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à propos de cibles de pulvérisation niv
  • Innovation technologique
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  • Capacités de Fabrication Substantielles

cibles de pulvérisation niv9 usines vérifiées

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible de pulvérisation magnétron en alliage métallique Niv en nickel et vanadium

Cible de pulvérisation magnétron en alliage métallique Niv en nickel et vanadium

20,00-200,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Fabricant de cible de magnetron Niv 99.9995% Pure Niv7 Cible de pulvérisation en alliage

Fabricant de cible de magnetron Niv 99.9995% Pure Niv7 Cible de pulvérisation en alliage

55,00-120,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.95% Cible de pulvérisation en nickel vanadium pur Niv Magnetron Niv7wt%

99.95% Cible de pulvérisation en nickel vanadium pur Niv Magnetron Niv7wt%

55,00-120,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.95% Nickel Vanadium Niv 93: 7wt% Cible de pulvérisation pour revêtement par pulvérisation

99.95% Nickel Vanadium Niv 93: 7wt% Cible de pulvérisation pour revêtement par pulvérisation

50,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Cibles en alliage de nickel de haute pureté Niv cible de pulvérisation de nickel vanadium

Cibles en alliage de nickel de haute pureté Niv cible de pulvérisation de nickel vanadium

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.9% Cible de pulvérisation en alliage de cuivre et d'indium

99.9% Cible de pulvérisation en alliage de cuivre et d'indium

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible en alliage métallique de titane niobium pour pulvérisation pour revêtement

Cible en alliage métallique de titane niobium pour pulvérisation pour revêtement

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.99% Cible de pulvérisation de manganèse pur Mn, cible de Mg pour pulvérisation

99.99% Cible de pulvérisation de manganèse pur Mn, cible de Mg pour pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

Envoyer demande
Cible en alliage NiV, cible de pulvérisation en alliage de nickel et de vanadium pour LCD/semiconducteur

Cible en alliage NiV, cible de pulvérisation en alliage de nickel et de vanadium pour LCD/semiconducteur

100,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible Wti / Cibles de pulvérisation / Haute qualité Wti

Cible Wti / Cibles de pulvérisation / Haute qualité Wti

1,00-100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

China Rare Metal Material Co., Ltd.

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Cibles de pulvérisation en céramique

Cibles de pulvérisation en céramique

100,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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99.99% Cible de pulvérisation en nickel, cible magnétique de pulvérisation décorative pour le revêtement métallique

99.99% Cible de pulvérisation en nickel, cible magnétique de pulvérisation décorative pour le revêtement métallique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en nickel à forte vente avec haute pureté

Cible de pulvérisation en nickel à forte vente avec haute pureté

Négociable
1 Pièce(MOQ)
99.9% Cible de nickel haute pureté, cible d'alliage de nickel, prix de la cible de pulvérisation de nickel

99.9% Cible de nickel haute pureté, cible d'alliage de nickel, prix de la cible de pulvérisation de nickel

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en nickel 99.99% Cible en Ni de haute pureté pour revêtement PVD

Cible de pulvérisation en nickel 99.99% Cible en Ni de haute pureté pour revêtement PVD

Négociable
1 Pièce(MOQ)
1/2

Jiangsu Himalaya Semiconductor Co., Ltd.

7 ans
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Machine de dépôt de revêtement PVD sous vide multi-chambres à haute densité pour films semi-conducteurs avancés

Machine de dépôt de revêtement PVD sous vide multi-chambres à haute densité pour films semi-conducteurs avancés

50 000,00-150 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Cible de pulvérisation d'alliage de nickel-vanadium-VNI pour revêtement PVD Magnetron

Cible de pulvérisation d'alliage de nickel-vanadium-VNI pour revêtement PVD Magnetron

10,00 $US
10 Pièces(MOQ)
Matériel d'évaporation Niv7 alliage de nickel-vanadium cible de pulvérisation de magnétron rotatif Haute densité

Matériel d'évaporation Niv7 alliage de nickel-vanadium cible de pulvérisation de magnétron rotatif Haute densité

70,00-130,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation de nickel-vanadium en alliage métallique Niv7wt% pour le vide Magnetron Revêtement

Cible de pulvérisation de nickel-vanadium en alliage métallique Niv7wt% pour le vide Magnetron Revêtement

70,00-130,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible Niv7wt% rotative NIV tube cible Nickel vanadium haute densité Cible de pulvérisation de tube en alliage

Cible Niv7wt% rotative NIV tube cible Nickel vanadium haute densité Cible de pulvérisation de tube en alliage

70,00-130,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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plaque plate de cible à pulvérisation de nickel-vanadium haute pureté 3n / rotative Cibles

plaque plate de cible à pulvérisation de nickel-vanadium haute pureté 3n / rotative Cibles

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
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