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à propos de Cible de pulvérisation en céramique
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Cible de pulvérisation en céramique90+ usines vérifiées

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Cible céramique au silicium-polyéthylène pour pulvérisation de la cible/photovoltaïque solaire

Cible céramique au silicium-polyéthylène pour pulvérisation de la cible/photovoltaïque solaire

35,00-50,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible en silicium monocristallin Mono-Si pour la pulvérisation, cible céramique pour photovoltaïques solaires, téléphone mobile

Cible en silicium monocristallin Mono-Si pour la pulvérisation, cible céramique pour photovoltaïques solaires, téléphone mobile

35,00-75,00 $US
1 Kg(MOQ)
In2O3+Cu céramique cible oxyde indium+Cuprum céramique cible de pulvérisation pour LCD/Touch Panneau

In2O3+Cu céramique cible oxyde indium+Cuprum céramique cible de pulvérisation pour LCD/Touch Panneau

40,00 $US
1 Kg(MOQ)
SrRuO3 cible Strontium ruthénate cible de pulvérisation céramique pour optique mince Revêtement de film

SrRuO3 cible Strontium ruthénate cible de pulvérisation céramique pour optique mince Revêtement de film

40,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

Envoyer demande
99.9% Cible de pulvérisation en nitrure d'aluminium pur Aln, cible céramique plane pour la recherche scientifique

99.9% Cible de pulvérisation en nitrure d'aluminium pur Aln, cible céramique plane pour la recherche scientifique

25,00-30,00 $US
10 Pièces(MOQ)
Cible de pulvérisation céramique Xinkang In2o3/Sno2

Cible de pulvérisation céramique Xinkang In2o3/Sno2

35,00-150,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en alumine de haute pureté 99.99% Al2O3 Cible en céramique d'oxyde d'aluminium

Cible de pulvérisation en alumine de haute pureté 99.99% Al2O3 Cible en céramique d'oxyde d'aluminium

35,00-55,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation ITO Xinkang 99.99% In2o3/Sno2 90/10wt% Cible en céramique pour pulvérisation

Cible de pulvérisation ITO Xinkang 99.99% In2o3/Sno2 90/10wt% Cible en céramique pour pulvérisation

35,00-150,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
Envoyer demande
99.98% Mo2c Cibles en céramique de carbure de molybdène pour pulvérisation

99.98% Mo2c Cibles en céramique de carbure de molybdène pour pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.95% Cible en céramique Izo oxyde d'indium et de zinc pour pulvérisation

99.95% Cible en céramique Izo oxyde d'indium et de zinc pour pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.9% Cible en céramique de silicium carbure pour revêtement

99.9% Cible en céramique de silicium carbure pour revêtement

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cuo-In2o3 Cibles en céramique oxyde de cuivre - oxyde d'indium cible de pulvérisation

Cuo-In2o3 Cibles en céramique oxyde de cuivre - oxyde d'indium cible de pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 ans
·Société Commerciale
Envoyer demande
Cible céramique revêtue en carbure de silicium Sic haute pureté traitement par pulvérisation magnétron personnalisation

Cible céramique revêtue en carbure de silicium Sic haute pureté traitement par pulvérisation magnétron personnalisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Carbure de silicium cible SIC 99.9% revêtement revêtement cible céramique

Carbure de silicium cible SIC 99.9% revêtement revêtement cible céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de haute pureté 99.9%- 99.99% Ruo2, cible de dioxyde de ruthénium pour pulvérisation 1-10inch

Cible de haute pureté 99.9%- 99.99% Ruo2, cible de dioxyde de ruthénium pour pulvérisation 1-10inch

2 000,00-4 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation de métal au tantale de haute pureté pour le revêtement de couche mince

Cible de pulvérisation de métal au tantale de haute pureté pour le revêtement de couche mince

300,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

Envoyer demande
Disque céramique de hexaborure de lanthane Lab6 pour pulvérisation

Disque céramique de hexaborure de lanthane Lab6 pour pulvérisation

50,00-200,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation céramique d'hexaborure de lanthane Lab6 pour le revêtement de film mince PVD

Cible de pulvérisation céramique d'hexaborure de lanthane Lab6 pour le revêtement de film mince PVD

50,00-200,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cibles en céramique de hexaborure de lanthane à haute émissivité électronique Lab6

Cibles en céramique de hexaborure de lanthane à haute émissivité électronique Lab6

50,00-200,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation Disque céramique de borure de lanthane Lab6

Cible de pulvérisation Disque céramique de borure de lanthane Lab6

50,00-200,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
Envoyer demande
Cible en carbure de silicium céramique TMAXCN 99.5% pour le dépôt par pulvérisation

Cible en carbure de silicium céramique TMAXCN 99.5% pour le dépôt par pulvérisation

78,00-90,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Marque TMAXCN Haute Densité Zn2sno4 Cible de Pulvérisation de Stannate de Zinc Matériau de Revêtement Céramique

Marque TMAXCN Haute Densité Zn2sno4 Cible de Pulvérisation de Stannate de Zinc Matériau de Revêtement Céramique

78,00-90,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coateur conductif à magnétron par pulvérisation DC/RF de banc pour métaux, oxydes, céramiques et semi-conducteurs

Coateur conductif à magnétron par pulvérisation DC/RF de banc pour métaux, oxydes, céramiques et semi-conducteurs

15 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation céramique de haute pureté TMAXCN 99.5% en carbure de bore pur B4c

Cible de pulvérisation céramique de haute pureté TMAXCN 99.5% en carbure de bore pur B4c

78,00-90,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible en alliage de titane et d'aluminium par métallisation sous vide

Cible en alliage de titane et d'aluminium par métallisation sous vide

30,00-100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
La machine de pulvérisation par magnétron peut traiter les couleurs sombres

La machine de pulvérisation par magnétron peut traiter les couleurs sombres

15 000,00-150 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Système de pulvérisation par magnétron à fréquence moyenne sous vide PVD

Système de pulvérisation par magnétron à fréquence moyenne sous vide PVD

15 000,00-150 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement PVD par arc et éclatement pour pièces en acier inoxydable

Machine de revêtement PVD par arc et éclatement pour pièces en acier inoxydable

15 000,00-85 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Shandong Pengcheng Advanced Ceramics Co., Ltd.

12 ans·5.0
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
Envoyer demande
Cible de pulvérisation en nitrure de bore, bateaux d'évaporation en nitrure de bore, crucible en céramique de nitrure de bore pour applications électriques

Cible de pulvérisation en nitrure de bore, bateaux d'évaporation en nitrure de bore, crucible en céramique de nitrure de bore pour applications électriques

150,00-160,00 $US
100 Kg(MOQ)
Cibles de pulvérisation en diborure de titane (TiB2) Plaque en céramique

Cibles de pulvérisation en diborure de titane (TiB2) Plaque en céramique

30,00 $US
50 Kg(MOQ)
Tib2 Cible de pulvérisation en céramique diborure de titane

Tib2 Cible de pulvérisation en céramique diborure de titane

30,00 $US
50 Kg(MOQ)
1/4

Hebei Zhongyi Import and Export Co., Ltd.

3 ans
·Société Commerciale
Envoyer demande
Cible de pulvérisation céramique en disulfure de tungstène de haute pureté Ws2 pour applications de revêtement

Cible de pulvérisation céramique en disulfure de tungstène de haute pureté Ws2 pour applications de revêtement

9,00-12,00 $US
10 Kg(MOQ)
Cible de pulvérisation en disulfure de tungstène pur Ws2 pour un revêtement céramique de haute qualité

Cible de pulvérisation en disulfure de tungstène pur Ws2 pour un revêtement céramique de haute qualité

9,00-12,00 $US
10 Kg(MOQ)
1/4

BIOTIO SHANGHAI CORP CO., LTD.

5.0
Envoyer demande
Pellets d'aluminium APP-512 Cible de pulvérisation haute pureté 99.999% en stock

Pellets d'aluminium APP-512 Cible de pulvérisation haute pureté 99.999% en stock

3 180,00-8 500,00 $US
1 Tonne(MOQ)
Paillettes d'aluminium API-625 Cible de pulvérisation haute pureté 99.999% en stock

Paillettes d'aluminium API-625 Cible de pulvérisation haute pureté 99.999% en stock

3 180,00-8 500,00 $US
1 Tonne(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

Envoyer demande
Cible de ruthénium par pulvérisation magnétron haute pureté

Cible de ruthénium par pulvérisation magnétron haute pureté

32 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Matériau cible en nitrure de silicium de haute pureté

Matériau cible en nitrure de silicium de haute pureté

15 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible en cuivre de haute pureté pour pulvérisation sous vide

Cible en cuivre de haute pureté pour pulvérisation sous vide

2 200,00 $US
1 Pièce(MOQ)
4n Cible de pulvérisation en tungstène de haute précision

4n Cible de pulvérisation en tungstène de haute précision

3 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible ronde en nickel de haute qualité pour la pulvérisation

Cible ronde en nickel de haute qualité pour la pulvérisation

10,00 $US
1 pcs(MOQ)
Surface polie de haute dureté et cible en tube de nickel de pureté supérieure

Surface polie de haute dureté et cible en tube de nickel de pureté supérieure

30,00 $US
10 Pièces(MOQ)
Cible de pulvérisation ronde en zirconium à haute température de fusion Zr702

Cible de pulvérisation ronde en zirconium à haute température de fusion Zr702

15,00 $US
1 pcs(MOQ)
Bonne conductivité thermique et électrique tige ronde en zirconium pur

Bonne conductivité thermique et électrique tige ronde en zirconium pur

15,00 $US
10 kg(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Prix des cibles de titane de haute pureté pour le revêtement PVD / Cible de titane par pulvérisation / Cible ronde en titane à vendre

Prix des cibles de titane de haute pureté pour le revêtement PVD / Cible de titane par pulvérisation / Cible ronde en titane à vendre

80,00-300,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de fabrication de verre conducteur ITO, technologie de pulvérisation magnétron PVD

Machine de fabrication de verre conducteur ITO, technologie de pulvérisation magnétron PVD

45 000,00-150 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Film décoratif Cicel Dépôt Coater sous vide (CCZK-ION)

Film décoratif Cicel Dépôt Coater sous vide (CCZK-ION)

45 000,00-150 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Fournisseur de machines de revêtement sous vide par pulvérisation magnétron en verre Low-E en promotion

Fournisseur de machines de revêtement sous vide par pulvérisation magnétron en verre Low-E en promotion

45 000,00-150 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Nitrude de bore (BN) Nitrude céramique PVD Sputtering Target, Diboride de titane, boride de titane, taille personnalisée, fixation de plaque de support

Nitrude de bore (BN) Nitrude céramique PVD Sputtering Target, Diboride de titane, boride de titane, taille personnalisée, fixation de plaque de support

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Titanate de baryum Batio3 cible, baryum strontium titanate cible Basrtio3, PVD Magnetron cible de pulvérisation, consommables de laboratoire

Titanate de baryum Batio3 cible, baryum strontium titanate cible Basrtio3, PVD Magnetron cible de pulvérisation, consommables de laboratoire

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Matériau cible en oxyde de zinc aluminium (AZO) de haute pureté, oxyde de zinc (ZnO) dopé d'oxyde d'aluminium (Al2O3), cible en oxyde de pulvérisation de magnétron, fixation de plaque arrière

Matériau cible en oxyde de zinc aluminium (AZO) de haute pureté, oxyde de zinc (ZnO) dopé d'oxyde d'aluminium (Al2O3), cible en oxyde de pulvérisation de magnétron, fixation de plaque arrière

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent à oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron

Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent à oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 ans
·Fabricant/Usine
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Revêtement par pulvérisation magnétron à double cible RF en céramique, diélectrique, optique, oxyde, film dur, film PTFE

Revêtement par pulvérisation magnétron à double cible RF en céramique, diélectrique, optique, oxyde, film dur, film PTFE

26 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Sputtering à cible unique avec fonction d'enroulement de fibre optique

Sputtering à cible unique avec fonction d'enroulement de fibre optique

28 000,00-29 500,00 $US
1 set(MOQ)
Revêtement par pulvérisation magnétron simple, double, triple avec moniteur d'épaisseur de film

Revêtement par pulvérisation magnétron simple, double, triple avec moniteur d'épaisseur de film

60 000,00-61 200,00 $US
1 set(MOQ)
Revêtement par pulvérisation magnétron à cible unique avec moniteur d'épaisseur de film

Revêtement par pulvérisation magnétron à cible unique avec moniteur d'épaisseur de film

18 000,00-19 200,00 $US
1 set(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Quatre coateurs à magnétron par pulvérisation cible avec chambre de chargement pour film mince en céramique

Quatre coateurs à magnétron par pulvérisation cible avec chambre de chargement pour film mince en céramique

28 500,00-40 100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Dépôt par pulvérisation magnétron à double cible en courant continu pour films minces métalliques et oxydes

Dépôt par pulvérisation magnétron à double cible en courant continu pour films minces métalliques et oxydes

21 000,00-26 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Appareil de revêtement par pulvérisation magnétron à cible unique en acier inoxydable de bureau

Appareil de revêtement par pulvérisation magnétron à cible unique en acier inoxydable de bureau

8 730,00-8 900,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Trois instruments de pulvérisation par magnétron à trois cibles pour films semi-conducteurs

Trois instruments de pulvérisation par magnétron à trois cibles pour films semi-conducteurs

37 300,00-126 870,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Nitrude de bore (BN) Nitrude céramique PVD Sputtering Target, Diboride de titane, boride de titane, taille personnalisée, fixation de plaque de support

Nitrude de bore (BN) Nitrude céramique PVD Sputtering Target, Diboride de titane, boride de titane, taille personnalisée, fixation de plaque de support

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent pour semi-conducteur d'oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron, spécifications personnalisées

Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent pour semi-conducteur d'oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron, spécifications personnalisées

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Matériau cible IGZO (oxyde de zinc de Gallium indium) de haute pureté pour revêtement sous vide, matériel de recherche et matériel expérimental par pulvérisation de magnétron PVD

Matériau cible IGZO (oxyde de zinc de Gallium indium) de haute pureté pour revêtement sous vide, matériel de recherche et matériel expérimental par pulvérisation de magnétron PVD

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Baryum tianate Batio3 cible, baryum strontium titanate cible Basrtio3, PVD Magnetron cible de pulvérisation, consommables de laboratoire, particules, collage de support

Baryum tianate Batio3 cible, baryum strontium titanate cible Basrtio3, PVD Magnetron cible de pulvérisation, consommables de laboratoire, particules, collage de support

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Huita Opto-Electronic Materials Co., Ltd

Envoyer demande
ITO (comprimés) Cible de pulvérisation

ITO (comprimés) Cible de pulvérisation

Négociable
5 Pièces(MOQ)
Le zirconium cible de pulvérisation

Le zirconium cible de pulvérisation

Négociable
5 Pièces(MOQ)
Cible Tiox

Cible Tiox

Négociable
5 Pièces(MOQ)
Cible de l'OTI

Cible de l'OTI

Négociable
5 Pièces(MOQ)

China Rare Metal Material Co., Ltd.

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Cibles de pulvérisation en céramique

Cibles de pulvérisation en céramique

100,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

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Ybco YBA2CU3O7 Yttrium oxyde de cuivre de baryum cible de pulvérisation

Ybco YBA2CU3O7 Yttrium oxyde de cuivre de baryum cible de pulvérisation

250,00-500,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Hunan Ultra Minor Metals Ltd

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Haut de la pureté de l'osmium pulvérisation cible cible pour l'industrie à film mince

Haut de la pureté de l'osmium pulvérisation cible cible pour l'industrie à film mince

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Deyang Aijialun Vacuum Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible de pulvérisation ITO

Cible de pulvérisation ITO

20,00-1 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Cibles de pulvérisation en métaux rares de haute qualité pour distribution mondiale

Cibles de pulvérisation en métaux rares de haute qualité pour distribution mondiale

150,00-350,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en yttrium de haute pureté pour la technologie laser avancée

Cible de pulvérisation en yttrium de haute pureté pour la technologie laser avancée

115,00-130,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible en métal d'ytterbium premium de pulvérisation personnalisée OEM rare terre

Cible en métal d'ytterbium premium de pulvérisation personnalisée OEM rare terre

190,00-199,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cibles de pulvérisation en terres rares personnalisables et de qualité supérieure pour l'énergie solaire

Cibles de pulvérisation en terres rares personnalisables et de qualité supérieure pour l'énergie solaire

115,00-130,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 ans·5.0
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Mo1 Prix de la cible de molybdène pour la pulvérisation

Mo1 Prix de la cible de molybdène pour la pulvérisation

40,00-88,00 $US
1 kg(MOQ)
Plaque de molybdène cible de qualité supérieure

Plaque de molybdène cible de qualité supérieure

40,00-88,00 $US
1 kg(MOQ)
Crucible en molybdène Mo-La personnalisé à haute température

Crucible en molybdène Mo-La personnalisé à haute température

31,00-49,00 $US
1 kg(MOQ)
Plateau en molybdène digne de confiance

Plateau en molybdène digne de confiance

32,00-54,00 $US
1 kg(MOQ)
1/2

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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L'Yttrium oxyde de zirconium Ysz(ZRO2/Y2O3 99,99 % cible de pulvérisation cible en céramique

L'Yttrium oxyde de zirconium Ysz(ZRO2/Y2O3 99,99 % cible de pulvérisation cible en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en céramique de formes diverses pour le composé de revêtement PVD Cible

Cible de pulvérisation en céramique de formes diverses pour le composé de revêtement PVD Cible

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Pulvérisation de l'OTI cible de l'Indium tin oxide 4n 99,99 % pour le revêtement optique

Pulvérisation de l'OTI cible de l'Indium tin oxide 4n 99,99 % pour le revêtement optique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Pulvérisation azo cible oxyde de zinc en aluminium pour l'évaporation Thin-Film revêtement optique

Pulvérisation azo cible oxyde de zinc en aluminium pour l'évaporation Thin-Film revêtement optique

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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5-200kw Source de pulvérisation typique pour les industries de revêtement en film mince cathode à magnétron rotatif cible de pulvérisation rotative

5-200kw Source de pulvérisation typique pour les industries de revêtement en film mince cathode à magnétron rotatif cible de pulvérisation rotative

6 900,00-7 000,00 $US
2 sets(MOQ)
Cathode rotative, tube cylindrique cible pour machine à revêtement

Cathode rotative, tube cylindrique cible pour machine à revêtement

6 700,00-6 800,00 $US
2 sets(MOQ)
Machine de pulvérisation par magnétron PVD pour le traitement de surface céramique

Machine de pulvérisation par magnétron PVD pour le traitement de surface céramique

80 000,00-180 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation magnétron à haute précision pour substrats en métal, verre et céramique

Machine de revêtement par pulvérisation magnétron à haute précision pour substrats en métal, verre et céramique

80 000,00-180 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
1/4

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

Envoyer demande
99.999% Plaque de cible en silicium monocrystallin de haute pureté / Cible en céramique de silicium

99.999% Plaque de cible en silicium monocrystallin de haute pureté / Cible en céramique de silicium

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
4n Cible Azo ZnO : Al2O3 Cibles de pulvérisation rotative

4n Cible Azo ZnO : Al2O3 Cibles de pulvérisation rotative

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cibles de pulvérisation en graphite carboné de haute pureté sur mesure 99.99% Cible en cuivre de liaison

Cibles de pulvérisation en graphite carboné de haute pureté sur mesure 99.99% Cible en cuivre de liaison

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
4n Nbo2 Cibles en oxyde de niobium rotatives Cibles plates

4n Nbo2 Cibles en oxyde de niobium rotatives Cibles plates

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 ans
·Société Commerciale
Envoyer demande
Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible de Sputtering ITO Rotatif 4n In2o3 et Sno2

Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible de Sputtering ITO Rotatif 4n In2o3 et Sno2

Négociable
1 Piece(MOQ)
Prix d'usine Vendre faible densité 4n cible ronde ITO petite

Prix d'usine Vendre faible densité 4n cible ronde ITO petite

Négociable
1 Piece(MOQ)
Prix d'usine vendre cible ITO haute pureté pour Rpd 4n

Prix d'usine vendre cible ITO haute pureté pour Rpd 4n

Négociable
1 Piece(MOQ)
Prix d'usine vendre cible ronde petite en oxyde d'indium et d'étain ITO haute densité 4n

Prix d'usine vendre cible ronde petite en oxyde d'indium et d'étain ITO haute densité 4n

Négociable
1 Piece(MOQ)
1/4

UV Tech Material Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible de l'OTI planaire rotatif, pulvérisation magnétron cible, In2O3 : Sno2 cible, 90 : 10 ITO, 95 : 5, 97 : 3 de l'OTI OTI

Cible de l'OTI planaire rotatif, pulvérisation magnétron cible, In2O3 : Sno2 cible, 90 : 10 ITO, 95 : 5, 97 : 3 de l'OTI OTI

Négociable
10 Kg(MOQ)
Cible Nbox rotatif 99,95 % cible de pulvérisation de haute qualité

Cible Nbox rotatif 99,95 % cible de pulvérisation de haute qualité

Négociable
2 Pièces(MOQ)
Le Rotary Tiox cible, principalement pour l'application Low-E le revêtement du verre, pulvérisation magnétron cible, cible d'oxyde de titane

Le Rotary Tiox cible, principalement pour l'application Low-E le revêtement du verre, pulvérisation magnétron cible, cible d'oxyde de titane

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Hétérojonction cible de l'OTI, de haute pureté pour l'hétérojonction cible Pulvérisation de l'OTI, 97 : 3 Hjt cible de l'OTI

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Le Bi2O3 cible de pulvérisation en céramique

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Bifeo3 cible de pulvérisation en céramique

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Le Bi2Te3 cible de pulvérisation

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Azo cibles cylindrique

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