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à propos de Cible d'oxyde
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Cible d'oxyde500+ usines vérifiées

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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In2O3+Cu céramique cible oxyde indium+Cuprum céramique cible de pulvérisation pour LCD/Touch Panneau

In2O3+Cu céramique cible oxyde indium+Cuprum céramique cible de pulvérisation pour LCD/Touch Panneau

40,00 $US
1 Kg(MOQ)
Nb2O5 Cible Nb2Ox Cible en oxyde de niobium pour le revêtement de films minces optiques semi-conducteurs

Nb2O5 Cible Nb2Ox Cible en oxyde de niobium pour le revêtement de films minces optiques semi-conducteurs

100,00-130,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible d'oxyde de baryum et d'étain céramique pour revêtement de film mince optique

Cible d'oxyde de baryum et d'étain céramique pour revêtement de film mince optique

340,00 $US
1 Kg(MOQ)
Al2O3 Cible en oxyde d'aluminium céramique pour circuits intégrés

Al2O3 Cible en oxyde d'aluminium céramique pour circuits intégrés

135,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Cible de pulvérisation d'oxyde de chrome de taille personnalisée pour le dépôt de films minces

Cible de pulvérisation d'oxyde de chrome de taille personnalisée pour le dépôt de films minces

110,00-120,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.99% Cible de pulvérisation d'oxyde d'aluminium pur haute densité Al2O3 Cible en céramique

99.99% Cible de pulvérisation d'oxyde d'aluminium pur haute densité Al2O3 Cible en céramique

35,00-85,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.99% Cibles d'oxyde d'indium et d'étain, cible ITO pour le revêtement PVD

99.99% Cibles d'oxyde d'indium et d'étain, cible ITO pour le revêtement PVD

20,00-30,00 $US
10 Pièces(MOQ)
Céramique de ferrite d'oxyde de fer de 99.9% qualité supérieure Fe2o3 pour revêtement sous vide

Céramique de ferrite d'oxyde de fer de 99.9% qualité supérieure Fe2o3 pour revêtement sous vide

35,00-150,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Al2O3-MGO Cibles en céramique oxyde d'aluminium - oxyde de magnésium cibles de pulvérisation

Al2O3-MGO Cibles en céramique oxyde d'aluminium - oxyde de magnésium cibles de pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Zro2-Sio2 Cible en céramique Zirconium - Oxyde de silicium Dioxyde de zirconium Silicate de zirconium Cibles de pulvérisation

Zro2-Sio2 Cible en céramique Zirconium - Oxyde de silicium Dioxyde de zirconium Silicate de zirconium Cibles de pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cibles en céramique ATO en oxyde d'étain dopé à l'antimoine pour pulvérisation

Cibles en céramique ATO en oxyde d'étain dopé à l'antimoine pour pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cuo-In2o3 Cibles en céramique oxyde de cuivre - oxyde d'indium cible de pulvérisation

Cuo-In2o3 Cibles en céramique oxyde de cuivre - oxyde d'indium cible de pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Disque de cible de pulvérisation en oxyde de baryum de yttrium de haute qualité

Disque de cible de pulvérisation en oxyde de baryum de yttrium de haute qualité

190,00-199,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation d'oxyde d'ytterbium de haute pureté pour des applications avancées

Cible de pulvérisation d'oxyde d'ytterbium de haute pureté pour des applications avancées

190,00-199,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation d'oxyde de yttrium premium Y2o3 pour revêtements

Cible de pulvérisation d'oxyde de yttrium premium Y2o3 pour revêtements

115,00-130,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible en cérium premium carrée pour applications de revêtement avancées

Cible en cérium premium carrée pour applications de revêtement avancées

55,00-85,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Dépôt par pulvérisation magnétron à double cible en courant continu pour films minces métalliques et oxydes

Dépôt par pulvérisation magnétron à double cible en courant continu pour films minces métalliques et oxydes

21 000,00-26 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Quatre machines de revêtement par pulvérisation magnétron à cible pour semi-conducteurs

Quatre machines de revêtement par pulvérisation magnétron à cible pour semi-conducteurs

8 730,00-8 900,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coqueur de pulvérisation par magnétron à trois cibles DC pour film PTFE

Coqueur de pulvérisation par magnétron à trois cibles DC pour film PTFE

28 500,00-40 100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coateur de pulvérisation magnétron personnalisé avec 3 cibles pour la préparation de métal

Coateur de pulvérisation magnétron personnalisé avec 3 cibles pour la préparation de métal

28 500,00-40 100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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99.99% Cible de Sputtering en Oxyde de Gallium Cible Plane Ga2o3 Cible

99.99% Cible de Sputtering en Oxyde de Gallium Cible Plane Ga2o3 Cible

300,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Équipement de pulvérisation plasma revêtement anti-adhérent résistant à l'usure en silice aluminium alumine zirconium

Équipement de pulvérisation plasma revêtement anti-adhérent résistant à l'usure en silice aluminium alumine zirconium

35 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

Envoyer demande
Cible en oxyde d'indium et d'étain ITO pour pulvérisation sous vide PVD cible verte

Cible en oxyde d'indium et d'étain ITO pour pulvérisation sous vide PVD cible verte

4 600,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible d'oxyde d'indium et d'étain

Cible d'oxyde d'indium et d'étain

7 800,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Cible de pulvérisation Titane Al Cu Chrome Ni Tube de magnétro PVD rotatif de revêtement

Cible de pulvérisation Titane Al Cu Chrome Ni Tube de magnétro PVD rotatif de revêtement

0,50-10,00 $US
10 Pièces(MOQ)
Pièces de tournage CNC en aluminium anodisé pour machines de précision

Pièces de tournage CNC en aluminium anodisé pour machines de précision

0,50-10,00 $US
10 Pièces(MOQ)
1/4

Jiangxi CNP New Chemical Materials Co., Ltd.

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Oxyde d'étain (SnO2) Matériau d'évaporation en pellet 1-10mm Pureté 99.99% Cible de pulvérisation

Oxyde d'étain (SnO2) Matériau d'évaporation en pellet 1-10mm Pureté 99.99% Cible de pulvérisation

200,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 ans
·Société Commerciale
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Barre cible en métal de terbium granulaire Numéro CAS 7440-27-9 Tb 3n 4n

Barre cible en métal de terbium granulaire Numéro CAS 7440-27-9 Tb 3n 4n

Négociable
1 Piece(MOQ)
Tige de métal d'yttrium granulaire, numéro CAS 7440-65-5 Y 3n 4n 5n

Tige de métal d'yttrium granulaire, numéro CAS 7440-65-5 Y 3n 4n 5n

Négociable
1 Piece(MOQ)
Barre cible en métal de thulium granulaire, numéro CAS 7440-30-4 TM 2n 3n 3n5

Barre cible en métal de thulium granulaire, numéro CAS 7440-30-4 TM 2n 3n 3n5

Négociable
1 Piece(MOQ)
Barre cible en métal de lutécium granulaire avec le numéro CAS 7439-94-3 Lu 3n 4n

Barre cible en métal de lutécium granulaire avec le numéro CAS 7439-94-3 Lu 3n 4n

Négociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Plaque de cuivre Usine de Guangdong l'Indium tin oxide ITO Cibles de pulvérisation

Plaque de cuivre Usine de Guangdong l'Indium tin oxide ITO Cibles de pulvérisation

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Guangdong Factory Wholesale Pure 99.95% cuivre plaque pulvérisation de Target Fabrication

Guangdong Factory Wholesale Pure 99.95% cuivre plaque pulvérisation de Target Fabrication

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Pulvérisation en usine de cuivre cible rotatif pour conducteur semi-conducteur à revêtement métallique

Pulvérisation en usine de cuivre cible rotatif pour conducteur semi-conducteur à revêtement métallique

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Plaque de revêtement PVD Cu Multi Arc pulvérisation en usine cuivre cible Rotary Semiconductor

Plaque de revêtement PVD Cu Multi Arc pulvérisation en usine cuivre cible Rotary Semiconductor

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 ans
·Fabricant/Usine
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500W DC 300W RF Coater à Sputtering à Double Cible Magnetron pour le Sputtering de Métaux et d'Oxydes

500W DC 300W RF Coater à Sputtering à Double Cible Magnetron pour le Sputtering de Métaux et d'Oxydes

31 000,00-32 500,00 $US
1 set(MOQ)
4-Inch Coater à Sputtering DC Magnetron à Cible Unique pour Film d'Oxyde

4-Inch Coater à Sputtering DC Magnetron à Cible Unique pour Film d'Oxyde

32 000,00-34 000,00 $US
1 set(MOQ)
Revêtement par pulvérisation magnétron à double cible RF en céramique, diélectrique, optique, oxyde, film dur, film PTFE

Revêtement par pulvérisation magnétron à double cible RF en céramique, diélectrique, optique, oxyde, film dur, film PTFE

26 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement PVD sous vide par pulvérisation magnétron à double cible pour films semi-conducteurs

Machine de revêtement PVD sous vide par pulvérisation magnétron à double cible pour films semi-conducteurs

26 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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Igh Pureté 99.9%Min 1-10inch Ruo2 Oxyde de Ruthénium Targ

Igh Pureté 99.9%Min 1-10inch Ruo2 Oxyde de Ruthénium Targ

2 000,00-4 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
4inch 99.999% Cible en tungstène pour revêtement par pulvérisation

4inch 99.999% Cible en tungstène pour revêtement par pulvérisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
99.99. % Plaque en tungstène Wolfram Cible en tungstène pour pulvérisation sous vide au meilleur prix

99.99. % Plaque en tungstène Wolfram Cible en tungstène pour pulvérisation sous vide au meilleur prix

Négociable
1 Pièce(MOQ)
99.999% Wti20 Cible de pulvérisation en titane tungstène

99.999% Wti20 Cible de pulvérisation en titane tungstène

Négociable
1 Pièce(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent pour semi-conducteur d'oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron, spécifications personnalisées

Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent pour semi-conducteur d'oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron, spécifications personnalisées

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Matériau cible de l'oxyde d'ytterbium Yb2o3, matériau expérimental de recherche scientifique, revêtement de pulvérisation, revêtement par évaporation, semi-conducteur

Matériau cible de l'oxyde d'ytterbium Yb2o3, matériau expérimental de recherche scientifique, revêtement de pulvérisation, revêtement par évaporation, semi-conducteur

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Matériau cible d'oxyde de zinc aluminium (AZO) de haute pureté, oxyde de zinc (ZnO) dopé d'oxyde d'aluminium (Al2O3), cible d'oxyde de pulvérisation de magnétron, liaison de plaque arrière.

Matériau cible d'oxyde de zinc aluminium (AZO) de haute pureté, oxyde de zinc (ZnO) dopé d'oxyde d'aluminium (Al2O3), cible d'oxyde de pulvérisation de magnétron, liaison de plaque arrière.

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Résistance à la chaleur, solidité et ténacité cible ronde en titane

Résistance à la chaleur, solidité et ténacité cible ronde en titane

10,00 $US
5 Pièces(MOQ)
Feuille d'anode en titane selon le dessin du client

Feuille d'anode en titane selon le dessin du client

30,00 $US
1 kg(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Blocs de métal en aluminium, cible de pulvérisation en aluminium pour la recherche en laboratoire

Blocs de métal en aluminium, cible de pulvérisation en aluminium pour la recherche en laboratoire

2 960,00 $US
1 Tonne(MOQ)
1/4

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

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Ybco YBA2CU3O7 Yttrium oxyde de cuivre de baryum cible de pulvérisation

Ybco YBA2CU3O7 Yttrium oxyde de cuivre de baryum cible de pulvérisation

250,00-500,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Tianjin Jilian Technology Co., Ltd.

3 ans·5.0
·Société Commerciale
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Poudre de cible de pulvérisation d'oxyde de magnésium (MGO) CAS1309-48-4

Poudre de cible de pulvérisation d'oxyde de magnésium (MGO) CAS1309-48-4

550,00-1 500,00 $US
10 Tonnes(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible en tantale pour la science des matériaux avancés et les applications de recherche

Cible en tantale pour la science des matériaux avancés et les applications de recherche

Négociable
10 Kg(MOQ)
Cible en platine de tantale de haute pureté pour les applications aérospatiales et de défense

Cible en platine de tantale de haute pureté pour les applications aérospatiales et de défense

Négociable
10 Kg(MOQ)
Cible en tantale pour la recherche et le développement de matériaux avancés

Cible en tantale pour la recherche et le développement de matériaux avancés

Négociable
10 Kg(MOQ)
Cible en tantale pour usinage de précision et applications avancées

Cible en tantale pour usinage de précision et applications avancées

Négociable
10 Kg(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 ans·5.0
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Cible en molybdène pour le revêtement par pulvérisation sous vide

Cible en molybdène pour le revêtement par pulvérisation sous vide

45,00 $US
1 kg(MOQ)
Plaque ronde en molybdène expérimentée 99.95%

Plaque ronde en molybdène expérimentée 99.95%

30,00 $US
1 kg(MOQ)
Feuille de Tungstène Poli 99.95% pour Bouclier Thermique

Feuille de Tungstène Poli 99.95% pour Bouclier Thermique

45,00 $US
1 Kg(MOQ)
Métallurgie des poudres métalliques Plaque de tungstène

Métallurgie des poudres métalliques Plaque de tungstène

45,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/2

Taizhou ATS Optical Material Co., Ltd.

26 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Cible en silicium, plaquette de silicium, pièce en silicium monocrystallin

Cible en silicium, plaquette de silicium, pièce en silicium monocrystallin

4,00-5,00 $US
1 piece(MOQ)
Cible en silicium pièce de polysilicium

Cible en silicium pièce de polysilicium

26,00-28,00 $US
1 piece(MOQ)
Tranche de silicium polycristallin, wafer de silicium

Tranche de silicium polycristallin, wafer de silicium

26,00-28,00 $US
1 piece(MOQ)
1-3mm Si Granule de Silicium Intrinsèque Particules

1-3mm Si Granule de Silicium Intrinsèque Particules

97,50-100,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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L'Yttrium oxyde de zirconium Ysz(ZRO2/Y2O3 99,99 % cible de pulvérisation cible en céramique

L'Yttrium oxyde de zirconium Ysz(ZRO2/Y2O3 99,99 % cible de pulvérisation cible en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation de Feo 4n d'oxyde ferreux pour revêtement PVD

Cible de pulvérisation de Feo 4n d'oxyde ferreux pour revêtement PVD

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'oxyde de cible de pulvérisation de gallium Ga2O3 de la pureté de 99,99 % 4n

L'oxyde de cible de pulvérisation de gallium Ga2O3 de la pureté de 99,99 % 4n

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Pulvérisation de l'OTI cible de l'Indium tin oxide 4n 99,99 % pour le revêtement optique

Pulvérisation de l'OTI cible de l'Indium tin oxide 4n 99,99 % pour le revêtement optique

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

Envoyer demande
4n TiO2 Cibles en oxyde de titane Cibles rotatives Cibles plates

4n TiO2 Cibles en oxyde de titane Cibles rotatives Cibles plates

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
4n Nbo2 Cibles en oxyde de niobium rotatives Cibles plates

4n Nbo2 Cibles en oxyde de niobium rotatives Cibles plates

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
4n Nbo2 Cibles en oxyde de niobium rotatives pour revêtement sous vide

4n Nbo2 Cibles en oxyde de niobium rotatives pour revêtement sous vide

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.99% Rond Nbo2 Cibles en céramique à pulvérisation pour revêtement sous vide

99.99% Rond Nbo2 Cibles en céramique à pulvérisation pour revêtement sous vide

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

Envoyer demande
Le Rotary Tiox cible, principalement pour l'application Low-E le revêtement du verre, pulvérisation magnétron cible, cible d'oxyde de titane

Le Rotary Tiox cible, principalement pour l'application Low-E le revêtement du verre, pulvérisation magnétron cible, cible d'oxyde de titane

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Plaque cible de collage ITO oxyde d'étain indium cible de pulvérisation 99.99% 4n céramique.

Plaque cible de collage ITO oxyde d'étain indium cible de pulvérisation 99.99% 4n céramique.

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible 99.99 % ITO 97: 3 95: 5 90: 10 cible d'expectoration d'oxyde d'étain indium pour film conducteur

Cible 99.99 % ITO 97: 3 95: 5 90: 10 cible d'expectoration d'oxyde d'étain indium pour film conducteur

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Zro2 Fournisseur cible, ZRO2 cible de pulvérisation, de haute pureté ZRO2 prix cible pour revêtement PVD

Zro2 Fournisseur cible, ZRO2 cible de pulvérisation, de haute pureté ZRO2 prix cible pour revêtement PVD

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
Envoyer demande
Équipement de revêtement PVD par pulvérisation pour cibles doubles RF&DC&MF pour films multicouches conducteurs

Équipement de revêtement PVD par pulvérisation pour cibles doubles RF&DC&MF pour films multicouches conducteurs

45 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Système de pulvérisation par magnétron à haute vacuum polyvalent avec plusieurs cibles pour le dépôt de films multicouches composés

Système de pulvérisation par magnétron à haute vacuum polyvalent avec plusieurs cibles pour le dépôt de films multicouches composés

50 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coateur de pulvérisation par magnétron automatique de laboratoire pour films minces métalliques, oxydes et semi-conducteurs dans SEM, matériaux énergétiques

Coateur de pulvérisation par magnétron automatique de laboratoire pour films minces métalliques, oxydes et semi-conducteurs dans SEM, matériaux énergétiques

30 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Système de revêtement par pulvérisation ionique à double cible à haute vide pour petit coater

Système de revêtement par pulvérisation ionique à double cible à haute vide pour petit coater

12 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Able Target Limited

Envoyer demande
Cible de pulvérisation, Al2O3/oxyde d'aluminium, Al2O3/ZnO/azo oxyde de zinc en aluminium

Cible de pulvérisation, Al2O3/oxyde d'aluminium, Al2O3/ZnO/azo oxyde de zinc en aluminium

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cibles de pulvérisation

Cibles de pulvérisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cibles de pulvérisation de Gdbacuox et cibles de pulvérisation de Ybacuox, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

Cibles de pulvérisation de Gdbacuox et cibles de pulvérisation de Ybacuox, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation de terre rare

Cible de pulvérisation de terre rare

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

Envoyer demande
99.95% Zro pulvérisation d'oxyde de zirconium Zro plaques de feuille de cible Zro Cible de mastic aux oxydes de zirconium

99.95% Zro pulvérisation d'oxyde de zirconium Zro plaques de feuille de cible Zro Cible de mastic aux oxydes de zirconium

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Panneau d'extérieur rotatif à cible 99.99 % nbox à oxyde de niobium haute pureté Matériau de revêtement cible rotative de pulvérisation

Panneau d'extérieur rotatif à cible 99.99 % nbox à oxyde de niobium haute pureté Matériau de revêtement cible rotative de pulvérisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'OTI personnalisable de 99,99 % de la taille de l'Indium tin oxide Rotation de pulvérisation en céramique de l'oti la cible

L'OTI personnalisable de 99,99 % de la taille de l'Indium tin oxide Rotation de pulvérisation en céramique de l'oti la cible

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Plaques de feuilles cibles Gzo Gallium Zin à pulvérisation d'oxyde 99.95 % Cible de pulvérisation Gzo

Plaques de feuilles cibles Gzo Gallium Zin à pulvérisation d'oxyde 99.95 % Cible de pulvérisation Gzo

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

Envoyer demande
Cible de l'ATO, IR Film de fenêtre ATO, l'antimoine tin oxide cible

Cible de l'ATO, IR Film de fenêtre ATO, l'antimoine tin oxide cible

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'OTI cible, cible rotatif de l'OTI, Tp Tn TFT-LCD STN cible de l'OTI

L'OTI cible, cible rotatif de l'OTI, Tp Tn TFT-LCD STN cible de l'OTI

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'oxyde d'Indium cible, cible de l'In2O3

L'oxyde d'Indium cible, cible de l'In2O3

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Iwo cible, frappé de cellule solaire Iwo cible, cible d'oxyde Indium-Tungsten

Iwo cible, frappé de cellule solaire Iwo cible, cible d'oxyde Indium-Tungsten

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

Envoyer demande
Le Bi2O3 cible de pulvérisation en céramique

Le Bi2O3 cible de pulvérisation en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Al2O3 cible de pulvérisation en céramique

Al2O3 cible de pulvérisation en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Pulvérisation azo cible cible en oxyde de zinc en aluminium

Pulvérisation azo cible cible en oxyde de zinc en aluminium

Négociable
1 Pièce(MOQ)
ITO Target / In2o3: Sno2 = 90: 10wt% / ITO Planar Sputtering Target

ITO Target / In2o3: Sno2 = 90: 10wt% / ITO Planar Sputtering Target

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Weihai Chenyu Vacuum Technology Co., Ltd

4 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
Envoyer demande
Machine de revêtement par pulvérisation cathodique à grande échelle avec plusieurs cibles cathodiques pour le revêtement à l'argon

Machine de revêtement par pulvérisation cathodique à grande échelle avec plusieurs cibles cathodiques pour le revêtement à l'argon

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement de film conducteur transparent à haut rendement avec cible ITO et revêtement à l'argon

Machine de revêtement de film conducteur transparent à haut rendement avec cible ITO et revêtement à l'argon

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Système de revêtement de nouvelle génération avec machine de revêtement Ar pour la manipulation web

Système de revêtement de nouvelle génération avec machine de revêtement Ar pour la manipulation web

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement optique à haute précision avec source plasma avancée pour revêtement à l'argon

Machine de revêtement optique à haute précision avec source plasma avancée pour revêtement à l'argon

Négociable
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