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à propos de cible de pulvérisation igzo
  • Innovation technologique
  • Chaînes d'Achats fiables
  • Capacités de Fabrication Substantielles

cible de pulvérisation igzo8 usines vérifiées

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.99% Cible en céramique Igzo oxyde d'indium, de gallium et de zinc

99.99% Cible en céramique Igzo oxyde d'indium, de gallium et de zinc

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.95% Disque de Niobium Pur Nb Cibles de Sputtering en Niobium pour le Processus PVD

99.95% Disque de Niobium Pur Nb Cibles de Sputtering en Niobium pour le Processus PVD

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.95% Cible en céramique Izo oxyde d'indium et de zinc pour pulvérisation

99.95% Cible en céramique Izo oxyde d'indium et de zinc pour pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.99% VSI2 Cibles en céramique Disiliciure de vanadium Cibles de pulvérisation

99.99% VSI2 Cibles en céramique Disiliciure de vanadium Cibles de pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Matériau cible IGZO (oxyde de zinc de Gallium indium) de haute pureté pour revêtement sous vide, matériel de recherche et matériel expérimental par pulvérisation de magnétron PVD

Matériau cible IGZO (oxyde de zinc de Gallium indium) de haute pureté pour revêtement sous vide, matériel de recherche et matériel expérimental par pulvérisation de magnétron PVD

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.9% Cible de pulvérisation en oxyde d'hafnium Hfo2 Disque pour revêtement sous vide

99.9% Cible de pulvérisation en oxyde d'hafnium Hfo2 Disque pour revêtement sous vide

110,00-120,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible en dioxyde de manganèse Mno2 Service personnalisé

Cible en dioxyde de manganèse Mno2 Service personnalisé

110,00-120,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99 99% Cible de pulvérisation en titane et tungstène pour le revêtement de films minces de précision

99 99% Cible de pulvérisation en titane et tungstène pour le revêtement de films minces de précision

100,00-1 000,00 $US
1 pieces(MOQ)
99.9%Tantalum Cibles de pulvérisation en nitrure (TaN) pour le revêtement des semi-conducteurs

99.9%Tantalum Cibles de pulvérisation en nitrure (TaN) pour le revêtement des semi-conducteurs

110,00-120,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 ans
·Société Commerciale
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Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible de Sputtering ITO Rotatif 4n In2o3 et Sno2

Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible de Sputtering ITO Rotatif 4n In2o3 et Sno2

Négociable
1 Piece(MOQ)
Prix d'usine vendre cible ITO haute pureté pour Rpd 4n

Prix d'usine vendre cible ITO haute pureté pour Rpd 4n

Négociable
1 Piece(MOQ)
Prix d'usine Vendre faible densité 4n cible ronde ITO petite

Prix d'usine Vendre faible densité 4n cible ronde ITO petite

Négociable
1 Piece(MOQ)
Cible métallique ITO de haute pureté 4n oxyde d'indium et oxyde d'étain In2o3 et Sno2

Cible métallique ITO de haute pureté 4n oxyde d'indium et oxyde d'étain In2o3 et Sno2

Négociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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Igzo cible, TFT Igzo de canal, de la couche cible Indium-Gallium-oxyde de zinc

Igzo cible, TFT Igzo de canal, de la couche cible Indium-Gallium-oxyde de zinc

Négociable
1 Pièce(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Cible Sputtering

Cible Sputtering

18,00-20,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Ligne de production de machine de revêtement sous vide PVD en continu pour panneaux solaires Hcvac

Ligne de production de machine de revêtement sous vide PVD en continu pour panneaux solaires Hcvac

500 000,00-5 000 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Machine de revêtement sous vide PVD continu par pulvérisation magnétron pour cellules solaires en verre Hcvac

Machine de revêtement sous vide PVD continu par pulvérisation magnétron pour cellules solaires en verre Hcvac

150 000,00-500 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Équipement de revêtement sous vide pour verre architectural

Équipement de revêtement sous vide pour verre architectural

150 000,00-500 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Systèmes de revêtement par pulvérisation magnétron en verre de grande surface

Systèmes de revêtement par pulvérisation magnétron en verre de grande surface

150 000,00-500 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
1/4

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 4N 99.99% Cible de pulvérisation planaire IGZO de haute pureté pour revêtement sous vide/PVD

ACETRON 4N 99.99% Cible de pulvérisation planaire IGZO de haute pureté pour revêtement sous vide/PVD

99,00-99 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
ACETRON 4N Cible de pulvérisation ITO de haute pureté pour revêtement PVD

ACETRON 4N Cible de pulvérisation ITO de haute pureté pour revêtement PVD

Négociable
1 Pièce(MOQ)
ACETRON 4N Cible en ITO de haute pureté pour revêtement sous vide/revêtement PVD

ACETRON 4N Cible en ITO de haute pureté pour revêtement sous vide/revêtement PVD

Négociable
1 Pièce(MOQ)
CIBLE ROTATIVE IGZO DE HAUTE PURETÉ ACETRON 4N 99.99% pour REVÊTEMENT PAR VIDE/REVÊTEMENT PVD

CIBLE ROTATIVE IGZO DE HAUTE PURETÉ ACETRON 4N 99.99% pour REVÊTEMENT PAR VIDE/REVÊTEMENT PVD

99,00-99 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
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