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à propos de cible de pulvérisation en ITO
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cible de pulvérisation en ITO30+ usines vérifiées

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Cibles de pulvérisation d'oxyde d'indium et d'étain ITO au meilleur prix

Cibles de pulvérisation d'oxyde d'indium et d'étain ITO au meilleur prix

50,00-999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en céramique ITO Indium Tin Oxide de haute pureté Xinkang 99.99%

Cible de pulvérisation en céramique ITO Indium Tin Oxide de haute pureté Xinkang 99.99%

35,00-150,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Fournisseur de cible de pulvérisation ITO de haute pureté

Fournisseur de cible de pulvérisation ITO de haute pureté

20,00-30,00 $US
10 Pièces(MOQ)
Cible en céramique 99.99% cible de pulvérisation en oxyde d'indium-étain

Cible en céramique 99.99% cible de pulvérisation en oxyde d'indium-étain

110,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 ans
·Fabricant/Usine
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Al, cible de pulvérisation de Cr pour évaporation thermique et machine de pulvérisation magnétron

Al, cible de pulvérisation de Cr pour évaporation thermique et machine de pulvérisation magnétron

30,00-200,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coqueur de pulvérisation à magnétron à cible à fond unique pour revêtements ITO

Coqueur de pulvérisation à magnétron à cible à fond unique pour revêtements ITO

19 000,00-21 000,00 $US
1 set(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation magnétron sous vide de bureau pour films ITO

Machine de revêtement par pulvérisation magnétron sous vide de bureau pour films ITO

17 850,00-18 600,00 $US
1 set(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation magnétron RF à haute vide pour le dépôt de film ITO

Machine de revêtement par pulvérisation magnétron RF à haute vide pour le dépôt de film ITO

18 000,00-23 000,00 $US
1 set(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Cible de pulvérisation ITO (oxyde d'indium et d'étain) de haute pureté 99.99% pour revêtement PVD

Cible de pulvérisation ITO (oxyde d'indium et d'étain) de haute pureté 99.99% pour revêtement PVD

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.9% Cible de pulvérisation en nickel Ni Matériau métallique Cible de pulvérisation rotative en nickel Ni

99.9% Cible de pulvérisation en nickel Ni Matériau métallique Cible de pulvérisation rotative en nickel Ni

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
3n, 4n, 5n Personnalisé Al2O3 Cible Céramique Cibles de Pulvérisation d'Oxyde d'Aluminium

3n, 4n, 5n Personnalisé Al2O3 Cible Céramique Cibles de Pulvérisation d'Oxyde d'Aluminium

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.99% Cibles de sputtering en céramique de carbure d'hafnium

99.99% Cibles de sputtering en céramique de carbure d'hafnium

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 ans
·Société Commerciale
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Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible de Sputtering ITO Rotatif 4n In2o3 et Sno2

Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible de Sputtering ITO Rotatif 4n In2o3 et Sno2

Négociable
1 Piece(MOQ)
Prix d'usine vendre cible ITO haute pureté pour Rpd 4n

Prix d'usine vendre cible ITO haute pureté pour Rpd 4n

Négociable
1 Piece(MOQ)
Prix d'usine Vendre faible densité 4n cible ronde ITO petite

Prix d'usine Vendre faible densité 4n cible ronde ITO petite

Négociable
1 Piece(MOQ)
Cible métallique ITO de haute pureté 4n oxyde d'indium et oxyde d'étain In2o3 et Sno2

Cible métallique ITO de haute pureté 4n oxyde d'indium et oxyde d'étain In2o3 et Sno2

Négociable
1 Piece(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Cible ITO Haute Density>99.8% Basse Densité : 60% Cible de Sputtering en Oxyde d'Indium et d'Étain pour Panneau Tactile LCD/LED

Cible ITO Haute Density>99.8% Basse Densité : 60% Cible de Sputtering en Oxyde d'Indium et d'Étain pour Panneau Tactile LCD/LED

340,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Cible en oxyde d'indium et d'étain ITO pour pulvérisation sous vide PVD cible verte

Cible en oxyde d'indium et d'étain ITO pour pulvérisation sous vide PVD cible verte

4 600,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Plaque de cuivre Usine de Guangdong l'Indium tin oxide ITO Cibles de pulvérisation

Plaque de cuivre Usine de Guangdong l'Indium tin oxide ITO Cibles de pulvérisation

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Plaque ITO haute pureté PVD revêtement sous vide épissé liant Magnétron Cibles de pulvérisation

Plaque ITO haute pureté PVD revêtement sous vide épissé liant Magnétron Cibles de pulvérisation

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Tube en cuivre haute pureté sans oxygène de haute pureté en usine, crachats de pureté du matériau cible 99.98 % semi-conducteur

Tube en cuivre haute pureté sans oxygène de haute pureté en usine, crachats de pureté du matériau cible 99.98 % semi-conducteur

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Pulvérisation en usine de cuivre cible rotatif pour conducteur semi-conducteur à revêtement métallique

Pulvérisation en usine de cuivre cible rotatif pour conducteur semi-conducteur à revêtement métallique

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)

Uv Tech Material Ltd

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L'OTI 97 : 3 93 : 7 90 : 10 95 : 5wt% 99,99% Retangular rotatif de haute pureté et la plaque cible de la pulvérisation de revêtement sous vide de verre

L'OTI 97 : 3 93 : 7 90 : 10 95 : 5wt% 99,99% Retangular rotatif de haute pureté et la plaque cible de la pulvérisation de revêtement sous vide de verre

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation nbox Nb2O5 bec-de-bouillie cible rotatif haute pureté 99.95% Hip CIP cible Export Vicky-Chan@Uvtm. COM Sial ZnAl Znsn NiCr Azo ITO

Cible de pulvérisation nbox Nb2O5 bec-de-bouillie cible rotatif haute pureté 99.95% Hip CIP cible Export Vicky-Chan@Uvtm. COM Sial ZnAl Znsn NiCr Azo ITO

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Chrome Cr PVD planaire cible le collage sur Cooper Plaque d'appui

Chrome Cr PVD planaire cible le collage sur Cooper Plaque d'appui

Négociable
1 Pièce(MOQ)
PVD rotatif cylindrique en aluminium cible Al pur à 99,999 % cible de pulvérisation (2n-5N)

PVD rotatif cylindrique en aluminium cible Al pur à 99,999 % cible de pulvérisation (2n-5N)

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Coateur à pulvérisation magnétron à courant continu avec cavité en acier inoxydable pour film ITO

Coateur à pulvérisation magnétron à courant continu avec cavité en acier inoxydable pour film ITO

8 730,00-8 900,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation magnétron à poudre pour un équipement de revêtement idéal

Machine de revêtement par pulvérisation magnétron à poudre pour un équipement de revêtement idéal

28 500,00-40 100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation magnétron à vide multifonctionnelle, ligne de production de revêtement automatique

Machine de revêtement par pulvérisation magnétron à vide multifonctionnelle, ligne de production de revêtement automatique

28 500,00-40 100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Vente directe d'usine de coater à magnétron sous-monté à cible unique pour revêtements ITO

Vente directe d'usine de coater à magnétron sous-monté à cible unique pour revêtements ITO

8 900,00-13 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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99.95% Cible de pulvérisation de ruthénium en forme spéciale pure, cible Ru pour le revêtement de pulvérisation de mémoire

99.95% Cible de pulvérisation de ruthénium en forme spéciale pure, cible Ru pour le revêtement de pulvérisation de mémoire

8 000,00-60 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible ITO pour LCD, PDP, OLED, cible composée d'étain, d'indium et d'oxygène

Cible ITO pour LCD, PDP, OLED, cible composée d'étain, d'indium et d'oxygène

Négociable
1 Pièce(MOQ)
1/4

Huita Opto-Electronic Materials Co., Ltd

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ITO (comprimés) Cible de pulvérisation

ITO (comprimés) Cible de pulvérisation

Négociable
5 Pièces(MOQ)
Cible de l'OTI

Cible de l'OTI

Négociable
5 Pièces(MOQ)

Deyang Aijialun Vacuum Technology Co., Ltd.

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Cible de pulvérisation ITO

Cible de pulvérisation ITO

20,00-1 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent pour semi-conducteur d'oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron, spécifications personnalisées

Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent pour semi-conducteur d'oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron, spécifications personnalisées

Négociable
1 Pièce(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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Cible de l'OTI planaire rotatif, pulvérisation magnétron cible, In2O3 : Sno2 cible, 90 : 10 ITO, 95 : 5, 97 : 3 de l'OTI OTI

Cible de l'OTI planaire rotatif, pulvérisation magnétron cible, In2O3 : Sno2 cible, 90 : 10 ITO, 95 : 5, 97 : 3 de l'OTI OTI

Négociable
10 Kg(MOQ)
Hétérojonction cible de l'OTI, de haute pureté pour l'hétérojonction cible Pulvérisation de l'OTI, 97 : 3 Hjt cible de l'OTI

Hétérojonction cible de l'OTI, de haute pureté pour l'hétérojonction cible Pulvérisation de l'OTI, 97 : 3 Hjt cible de l'OTI

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible 99.99 % ITO 97: 3 95: 5 90: 10 cible d'expectoration d'oxyde d'étain indium pour film conducteur

Cible 99.99 % ITO 97: 3 95: 5 90: 10 cible d'expectoration d'oxyde d'étain indium pour film conducteur

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Plaque cible de collage ITO oxyde d'étain indium cible de pulvérisation 99.99% 4n céramique.

Plaque cible de collage ITO oxyde d'étain indium cible de pulvérisation 99.99% 4n céramique.

Négociable
1 Pièce(MOQ)

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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CIBLE DE SPUTTERING ITO ACETRON 4N 99.99% pour le revêtement de film conducteur

CIBLE DE SPUTTERING ITO ACETRON 4N 99.99% pour le revêtement de film conducteur

99,00-9 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Cible en ITO de haute pureté pour le revêtement PVD

ACETRON 4N 99.99% Cible en ITO de haute pureté pour le revêtement PVD

99,00-99 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Oxyde d'indium et d'étain / OIE pour revêtement conducteur d'affichage de panneau

ACETRON 4N 99.99% Oxyde d'indium et d'étain / OIE pour revêtement conducteur d'affichage de panneau

99,00-99 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
ACETRON 4N Cible en ITO de haute pureté pour revêtement sous vide/revêtement PVD

ACETRON 4N Cible en ITO de haute pureté pour revêtement sous vide/revêtement PVD

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Weihai Chenyu Vacuum Technology Co., Ltd

4 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Machine de revêtement par pulvérisation cathodique à grande échelle avec plusieurs cibles cathodiques pour le revêtement à l'argon

Machine de revêtement par pulvérisation cathodique à grande échelle avec plusieurs cibles cathodiques pour le revêtement à l'argon

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement de film conducteur transparent à haut rendement avec cible ITO et revêtement à l'argon

Machine de revêtement de film conducteur transparent à haut rendement avec cible ITO et revêtement à l'argon

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Solution clé en main pour le revêtement en argon avec automatisation complète machine de revêtement en argon

Solution clé en main pour le revêtement en argon avec automatisation complète machine de revêtement en argon

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Système de revêtement de nouvelle génération avec machine de revêtement Ar pour la manipulation web

Système de revêtement de nouvelle génération avec machine de revêtement Ar pour la manipulation web

Négociable
1 Pièce(MOQ)
1/4

EHW APPLIED MATERIALS CO., LTD.

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Cible de l'OTI de haute qualité pour la machine de pulvérisation et de revêtement sous vide (90/10)

Cible de l'OTI de haute qualité pour la machine de pulvérisation et de revêtement sous vide (90/10)

10,00-5 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Haute pureté et la qualité de l'OTI pulvérisation disque cible pour la machine et le revêtement sous vide

Haute pureté et la qualité de l'OTI pulvérisation disque cible pour la machine et le revêtement sous vide

10,00-5 000,00 $US
30 Pièces(MOQ)
Haute pureté et la qualité de l'OTI pour pulvérisation cathodique de la machine cible et de revêtement sous vide (95/5)

Haute pureté et la qualité de l'OTI pour pulvérisation cathodique de la machine cible et de revêtement sous vide (95/5)

10,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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L'OTI pulvérisation planaire cible, film de verre de l'OTI, TP/TN/STN/TFT-LCD cible de l'OTI

L'OTI pulvérisation planaire cible, film de verre de l'OTI, TP/TN/STN/TFT-LCD cible de l'OTI

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de l'OTI, LED / / OLED Tp cible de l'OTI, LED Semiconductor ITO Slug

Cible de l'OTI, LED / / OLED Tp cible de l'OTI, LED Semiconductor ITO Slug

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'OTI cible, cible rotatif de l'OTI, Tp Tn TFT-LCD STN cible de l'OTI

L'OTI cible, cible rotatif de l'OTI, Tp Tn TFT-LCD STN cible de l'OTI

Négociable
1 Pièce(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Cible Sputtering

Cible Sputtering

18,00-20,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cibles de pulvérisation

Cibles de pulvérisation

60,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Pulvérisation de l'OTI cible de l'Indium tin oxide 4n 99,99 % pour le revêtement optique

Pulvérisation de l'OTI cible de l'Indium tin oxide 4n 99,99 % pour le revêtement optique

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Jiangxi He Quan Chem Co., Ltd

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99,99 % de l'OTI Indium tin oxide cible avec plaque de cuivre de pulvérisation

99,99 % de l'OTI Indium tin oxide cible avec plaque de cuivre de pulvérisation

99,00-169,00 $US
1 Piece(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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ITO Target / In2o3: Sno2 = 90: 10wt% / ITO Planar Sputtering Target

ITO Target / In2o3: Sno2 = 90: 10wt% / ITO Planar Sputtering Target

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Lead Optima Element Tech Co., Ltd

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Cible ITO avec collage métallique de plaque d'appui en cuivre

Cible ITO avec collage métallique de plaque d'appui en cuivre

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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L'OTI personnalisable de 99,99 % de la taille de l'Indium tin oxide Rotation de pulvérisation en céramique de l'oti la cible

L'OTI personnalisable de 99,99 % de la taille de l'Indium tin oxide Rotation de pulvérisation en céramique de l'oti la cible

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Machine de pulvérisation de verre conducteur Hcvac ITO

Machine de pulvérisation de verre conducteur Hcvac ITO

150 000,00-500 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Film solaire ITO, film conducteur transparent, production par pulvérisation magnétron en ligne

Film solaire ITO, film conducteur transparent, production par pulvérisation magnétron en ligne

150 000,00-500 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Ligne de machine de revêtement PVD par pulvérisation magnétron Hcvac pour cellules solaires, verre Azo/ITO

Ligne de machine de revêtement PVD par pulvérisation magnétron Hcvac pour cellules solaires, verre Azo/ITO

150 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Système de pulvérisation en ligne pour le revêtement en ITO de verre de blindage contre les champs électromagnétiques/les interférences électromagnétiques/la compatibilité électromagnétique et les interférences radio

Système de pulvérisation en ligne pour le revêtement en ITO de verre de blindage contre les champs électromagnétiques/les interférences électromagnétiques/la compatibilité électromagnétique et les interférences radio

1 500 000,00-5 000 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Système de pulvérisation PVD de revêtement en verre ITO avec coater à vide en ligne

Système de pulvérisation PVD de revêtement en verre ITO avec coater à vide en ligne

2 000 000,00 $US
1 sets(MOQ)
Sputtering d'ITO (oxyde d'indium et d'étain) sputtering continu pour un système de revêtement uniforme

Sputtering d'ITO (oxyde d'indium et d'étain) sputtering continu pour un système de revêtement uniforme

2 000 000,00 $US
1 sets(MOQ)
Machine de revêtement en verre de film d'oxyde d'indium et d'étain par pulvérisation magnétron

Machine de revêtement en verre de film d'oxyde d'indium et d'étain par pulvérisation magnétron

1 500 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Revêtement en verre d'oxyde d'indium et d'étain par pulvérisation magnétron ligne de pulvérisation magnétron

Revêtement en verre d'oxyde d'indium et d'étain par pulvérisation magnétron ligne de pulvérisation magnétron

1 500 000,00-2 500 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

4.5
Envoyer demande
Machine de revêtement en verre par pulvérisation magnétron ligne de fabrication de film ITO

Machine de revêtement en verre par pulvérisation magnétron ligne de fabrication de film ITO

45 000,00-150 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Machines de pulvérisation de verre conducteur ITO continu Cczk-Ion

Machines de pulvérisation de verre conducteur ITO continu Cczk-Ion

45 000,00-150 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Machine de fabrication de verre conducteur ITO, technologie de pulvérisation magnétron PVD

Machine de fabrication de verre conducteur ITO, technologie de pulvérisation magnétron PVD

45 000,00-150 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Lignes de production de verre ITO par pulvérisation continue, machines de verre conducteur ITO, machine à film ITO

Lignes de production de verre ITO par pulvérisation continue, machines de verre conducteur ITO, machine à film ITO

45 000,00-150 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
Envoyer demande
Coateur conductif à magnétron par pulvérisation DC/RF de banc pour métaux, oxydes, céramiques et semi-conducteurs

Coateur conductif à magnétron par pulvérisation DC/RF de banc pour métaux, oxydes, céramiques et semi-conducteurs

15 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Système d'équipement de machine de revêtement par pulvérisation magnétron PVD multi-cibles pour le dépôt de films minces composites

Système d'équipement de machine de revêtement par pulvérisation magnétron PVD multi-cibles pour le dépôt de films minces composites

50 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Système de revêtement par pulvérisation magnétron multi-cibles sous haute vide pour la fabrication de films minces multicouches

Système de revêtement par pulvérisation magnétron multi-cibles sous haute vide pour la fabrication de films minces multicouches

50 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Système de pulvérisation par magnétron multi-cibles sous haute vide

Système de pulvérisation par magnétron multi-cibles sous haute vide

50 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent à oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron

Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent à oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
99.99% optique revêtement matériau oxyde d'étain indium comprimé ITO

99.99% optique revêtement matériau oxyde d'étain indium comprimé ITO

750,00-900,00 $US
1 Kg(MOQ)
cible de pulvérisation ITO 4n 99.99% pure pour revêtement de film de revêtement

cible de pulvérisation ITO 4n 99.99% pure pour revêtement de film de revêtement

300,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation ITO Magnetron rotative In2o3 : SnO2 90 : 10 WT%, 95 : 5 WT%, 97 : 3 WT%

Cible de pulvérisation ITO Magnetron rotative In2o3 : SnO2 90 : 10 WT%, 95 : 5 WT%, 97 : 3 WT%

300,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Comprimé ITO 99.99% indium oxyde d'étain 4n haute pureté pour Revêtement de film conducteur

Comprimé ITO 99.99% indium oxyde d'étain 4n haute pureté pour Revêtement de film conducteur

750,00-900,00 $US
1 Kg(MOQ)
12
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