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à propos de cibles ito
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cibles ito70+ usines vérifiées

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Cible de pulvérisation ITO Xinkang 99.99% In2o3/Sno2 90/10wt% Cible en céramique pour pulvérisation

Cible de pulvérisation ITO Xinkang 99.99% In2o3/Sno2 90/10wt% Cible en céramique pour pulvérisation

35,00-150,00 $US
1 Pièce(MOQ)
ITO90/10wt% Cible de pulvérisation d'oxyde d'indium et d'étain avec plaque de support en cuivre

ITO90/10wt% Cible de pulvérisation d'oxyde d'indium et d'étain avec plaque de support en cuivre

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation d'oxyde conducteur transparent ITO avec dimensions personnalisables et haute pureté

Cible de pulvérisation d'oxyde conducteur transparent ITO avec dimensions personnalisables et haute pureté

110,00-120,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cibles de pulvérisation d'oxyde d'indium et d'étain ITO au meilleur prix

Cibles de pulvérisation d'oxyde d'indium et d'étain ITO au meilleur prix

50,00-999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 ans
·Fabricant/Usine
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Al, cible de pulvérisation de Cr pour évaporation thermique et machine de pulvérisation magnétron

Al, cible de pulvérisation de Cr pour évaporation thermique et machine de pulvérisation magnétron

30,00-200,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coqueur de pulvérisation à magnétron à cible à fond unique pour revêtements ITO

Coqueur de pulvérisation à magnétron à cible à fond unique pour revêtements ITO

19 000,00-21 000,00 $US
1 set(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation magnétron sous vide de bureau pour films ITO

Machine de revêtement par pulvérisation magnétron sous vide de bureau pour films ITO

17 850,00-18 600,00 $US
1 set(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation magnétron RF à haute vide pour le dépôt de film ITO

Machine de revêtement par pulvérisation magnétron RF à haute vide pour le dépôt de film ITO

18 000,00-23 000,00 $US
1 set(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Cible de pulvérisation ITO (oxyde d'indium et d'étain) de haute pureté 99.99% pour revêtement PVD

Cible de pulvérisation ITO (oxyde d'indium et d'étain) de haute pureté 99.99% pour revêtement PVD

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.9% Cible de pulvérisation en alliage de cuivre et de gadolinium

99.9% Cible de pulvérisation en alliage de cuivre et de gadolinium

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.95% Cible de pulvérisation de chrome pur métal chrome cibles d'arc cathodique

99.95% Cible de pulvérisation de chrome pur métal chrome cibles d'arc cathodique

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.99% Tasi2 Cible en céramique de siliciure de tantale pour pulvérisation

99.99% Tasi2 Cible en céramique de siliciure de tantale pour pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 ans
·Société Commerciale
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Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible de Sputtering ITO Rotatif 4n In2o3 et Sno2

Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible de Sputtering ITO Rotatif 4n In2o3 et Sno2

Négociable
1 Piece(MOQ)
Prix d'usine vendre cible ITO haute pureté pour Rpd 4n

Prix d'usine vendre cible ITO haute pureté pour Rpd 4n

Négociable
1 Piece(MOQ)
Prix d'usine Vendre faible densité 4n cible ronde ITO petite

Prix d'usine Vendre faible densité 4n cible ronde ITO petite

Négociable
1 Piece(MOQ)
Cible métallique ITO de haute pureté 4n oxyde d'indium et oxyde d'étain In2o3 et Sno2

Cible métallique ITO de haute pureté 4n oxyde d'indium et oxyde d'étain In2o3 et Sno2

Négociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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Cible ITO pour LCD, PDP, OLED, cible composée d'étain, d'indium et d'oxygène

Cible ITO pour LCD, PDP, OLED, cible composée d'étain, d'indium et d'oxygène

Négociable
1 Pièce(MOQ)
99.95% Cible de pulvérisation de ruthénium en forme spéciale pure, cible Ru pour le revêtement de pulvérisation de mémoire

99.95% Cible de pulvérisation de ruthénium en forme spéciale pure, cible Ru pour le revêtement de pulvérisation de mémoire

8 000,00-60 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Cible ITO Haute Density>99.8% Basse Densité : 60% Cible de Sputtering en Oxyde d'Indium et d'Étain pour Panneau Tactile LCD/LED

Cible ITO Haute Density>99.8% Basse Densité : 60% Cible de Sputtering en Oxyde d'Indium et d'Étain pour Panneau Tactile LCD/LED

340,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Cible en oxyde d'indium et d'étain ITO pour pulvérisation sous vide PVD cible verte

Cible en oxyde d'indium et d'étain ITO pour pulvérisation sous vide PVD cible verte

4 600,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Plaque de cuivre Usine de Guangdong l'Indium tin oxide ITO Cibles de pulvérisation

Plaque de cuivre Usine de Guangdong l'Indium tin oxide ITO Cibles de pulvérisation

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Plaque ITO haute pureté PVD revêtement sous vide épissé liant Magnétron Cibles de pulvérisation

Plaque ITO haute pureté PVD revêtement sous vide épissé liant Magnétron Cibles de pulvérisation

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Pulvérisation en usine de cuivre cible rotatif pour conducteur semi-conducteur à revêtement métallique

Pulvérisation en usine de cuivre cible rotatif pour conducteur semi-conducteur à revêtement métallique

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Tube en cuivre haute pureté sans oxygène de haute pureté en usine, crachats de pureté du matériau cible 99.98 % semi-conducteur

Tube en cuivre haute pureté sans oxygène de haute pureté en usine, crachats de pureté du matériau cible 99.98 % semi-conducteur

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)

Uv Tech Material Ltd

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L'OTI 97 : 3 93 : 7 90 : 10 95 : 5wt% 99,99% Retangular rotatif de haute pureté et la plaque cible de la pulvérisation de revêtement sous vide de verre

L'OTI 97 : 3 93 : 7 90 : 10 95 : 5wt% 99,99% Retangular rotatif de haute pureté et la plaque cible de la pulvérisation de revêtement sous vide de verre

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation nbox Nb2O5 bec-de-bouillie cible rotatif haute pureté 99.95% Hip CIP cible Export Vicky-Chan@Uvtm. COM Sial ZnAl Znsn NiCr Azo ITO

Cible de pulvérisation nbox Nb2O5 bec-de-bouillie cible rotatif haute pureté 99.95% Hip CIP cible Export Vicky-Chan@Uvtm. COM Sial ZnAl Znsn NiCr Azo ITO

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cibles Uvtm sur l'exposition pour revêtement de pulvérisation Vicky13249153016

Cibles Uvtm sur l'exposition pour revêtement de pulvérisation Vicky13249153016

Négociable
1 Pièce(MOQ)
PVD rotatif cylindrique en aluminium cible Al pur à 99,999 % cible de pulvérisation (2n-5N)

PVD rotatif cylindrique en aluminium cible Al pur à 99,999 % cible de pulvérisation (2n-5N)

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Weihai Chenyu Vacuum Technology Co., Ltd

4 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Machine de revêtement de film conducteur transparent à haut rendement avec cible ITO et revêtement à l'argon

Machine de revêtement de film conducteur transparent à haut rendement avec cible ITO et revêtement à l'argon

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation cathodique à grande échelle avec plusieurs cibles cathodiques pour le revêtement à l'argon

Machine de revêtement par pulvérisation cathodique à grande échelle avec plusieurs cibles cathodiques pour le revêtement à l'argon

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Système de revêtement industriel durable de qualité avec chambre en acier inoxydable machine de revêtement Ar

Système de revêtement industriel durable de qualité avec chambre en acier inoxydable machine de revêtement Ar

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Système de dépôt sous vide élevé avec machine de revêtement à pompe à diffusion robuste

Système de dépôt sous vide élevé avec machine de revêtement à pompe à diffusion robuste

Négociable
1 Pièce(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Coateur à pulvérisation magnétron à courant continu avec cavité en acier inoxydable pour film ITO

Coateur à pulvérisation magnétron à courant continu avec cavité en acier inoxydable pour film ITO

8 730,00-8 900,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation magnétron à poudre pour un équipement de revêtement idéal

Machine de revêtement par pulvérisation magnétron à poudre pour un équipement de revêtement idéal

28 500,00-40 100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation magnétron à vide multifonctionnelle, ligne de production de revêtement automatique

Machine de revêtement par pulvérisation magnétron à vide multifonctionnelle, ligne de production de revêtement automatique

28 500,00-40 100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Petit 150W Alimentation DC pour Coater Sputter à Magnétron pour Films ITO

Petit 150W Alimentation DC pour Coater Sputter à Magnétron pour Films ITO

7 000,00-12 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Huita Opto-Electronic Materials Co., Ltd

Envoyer demande
ITO (comprimés) Cible de pulvérisation

ITO (comprimés) Cible de pulvérisation

Négociable
5 Pièces(MOQ)
Cible de l'OTI

Cible de l'OTI

Négociable
5 Pièces(MOQ)

Lead Optima Element Tech Co., Ltd

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Cible ITO avec collage métallique de plaque d'appui en cuivre

Cible ITO avec collage métallique de plaque d'appui en cuivre

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Deyang Aijialun Vacuum Technology Co., Ltd.

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Cible de pulvérisation ITO

Cible de pulvérisation ITO

20,00-1 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent pour semi-conducteur d'oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron, spécifications personnalisées

Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent pour semi-conducteur d'oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron, spécifications personnalisées

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Taizhou ATS Optical Material Co., Ltd.

26 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Cible en silicium, plaquette de silicium, pièce en silicium monocrystallin

Cible en silicium, plaquette de silicium, pièce en silicium monocrystallin

4,00-5,00 $US
1 piece(MOQ)
Cible en silicium pièce de polysilicium

Cible en silicium pièce de polysilicium

26,00-28,00 $US
1 piece(MOQ)
5n 99.999% Pièce de silicium monocrystallin pur

5n 99.999% Pièce de silicium monocrystallin pur

4,00-5,00 $US
1 piece(MOQ)
99.99% Granule de silicium Si pour revêtement optique sous vide

99.99% Granule de silicium Si pour revêtement optique sous vide

97,50-100,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

UV Tech Material Co., Ltd.

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Hétérojonction cible de l'OTI, de haute pureté pour l'hétérojonction cible Pulvérisation de l'OTI, 97 : 3 Hjt cible de l'OTI

Hétérojonction cible de l'OTI, de haute pureté pour l'hétérojonction cible Pulvérisation de l'OTI, 97 : 3 Hjt cible de l'OTI

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de l'OTI planaire rotatif, pulvérisation magnétron cible, In2O3 : Sno2 cible, 90 : 10 ITO, 95 : 5, 97 : 3 de l'OTI OTI

Cible de l'OTI planaire rotatif, pulvérisation magnétron cible, In2O3 : Sno2 cible, 90 : 10 ITO, 95 : 5, 97 : 3 de l'OTI OTI

Négociable
10 Kg(MOQ)
Plaque cible de collage ITO oxyde d'étain indium cible de pulvérisation 99.99% 4n céramique.

Plaque cible de collage ITO oxyde d'étain indium cible de pulvérisation 99.99% 4n céramique.

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible 99.99 % ITO 97: 3 95: 5 90: 10 cible d'expectoration d'oxyde d'étain indium pour film conducteur

Cible 99.99 % ITO 97: 3 95: 5 90: 10 cible d'expectoration d'oxyde d'étain indium pour film conducteur

Négociable
1 Pièce(MOQ)

EHW APPLIED MATERIALS CO., LTD.

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Haute pureté et la qualité de l'OTI pulvérisation disque cible pour la machine et le revêtement sous vide

Haute pureté et la qualité de l'OTI pulvérisation disque cible pour la machine et le revêtement sous vide

10,00-5 000,00 $US
30 Pièces(MOQ)
Cible de l'OTI de haute qualité pour la machine de pulvérisation et de revêtement sous vide (90/10)

Cible de l'OTI de haute qualité pour la machine de pulvérisation et de revêtement sous vide (90/10)

10,00-5 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de l'OTI pour revêtement de film transparent conductrices

Cible de l'OTI pour revêtement de film transparent conductrices

10,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Haute pureté et la qualité de l'OTI pour pulvérisation cathodique de la machine cible et de revêtement sous vide (95/5)

Haute pureté et la qualité de l'OTI pour pulvérisation cathodique de la machine cible et de revêtement sous vide (95/5)

10,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 4N 99.99% Cible en ITO de haute pureté pour le revêtement PVD

ACETRON 4N 99.99% Cible en ITO de haute pureté pour le revêtement PVD

99,00-99 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
CIBLE DE SPUTTERING ITO ACETRON 4N 99.99% pour le revêtement de film conducteur

CIBLE DE SPUTTERING ITO ACETRON 4N 99.99% pour le revêtement de film conducteur

99,00-9 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
ACETRON 4N Oxyde d'indium-étain (ITO) Tablette pour revêtement conducteur d'écran d'affichage

ACETRON 4N Oxyde d'indium-étain (ITO) Tablette pour revêtement conducteur d'écran d'affichage

700,00-900,00 $US
1 Kg(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Matériaux d'évaporation ITO de haute pureté pour revêtement sous vide/PVD

ACETRON 4N 99.99% Matériaux d'évaporation ITO de haute pureté pour revêtement sous vide/PVD

700,00-900,00 $US
1 Kg(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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Cible de l'OTI, LED / / OLED Tp cible de l'OTI, LED Semiconductor ITO Slug

Cible de l'OTI, LED / / OLED Tp cible de l'OTI, LED Semiconductor ITO Slug

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'OTI cible, cible rotatif de l'OTI, Tp Tn TFT-LCD STN cible de l'OTI

L'OTI cible, cible rotatif de l'OTI, Tp Tn TFT-LCD STN cible de l'OTI

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'OTI pulvérisation planaire cible, film de verre de l'OTI, TP/TN/STN/TFT-LCD cible de l'OTI

L'OTI pulvérisation planaire cible, film de verre de l'OTI, TP/TN/STN/TFT-LCD cible de l'OTI

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'OTI comprimé, l'évaporation de l'OTI Optique de précision, l'oxyde Indium-Tin comprimé

L'OTI comprimé, l'évaporation de l'OTI Optique de précision, l'oxyde Indium-Tin comprimé

Négociable
1 Kg(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Cibles de pulvérisation

Cibles de pulvérisation

60,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible Sputtering

Cible Sputtering

18,00-20,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Tengzhou Fast Silver Trading Co., Limited.

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L'oxyde de conductrice transparente mince film ITO l'Indium tin oxide cible de pulvérisation

L'oxyde de conductrice transparente mince film ITO l'Indium tin oxide cible de pulvérisation

450,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

Envoyer demande
Pulvérisation de l'OTI cible de l'Indium tin oxide 4n 99,99 % pour le revêtement optique

Pulvérisation de l'OTI cible de l'Indium tin oxide 4n 99,99 % pour le revêtement optique

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Jiangxi He Quan Chem Co., Ltd

Envoyer demande
99,99 % de l'OTI Indium tin oxide cible avec plaque de cuivre de pulvérisation

99,99 % de l'OTI Indium tin oxide cible avec plaque de cuivre de pulvérisation

99,00-169,00 $US
1 Piece(MOQ)

Jubo Guneng(Suzhou) Thin Film Materials Co., Ltd.

Envoyer demande
5n revêtement plus grande pureté cible cible de pulvérisation

5n revêtement plus grande pureté cible cible de pulvérisation

1 000,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

Envoyer demande
L'OTI personnalisable de 99,99 % de la taille de l'Indium tin oxide Rotation de pulvérisation en céramique de l'oti la cible

L'OTI personnalisable de 99,99 % de la taille de l'Indium tin oxide Rotation de pulvérisation en céramique de l'oti la cible

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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ITO Target / In2o3: Sno2 = 90: 10wt% / ITO Planar Sputtering Target

ITO Target / In2o3: Sno2 = 90: 10wt% / ITO Planar Sputtering Target

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd.

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Bf150-17 Type de four à haute température, four industriel à muffle pour matériau cible ITO

Bf150-17 Type de four à haute température, four industriel à muffle pour matériau cible ITO

500,00-60 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Domaine d'application : Matériau cible ITO, Bf150-17 Type four à creuset haute température

Domaine d'application : Matériau cible ITO, Bf150-17 Type four à creuset haute température

500,00-60 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Le Hbf52-17o four à haute température est largement utilisé dans le processus de frittage à haute température des matériaux cibles ITO

Le Hbf52-17o four à haute température est largement utilisé dans le processus de frittage à haute température des matériaux cibles ITO

21 900,00-21 933,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Hbf52-17o Type four à haute température, largement utilisé dans la stabilité de contrôle de température du matériau cible ITO de ± 1 º C

Hbf52-17o Type four à haute température, largement utilisé dans la stabilité de contrôle de température du matériau cible ITO de ± 1 º C

21 900,00-21 933,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Système de machine de revêtement PVD en ligne pour verre Low-E revêtu Hcvac ITO

Système de machine de revêtement PVD en ligne pour verre Low-E revêtu Hcvac ITO

150 000,00-500 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Ligne de production de verre à faible teneur en verre pour le revêtement de film conducteur ITO par pulvérisation magnétron Hcvac

Ligne de production de verre à faible teneur en verre pour le revêtement de film conducteur ITO par pulvérisation magnétron Hcvac

150 000,00-500 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation sous vide Hcvac pour verre ITO

Machine de revêtement par pulvérisation sous vide Hcvac pour verre ITO

150 000,00-500 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Système de machine de revêtement en rouleau à rouleau Hcvac pour film conducteur Ar ITO sur batterie solaire

Système de machine de revêtement en rouleau à rouleau Hcvac pour film conducteur Ar ITO sur batterie solaire

150 000,00-500 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

4.5
Envoyer demande
Machines de pulvérisation de verre conducteur ITO continu Cczk-Ion

Machines de pulvérisation de verre conducteur ITO continu Cczk-Ion

45 000,00-150 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Machine de fabrication de verre conducteur ITO, technologie de pulvérisation magnétron PVD

Machine de fabrication de verre conducteur ITO, technologie de pulvérisation magnétron PVD

45 000,00-150 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Machine de revêtement en verre par pulvérisation magnétron ligne de fabrication de film ITO

Machine de revêtement en verre par pulvérisation magnétron ligne de fabrication de film ITO

45 000,00-150 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Ligne de fabrication de machines de revêtement en verre par pulvérisation magnétron fiable utilisée pour le verre à faible émissivité, la fabrication de miroirs en argent et en aluminium, verre ITO

Ligne de fabrication de machines de revêtement en verre par pulvérisation magnétron fiable utilisée pour le verre à faible émissivité, la fabrication de miroirs en argent et en aluminium, verre ITO

45 000,00-150 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
1/4
13
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