pour assemblage complexe

Cibles de pulvérisation en molybdène pour assemblage complexe

40,00-43,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cibles de pulvérisation en molybdène de haute qualité

Cibles de pulvérisation en molybdène de haute qualité

66,00-77,00 $US
1 Kg(MOQ)
Flexion et pliage des cibles de pulvérisation de molybdène

Flexion et pliage des cibles de pulvérisation de molybdène

40,00-43,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cibles de pulvérisation en molybdène de très haute pureté

Cibles de pulvérisation en molybdène de très haute pureté

20,00-86,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/1

Lonwin Industry Group Limited

5.0
Envoyer demande
Cible en alliage métallique de titane niobium pour pulvérisation pour revêtement

Cible en alliage métallique de titane niobium pour pulvérisation pour revêtement

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.9% Nbsi2 Cibles en céramique Niobium Disilicide Cibles de pulvérisation

99.9% Nbsi2 Cibles en céramique Niobium Disilicide Cibles de pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.9% Cible de pulvérisation en alliage de titane et d'aluminium pur Tial pour revêtement décoratif

99.9% Cible de pulvérisation en alliage de titane et d'aluminium pur Tial pour revêtement décoratif

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.9% Nisi2 Cibles en céramique Cibles de siliciure de nickel

99.9% Nisi2 Cibles en céramique Cibles de siliciure de nickel

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 ans
·Société Commerciale
Envoyer demande
Cibles en alliage de titane et d'aluminium PVD, cibles de pulvérisation en titane, cible en alliage Tial pour revêtement

Cibles en alliage de titane et d'aluminium PVD, cibles de pulvérisation en titane, cible en alliage Tial pour revêtement

10,00-25,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Prix de la cible de pulvérisation en titane PVD personnalisée

Prix de la cible de pulvérisation en titane PVD personnalisée

10,00-25,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en titane personnalisée pour des besoins de revêtement spécialisés

Cible de pulvérisation en titane personnalisée pour des besoins de revêtement spécialisés

10,00-25,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en titane de haute pureté Gr1 Gr2 pour PVD

Cible de pulvérisation en titane de haute pureté Gr1 Gr2 pour PVD

10,00-25,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Shenzhen Silver Technologies Ltd

Envoyer demande
Matériau de cible de pulvérisation en or de haute pureté traitement personnalisé

Matériau de cible de pulvérisation en or de haute pureté traitement personnalisé

200,00 $US
100 g(MOQ)
Cible en or pur pour le revêtement par pulvérisation sous vide

Cible en or pur pour le revêtement par pulvérisation sous vide

200,00 $US
10 g(MOQ)
Cible de pulvérisation en or pur premium 99.99% pour applications avancées

Cible de pulvérisation en or pur premium 99.99% pour applications avancées

200,00 $US
10 g(MOQ)
Cible de pulvérisation en or 99.99% Cible de haute qualité en Au Cible en or pur

Cible de pulvérisation en or 99.99% Cible de haute qualité en Au Cible en or pur

200,00 $US
100 g(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible de pulvérisation en zirconium de haute qualité 705 pour des solutions sur mesure aujourd'hui

Cible de pulvérisation en zirconium de haute qualité 705 pour des solutions sur mesure aujourd'hui

Négociable
10 Kg(MOQ)
Cible de pulvérisation en zirconium 705 pour des solutions métalliques personnalisées de haute qualité

Cible de pulvérisation en zirconium 705 pour des solutions métalliques personnalisées de haute qualité

Négociable
10 Kg(MOQ)
Matériau de cible de pulvérisation pour revêtement sous vide, cible courbée, haute pureté, plaque d'hafnium

Matériau de cible de pulvérisation pour revêtement sous vide, cible courbée, haute pureté, plaque d'hafnium

Négociable
2 Kg(MOQ)
Particules de tantale sphériques pour des techniques de revêtement par pulvérisation supérieures

Particules de tantale sphériques pour des techniques de revêtement par pulvérisation supérieures

Négociable
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible de pulvérisation rotative 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

Cible de pulvérisation rotative 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.99% Cible de Sputtering en Oxyde de Gallium Cible Plane Ga2o3 Cible

99.99% Cible de Sputtering en Oxyde de Gallium Cible Plane Ga2o3 Cible

300,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation par magnétron Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Cible de pulvérisation par magnétron Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Équipement de pulvérisation plasma revêtement anti-adhérent résistant à l'usure en silice aluminium alumine zirconium

Équipement de pulvérisation plasma revêtement anti-adhérent résistant à l'usure en silice aluminium alumine zirconium

35 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Hubei Fotma Machinery Co., Ltd.

Envoyer demande
99.95% Cible de pulvérisation de molybdène Moly Tube

99.95% Cible de pulvérisation de molybdène Moly Tube

5,00-200,00 $US
1 Kilogram(MOQ)
Produit personnalisé en tungstène, cible en tungstène pur pour pulvérisation

Produit personnalisé en tungstène, cible en tungstène pur pour pulvérisation

40,00-50,00 $US
1 Kg(MOQ)
Tube en molybdène pour cible de pulvérisation 99.95% Tuyau en molybdène pur

Tube en molybdène pour cible de pulvérisation 99.95% Tuyau en molybdène pur

40,00-50,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.95% Feuilles de tungstène noir usinées à la machine, plaque de tungstène

99.95% Feuilles de tungstène noir usinées à la machine, plaque de tungstène

1,00-20,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Société Commerciale
Envoyer demande
Cible de pulvérisation en tungstène haute pureté 99.95% Dépôt de films minces pour semi-conducteurs personnalisable norme ASTM

Cible de pulvérisation en tungstène haute pureté 99.95% Dépôt de films minces pour semi-conducteurs personnalisable norme ASTM

60,00-100,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible en tungstène rotative premium pour des applications de pulvérisation efficaces

Cible en tungstène rotative premium pour des applications de pulvérisation efficaces

50,00-270,00 $US
10 Kg(MOQ)
Cible de Molybdène Pur Ultra Dense 99.9% 100mm Diamètre Revêtement de Film Mince Optionnel RoHS

Cible de Molybdène Pur Ultra Dense 99.9% 100mm Diamètre Revêtement de Film Mince Optionnel RoHS

30,00-60,00 $US
10 Kg(MOQ)
Cible de pulvérisation en molybdène personnalisable avec haute densité pour des applications de revêtement de semi-conducteurs et de verre

Cible de pulvérisation en molybdène personnalisable avec haute densité pour des applications de revêtement de semi-conducteurs et de verre

30,00-80,00 $US
10 Kg(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible Wti / Cibles de pulvérisation / Haute qualité Wti

Cible Wti / Cibles de pulvérisation / Haute qualité Wti

1,00-100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation

Cible de pulvérisation

0,10-100,00 $US
1 000 Pièces(MOQ)
W Cible

W Cible

100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible Cr avec haute qualité

Cible Cr avec haute qualité

0,10-100,00 $US
1 000 Pièces(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 ans
·Fabricant/Usine
Envoyer demande
Al, cible de pulvérisation de Cr pour évaporation thermique et machine de pulvérisation magnétron

Al, cible de pulvérisation de Cr pour évaporation thermique et machine de pulvérisation magnétron

30,00-200,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Source de pulvérisation à magnétron sous haute vide pour le processus de revêtement PVD

Source de pulvérisation à magnétron sous haute vide pour le processus de revêtement PVD

1 800,00-2 000,00 $US
1 set(MOQ)
Coateur de pulvérisation à plasma à double cible de bureau pour échantillon SEM et chrome

Coateur de pulvérisation à plasma à double cible de bureau pour échantillon SEM et chrome

7 900,00-8 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation cathodique à cible triple avec alimentation DC PVD

Machine de revêtement par pulvérisation cathodique à cible triple avec alimentation DC PVD

38 000,00-39 500,00 $US
1 set(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible de titane par pulvérisation, cible de pulvérisation de titane, revêtement sous vide, cible en titane

Cible de titane par pulvérisation, cible de pulvérisation de titane, revêtement sous vide, cible en titane

100,00-300,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Revêtement de Titane Target/Gr2 Cible en Titane Cible de Sputtering en Titane

Revêtement de Titane Target/Gr2 Cible en Titane Cible de Sputtering en Titane

100,00-300,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Fournisseurs de cibles en titane pour dépôt par pulvérisation de haute pureté Fabricants de cibles en titane

Fournisseurs de cibles en titane pour dépôt par pulvérisation de haute pureté Fabricants de cibles en titane

100,00-300,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en chrome PVD Cible en chrome/Cible de pulvérisation en Cr

Cible de pulvérisation en chrome PVD Cible en chrome/Cible de pulvérisation en Cr

130,00-300,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
Envoyer demande
Cible de magnétron cylindrique pour revêtement PVD sous vide, tubes en titane, matériaux bruts pour le revêtement, cathodes

Cible de magnétron cylindrique pour revêtement PVD sous vide, tubes en titane, matériaux bruts pour le revêtement, cathodes

800,00-1 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Bloc en titane de haute pureté personnalisé, matériau en titane sous vide, matériau de plaquage ionique multi-arc, cible métallique

Bloc en titane de haute pureté personnalisé, matériau en titane sous vide, matériau de plaquage ionique multi-arc, cible métallique

500,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
5-200kw Source de pulvérisation typique pour les industries de revêtement en film mince cathode à magnétron rotatif cible de pulvérisation rotative

5-200kw Source de pulvérisation typique pour les industries de revêtement en film mince cathode à magnétron rotatif cible de pulvérisation rotative

6 900,00-7 000,00 $US
2 sets(MOQ)
Cathode rotative, tube cylindrique cible pour machine à revêtement

Cathode rotative, tube cylindrique cible pour machine à revêtement

6 700,00-6 800,00 $US
2 sets(MOQ)
1/4

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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Usine chinoise de cible de pulvérisation en cuivre (Cu) de haute pureté 6n 99.9999%

Usine chinoise de cible de pulvérisation en cuivre (Cu) de haute pureté 6n 99.9999%

89,00-180,00 $US
1 000 kilograms(MOQ)
Cibles en cuivre d'une pureté ultra 99.9999% 7n5

Cibles en cuivre d'une pureté ultra 99.9999% 7n5

26,99-53,03 $US
1 000 kilograms(MOQ)
C110/C10100/Tu00 5n Cible de pulvérisation en cuivre de haute pureté 99.999% pour revêtement optique

C110/C10100/Tu00 5n Cible de pulvérisation en cuivre de haute pureté 99.999% pour revêtement optique

79,99 $US
50 Kg(MOQ)
99.9999% 6n Cibles de pulvérisation en cuivre de haute pureté avec plaque de support

99.9999% 6n Cibles de pulvérisation en cuivre de haute pureté avec plaque de support

335,00-350,00 $US
100 Kg(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Cible de pulvérisation en plasma de haute pureté

Cible de pulvérisation en plasma de haute pureté

65,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Dépôt par pulvérisation magnétron à double cible en courant continu pour films minces métalliques et oxydes

Dépôt par pulvérisation magnétron à double cible en courant continu pour films minces métalliques et oxydes

21 000,00-26 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Appareil de revêtement par pulvérisation magnétron à cible unique en acier inoxydable de bureau

Appareil de revêtement par pulvérisation magnétron à cible unique en acier inoxydable de bureau

8 730,00-8 900,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation plasma à double cible pour film AG Pd

Machine de revêtement par pulvérisation plasma à double cible pour film AG Pd

3 000,00-5 000,00 $US
1 set(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

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Disque céramique de hexaborure de lanthane Lab6 pour pulvérisation

Disque céramique de hexaborure de lanthane Lab6 pour pulvérisation

50,00-200,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation céramique d'hexaborure de lanthane Lab6 pour le revêtement de film mince PVD

Cible de pulvérisation céramique d'hexaborure de lanthane Lab6 pour le revêtement de film mince PVD

50,00-200,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cibles en céramique de hexaborure de lanthane à haute émissivité électronique Lab6

Cibles en céramique de hexaborure de lanthane à haute émissivité électronique Lab6

50,00-200,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation Disque céramique de borure de lanthane Lab6

Cible de pulvérisation Disque céramique de borure de lanthane Lab6

50,00-200,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

LUOYANG COMBAT TUNGSTEN & MOLYBDENUM MATERIAL CO., LTD.

18 ans·5.0
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Cible de pulvérisation de molybdène à haute densité de combat 99.95%

Cible de pulvérisation de molybdène à haute densité de combat 99.95%

55,00-59,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible en titane pur en métal sur mesure 99.6% à vendre

Cible en titane pur en métal sur mesure 99.6% à vendre

35,00-40,00 $US
5 Kg(MOQ)
Feuille de tantale acceptant la personnalisation des clients, feuille mince de tantale à vendre pour l'électronique

Feuille de tantale acceptant la personnalisation des clients, feuille mince de tantale à vendre pour l'électronique

456,80-500,20 $US
1 Kg(MOQ)
Emballage standard d'exportation à faible poids et haute capacité Ta1 à vendre Tube de tantale

Emballage standard d'exportation à faible poids et haute capacité Ta1 à vendre Tube de tantale

588,95-602,26 $US
3 Kg(MOQ)
1/4
18
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