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à propos de Cible Ito
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Cible Ito70+ usines vérifiées

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Cible PVD In2o3: Sno2 Cible composée ITO Cible de pulvérisation pour pulvérisation

Cible PVD In2o3: Sno2 Cible composée ITO Cible de pulvérisation pour pulvérisation

30,00-1 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.99% Cible de pulvérisation ITO In2o3/Sno2 90/10wt% Cible pour pulvérisation

99.99% Cible de pulvérisation ITO In2o3/Sno2 90/10wt% Cible pour pulvérisation

100,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Matériau supraconducteur ITO cible pour machine de revêtement métallique

Matériau supraconducteur ITO cible pour machine de revêtement métallique

50,00-100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Matériau céramique ITO oxyde d'indium et d'étain cible

Matériau céramique ITO oxyde d'indium et d'étain cible

80,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 ans
·Fabricant/Usine
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Al, cible de pulvérisation de Cr pour évaporation thermique et machine de pulvérisation magnétron

Al, cible de pulvérisation de Cr pour évaporation thermique et machine de pulvérisation magnétron

30,00-200,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coqueur de pulvérisation à magnétron à cible à fond unique pour revêtements ITO

Coqueur de pulvérisation à magnétron à cible à fond unique pour revêtements ITO

19 000,00-21 000,00 $US
1 set(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation magnétron RF à haute vide pour le dépôt de film ITO

Machine de revêtement par pulvérisation magnétron RF à haute vide pour le dépôt de film ITO

18 000,00-23 000,00 $US
1 set(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation magnétron sous vide de bureau pour films ITO

Machine de revêtement par pulvérisation magnétron sous vide de bureau pour films ITO

17 850,00-18 600,00 $US
1 set(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Cible de pulvérisation ITO (oxyde d'indium et d'étain) de haute pureté 99.99% pour revêtement PVD

Cible de pulvérisation ITO (oxyde d'indium et d'étain) de haute pureté 99.99% pour revêtement PVD

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.99 % Haute Pureté Gd2o3 Cible Céramique Oxyde de Gadolinium Cible de Sputtering

99.99 % Haute Pureté Gd2o3 Cible Céramique Oxyde de Gadolinium Cible de Sputtering

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cuo-In2o3 Cibles en céramique oxyde de cuivre - oxyde d'indium cible de pulvérisation

Cuo-In2o3 Cibles en céramique oxyde de cuivre - oxyde d'indium cible de pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
3n, 4n, 5n Cible en céramique pure haute Fe2o3 cible de sputtering en oxyde de fer

3n, 4n, 5n Cible en céramique pure haute Fe2o3 cible de sputtering en oxyde de fer

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 ans
·Société Commerciale
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Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible de Sputtering ITO Rotatif 4n In2o3 et Sno2

Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible de Sputtering ITO Rotatif 4n In2o3 et Sno2

Négociable
1 Piece(MOQ)
Prix d'usine vendre cible ITO haute pureté pour Rpd 4n

Prix d'usine vendre cible ITO haute pureté pour Rpd 4n

Négociable
1 Piece(MOQ)
Prix d'usine Vendre faible densité 4n cible ronde ITO petite

Prix d'usine Vendre faible densité 4n cible ronde ITO petite

Négociable
1 Piece(MOQ)
Cible métallique ITO de haute pureté 4n oxyde d'indium et oxyde d'étain In2o3 et Sno2

Cible métallique ITO de haute pureté 4n oxyde d'indium et oxyde d'étain In2o3 et Sno2

Négociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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Cible ITO pour LCD, PDP, OLED, cible composée d'étain, d'indium et d'oxygène

Cible ITO pour LCD, PDP, OLED, cible composée d'étain, d'indium et d'oxygène

Négociable
1 Pièce(MOQ)
99.95% Cible de pulvérisation de ruthénium en forme spéciale pure, cible Ru pour le revêtement de pulvérisation de mémoire

99.95% Cible de pulvérisation de ruthénium en forme spéciale pure, cible Ru pour le revêtement de pulvérisation de mémoire

8 000,00-60 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Cible ITO Haute Density>99.8% Basse Densité : 60% Cible de Sputtering en Oxyde d'Indium et d'Étain pour Panneau Tactile LCD/LED

Cible ITO Haute Density>99.8% Basse Densité : 60% Cible de Sputtering en Oxyde d'Indium et d'Étain pour Panneau Tactile LCD/LED

340,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Cible en oxyde d'indium et d'étain ITO pour pulvérisation sous vide PVD cible verte

Cible en oxyde d'indium et d'étain ITO pour pulvérisation sous vide PVD cible verte

4 600,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Plaque de cuivre Usine de Guangdong l'Indium tin oxide ITO Cibles de pulvérisation

Plaque de cuivre Usine de Guangdong l'Indium tin oxide ITO Cibles de pulvérisation

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Plaque ITO haute pureté PVD revêtement sous vide épissé liant Magnétron Cibles de pulvérisation

Plaque ITO haute pureté PVD revêtement sous vide épissé liant Magnétron Cibles de pulvérisation

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Pulvérisation en gros usines de matériaux cibles pour l'industrie des semi-conducteurs

Pulvérisation en gros usines de matériaux cibles pour l'industrie des semi-conducteurs

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Guangdong Factory Wholesale Pure 99.95% cuivre plaque pulvérisation de Target Fabrication

Guangdong Factory Wholesale Pure 99.95% cuivre plaque pulvérisation de Target Fabrication

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)

Uv Tech Material Ltd

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L'OTI 97 : 3 93 : 7 90 : 10 95 : 5wt% 99,99% Retangular rotatif de haute pureté et la plaque cible de la pulvérisation de revêtement sous vide de verre

L'OTI 97 : 3 93 : 7 90 : 10 95 : 5wt% 99,99% Retangular rotatif de haute pureté et la plaque cible de la pulvérisation de revêtement sous vide de verre

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation nbox Nb2O5 bec-de-bouillie cible rotatif haute pureté 99.95% Hip CIP cible Export Vicky-Chan@Uvtm. COM Sial ZnAl Znsn NiCr Azo ITO

Cible de pulvérisation nbox Nb2O5 bec-de-bouillie cible rotatif haute pureté 99.95% Hip CIP cible Export Vicky-Chan@Uvtm. COM Sial ZnAl Znsn NiCr Azo ITO

Négociable
1 Pièce(MOQ)
PVD rotatif cylindrique en aluminium cible Al pur à 99,999 % cible de pulvérisation (2n-5N)

PVD rotatif cylindrique en aluminium cible Al pur à 99,999 % cible de pulvérisation (2n-5N)

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Revêtement de verre Msvd cibles Conteneur de charge pour l'exportation Vicky-Chan@Uvtm. COM

Revêtement de verre Msvd cibles Conteneur de charge pour l'exportation Vicky-Chan@Uvtm. COM

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Weihai Chenyu Vacuum Technology Co., Ltd

4 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Machine de revêtement de film conducteur transparent à haut rendement avec cible ITO et revêtement à l'argon

Machine de revêtement de film conducteur transparent à haut rendement avec cible ITO et revêtement à l'argon

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation cathodique à grande échelle avec plusieurs cibles cathodiques pour le revêtement à l'argon

Machine de revêtement par pulvérisation cathodique à grande échelle avec plusieurs cibles cathodiques pour le revêtement à l'argon

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Ligne de production de revêtement sur mesure avec des exigences spécifiques du client, machine de revêtement Ar

Ligne de production de revêtement sur mesure avec des exigences spécifiques du client, machine de revêtement Ar

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Équipement de revêtement par pulvérisation magnétron de qualité industrielle avec machine de revêtement à grande capacité à argon

Équipement de revêtement par pulvérisation magnétron de qualité industrielle avec machine de revêtement à grande capacité à argon

Négociable
1 Pièce(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Coateur à pulvérisation magnétron à courant continu avec cavité en acier inoxydable pour film ITO

Coateur à pulvérisation magnétron à courant continu avec cavité en acier inoxydable pour film ITO

8 730,00-8 900,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation magnétron à poudre pour un équipement de revêtement idéal

Machine de revêtement par pulvérisation magnétron à poudre pour un équipement de revêtement idéal

28 500,00-40 100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation magnétron à vide multifonctionnelle, ligne de production de revêtement automatique

Machine de revêtement par pulvérisation magnétron à vide multifonctionnelle, ligne de production de revêtement automatique

28 500,00-40 100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Vente directe d'usine de coater à magnétron sous-monté à cible unique pour revêtements ITO

Vente directe d'usine de coater à magnétron sous-monté à cible unique pour revêtements ITO

8 900,00-13 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Huita Opto-Electronic Materials Co., Ltd

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Cible de l'OTI

Cible de l'OTI

Négociable
5 Pièces(MOQ)
ITO (comprimés) Cible de pulvérisation

ITO (comprimés) Cible de pulvérisation

Négociable
5 Pièces(MOQ)

Lead Optima Element Tech Co., Ltd

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Cible ITO avec collage métallique de plaque d'appui en cuivre

Cible ITO avec collage métallique de plaque d'appui en cuivre

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Deyang Aijialun Vacuum Technology Co., Ltd.

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Cible de pulvérisation ITO

Cible de pulvérisation ITO

20,00-1 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent pour semi-conducteur d'oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron, spécifications personnalisées

Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent pour semi-conducteur d'oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron, spécifications personnalisées

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Taizhou ATS Optical Material Co., Ltd.

26 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Cible en silicium, plaquette de silicium, pièce en silicium monocrystallin

Cible en silicium, plaquette de silicium, pièce en silicium monocrystallin

4,00-5,00 $US
1 piece(MOQ)
Cible en silicium pièce de polysilicium

Cible en silicium pièce de polysilicium

26,00-28,00 $US
1 piece(MOQ)
Particules de silicium monocrystallin granule Si

Particules de silicium monocrystallin granule Si

97,50-100,00 $US
1 Kg(MOQ)
Granule de silicium utilisé comme matériau semi-conducteur

Granule de silicium utilisé comme matériau semi-conducteur

97,50-100,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

UV Tech Material Co., Ltd.

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Cible de l'OTI planaire rotatif, pulvérisation magnétron cible, In2O3 : Sno2 cible, 90 : 10 ITO, 95 : 5, 97 : 3 de l'OTI OTI

Cible de l'OTI planaire rotatif, pulvérisation magnétron cible, In2O3 : Sno2 cible, 90 : 10 ITO, 95 : 5, 97 : 3 de l'OTI OTI

Négociable
10 Kg(MOQ)
Hétérojonction cible de l'OTI, de haute pureté pour l'hétérojonction cible Pulvérisation de l'OTI, 97 : 3 Hjt cible de l'OTI

Hétérojonction cible de l'OTI, de haute pureté pour l'hétérojonction cible Pulvérisation de l'OTI, 97 : 3 Hjt cible de l'OTI

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible 99.99 % ITO 97: 3 95: 5 90: 10 cible d'expectoration d'oxyde d'étain indium pour film conducteur

Cible 99.99 % ITO 97: 3 95: 5 90: 10 cible d'expectoration d'oxyde d'étain indium pour film conducteur

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Plaque cible de collage ITO oxyde d'étain indium cible de pulvérisation 99.99% 4n céramique.

Plaque cible de collage ITO oxyde d'étain indium cible de pulvérisation 99.99% 4n céramique.

Négociable
1 Pièce(MOQ)

EHW APPLIED MATERIALS CO., LTD.

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Cible de l'OTI pour revêtement de film transparent conductrices

Cible de l'OTI pour revêtement de film transparent conductrices

10,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de l'OTI de haute qualité pour la machine de pulvérisation et de revêtement sous vide (90/10)

Cible de l'OTI de haute qualité pour la machine de pulvérisation et de revêtement sous vide (90/10)

10,00-5 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Haute pureté et la qualité de l'OTI pulvérisation disque cible pour la machine et le revêtement sous vide

Haute pureté et la qualité de l'OTI pulvérisation disque cible pour la machine et le revêtement sous vide

10,00-5 000,00 $US
30 Pièces(MOQ)
Haute pureté et la qualité de l'OTI pour pulvérisation cathodique de la machine cible et de revêtement sous vide (95/5)

Haute pureté et la qualité de l'OTI pour pulvérisation cathodique de la machine cible et de revêtement sous vide (95/5)

10,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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CIBLE DE SPUTTERING ITO ACETRON 4N 99.99% pour le revêtement de film conducteur

CIBLE DE SPUTTERING ITO ACETRON 4N 99.99% pour le revêtement de film conducteur

99,00-9 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Cible en ITO de haute pureté pour le revêtement PVD

ACETRON 4N 99.99% Cible en ITO de haute pureté pour le revêtement PVD

99,00-99 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
ACETRON 4N Cible tubulaire en ITO de haute pureté pour revêtement sous vide/revêtement PVD

ACETRON 4N Cible tubulaire en ITO de haute pureté pour revêtement sous vide/revêtement PVD

Négociable
1 Pièce(MOQ)
CIBLE de pulvérisation ITO ACETRON 4N 99.99% pour revêtement conducteur LCD/LED/OLED

CIBLE de pulvérisation ITO ACETRON 4N 99.99% pour revêtement conducteur LCD/LED/OLED

99,00-99 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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L'OTI pulvérisation planaire cible, film de verre de l'OTI, TP/TN/STN/TFT-LCD cible de l'OTI

L'OTI pulvérisation planaire cible, film de verre de l'OTI, TP/TN/STN/TFT-LCD cible de l'OTI

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'OTI cible, cible rotatif de l'OTI, Tp Tn TFT-LCD STN cible de l'OTI

L'OTI cible, cible rotatif de l'OTI, Tp Tn TFT-LCD STN cible de l'OTI

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de l'OTI, LED / / OLED Tp cible de l'OTI, LED Semiconductor ITO Slug

Cible de l'OTI, LED / / OLED Tp cible de l'OTI, LED Semiconductor ITO Slug

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'OTI en poudre, de l'Indium tin oxide, ITO bleu poudre jaune

L'OTI en poudre, de l'Indium tin oxide, ITO bleu poudre jaune

Négociable
1 Kg(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Cibles de pulvérisation

Cibles de pulvérisation

60,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible Sputtering

Cible Sputtering

18,00-20,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Tengzhou Fast Silver Trading Co., Limited.

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L'oxyde de conductrice transparente mince film ITO l'Indium tin oxide cible de pulvérisation

L'oxyde de conductrice transparente mince film ITO l'Indium tin oxide cible de pulvérisation

450,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Jiangxi He Quan Chem Co., Ltd

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99,99 % de l'OTI Indium tin oxide cible avec plaque de cuivre de pulvérisation

99,99 % de l'OTI Indium tin oxide cible avec plaque de cuivre de pulvérisation

99,00-169,00 $US
1 Piece(MOQ)

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Pulvérisation de l'OTI cible de l'Indium tin oxide 4n 99,99 % pour le revêtement optique

Pulvérisation de l'OTI cible de l'Indium tin oxide 4n 99,99 % pour le revêtement optique

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Jubo Guneng(Suzhou) Thin Film Materials Co., Ltd.

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5n revêtement plus grande pureté cible cible de pulvérisation

5n revêtement plus grande pureté cible cible de pulvérisation

1 000,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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ITO Target / In2o3: Sno2 = 90: 10wt% / ITO Planar Sputtering Target

ITO Target / In2o3: Sno2 = 90: 10wt% / ITO Planar Sputtering Target

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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L'OTI personnalisable de 99,99 % de la taille de l'Indium tin oxide Rotation de pulvérisation en céramique de l'oti la cible

L'OTI personnalisable de 99,99 % de la taille de l'Indium tin oxide Rotation de pulvérisation en céramique de l'oti la cible

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd.

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Hbf52-17o Type four à haute température largement utilisé dans le frittage de matériaux cibles ITO four industriel à muffle

Hbf52-17o Type four à haute température largement utilisé dans le frittage de matériaux cibles ITO four industriel à muffle

21 900,00-21 933,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Hbf52-17o Type four à haute température, largement utilisé dans la stabilité de contrôle de température du matériau cible ITO de ± 1 º C

Hbf52-17o Type four à haute température, largement utilisé dans la stabilité de contrôle de température du matériau cible ITO de ± 1 º C

21 900,00-21 933,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Le Bf150-17 four à haute température est utilisé dans l'application des matériaux cibles ITO

Le Bf150-17 four à haute température est utilisé dans l'application des matériaux cibles ITO

500,00-60 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Le Hbf52-17o four à haute température est largement utilisé dans le processus de frittage à haute température des matériaux cibles ITO

Le Hbf52-17o four à haute température est largement utilisé dans le processus de frittage à haute température des matériaux cibles ITO

21 900,00-21 933,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Système de revêtement par pulvérisation en ligne Hcvac pour film conducteur ITO, Azo, ZnO

Système de revêtement par pulvérisation en ligne Hcvac pour film conducteur ITO, Azo, ZnO

150 000,00-500 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Machine de revêtement sous vide pour feuilles de verre ITO de panneau d'affichage à écran tactile

Machine de revêtement sous vide pour feuilles de verre ITO de panneau d'affichage à écran tactile

150 000,00-500 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Film solaire ITO, film conducteur transparent, production par pulvérisation magnétron en ligne

Film solaire ITO, film conducteur transparent, production par pulvérisation magnétron en ligne

150 000,00-500 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation magnétron en ligne Hcvac pour écrans d'affichage revêtement ITO

Machine de revêtement par pulvérisation magnétron en ligne Hcvac pour écrans d'affichage revêtement ITO

80 000,00-300 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

4.5
Envoyer demande
Machine de fabrication de verre conducteur ITO, technologie de pulvérisation magnétron PVD

Machine de fabrication de verre conducteur ITO, technologie de pulvérisation magnétron PVD

45 000,00-150 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Machine de revêtement en verre par pulvérisation magnétron ligne de fabrication de film ITO

Machine de revêtement en verre par pulvérisation magnétron ligne de fabrication de film ITO

45 000,00-150 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Machines de pulvérisation de verre conducteur ITO continu Cczk-Ion

Machines de pulvérisation de verre conducteur ITO continu Cczk-Ion

45 000,00-150 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Ligne de revêtement par pulvérisation automatique de verre, ligne de production et de fabrication de revêtement de verre, ligne de pulvérisation de verre ITO

Ligne de revêtement par pulvérisation automatique de verre, ligne de production et de fabrication de revêtement de verre, ligne de pulvérisation de verre ITO

45 000,00-150 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
1/4
13
Produits Populaires
Alliage Chine
Le Silicium Chine
Titane Chine
Terres Rares
Molybdène Chine
Métaux Rares
Rare Earth Metal
Cible De Pulvérisation
Fabricants & Fournisseur Associés
Usine De Cible De Pulvérisation De Métal
Usine De Poudre Ito
Usine De Cible Azo
Usine De Cible De Tungstène
Fabricants De Ce Tableau
Fabricants De Particule Ito
Fabricants De Cible En Ito Pour La Pulvérisation 99.99%
Fabricants De Cible De Pulvérisation En Titane
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