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à propos de Cible d'oxyde
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Cible d'oxyde500+ usines vérifiées

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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In2O3+Cu céramique cible oxyde indium+Cuprum céramique cible de pulvérisation pour LCD/Touch Panneau

In2O3+Cu céramique cible oxyde indium+Cuprum céramique cible de pulvérisation pour LCD/Touch Panneau

40,00 $US
1 Kg(MOQ)
In2O3 Cible en oxyde d'indium céramique pour le sputtering pour écran LCD/panneau tactile

In2O3 Cible en oxyde d'indium céramique pour le sputtering pour écran LCD/panneau tactile

650,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible de pulvérisation Teo à oxyde de Telluride céramique pour semi-conducteur

Cible de pulvérisation Teo à oxyde de Telluride céramique pour semi-conducteur

500,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible de pulvérisation en oxyde de cuivre haute pureté pour semi-conducteur

Cible de pulvérisation en oxyde de cuivre haute pureté pour semi-conducteur

10,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Cibles de pulvérisation d'oxyde d'indium et d'étain ITO au meilleur prix

Cibles de pulvérisation d'oxyde d'indium et d'étain ITO au meilleur prix

50,00-999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible d'oxyde d'hafnium 99.99% Cible blanche Hfo2 Cible en céramique

Cible d'oxyde d'hafnium 99.99% Cible blanche Hfo2 Cible en céramique

110,00-120,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en oxyde de ruthénium haute pureté personnalisée

Cible de pulvérisation en oxyde de ruthénium haute pureté personnalisée

500,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cibles de pulvérisation d'oxyde de molybdène de haute qualité Mno3 pour l'optique

Cibles de pulvérisation d'oxyde de molybdène de haute qualité Mno3 pour l'optique

20,00-30,00 $US
10 Pièces(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Zro2-Sio2 Cible en céramique Zirconium - Oxyde de silicium Dioxyde de zirconium Silicate de zirconium Cibles de pulvérisation

Zro2-Sio2 Cible en céramique Zirconium - Oxyde de silicium Dioxyde de zirconium Silicate de zirconium Cibles de pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.99% Cible en céramique MGO oxyde de magnésium cibles de pulvérisation

99.99% Cible en céramique MGO oxyde de magnésium cibles de pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cibles en céramique d'oxyde de niobium de haute pureté Nb2o5 pour le sputtering

Cibles en céramique d'oxyde de niobium de haute pureté Nb2o5 pour le sputtering

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cibles en céramique ATO en oxyde d'étain dopé à l'antimoine pour pulvérisation

Cibles en céramique ATO en oxyde d'étain dopé à l'antimoine pour pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Cible de pulvérisation en oxyde de yttrium de haute pureté pour des applications de revêtement

Cible de pulvérisation en oxyde de yttrium de haute pureté pour des applications de revêtement

115,00-130,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation d'oxyde d'ytterbium de haute pureté pour des applications électroniques

Cible de pulvérisation d'oxyde d'ytterbium de haute pureté pour des applications électroniques

190,00-199,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Disque de cible de pulvérisation en oxyde de baryum de yttrium cuivre premium pour l'électronique

Disque de cible de pulvérisation en oxyde de baryum de yttrium cuivre premium pour l'électronique

190,00-199,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Vente de cibles de pulvérisation de cérium en terre rare directement d'usine

Vente de cibles de pulvérisation de cérium en terre rare directement d'usine

55,00-85,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Cible de Sputtering d'Oxyde de Yttrium Y2o3 Cible

Cible de Sputtering d'Oxyde de Yttrium Y2o3 Cible

6 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible d'oxyde d'indium et d'étain

Cible d'oxyde d'indium et d'étain

7 800,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de Sputtering en Oxyde d'Aluminium Al2O3 Cible

Cible de Sputtering en Oxyde d'Aluminium Al2O3 Cible

6 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible en oxyde d'indium et d'étain ITO pour pulvérisation sous vide PVD cible verte

Cible en oxyde d'indium et d'étain ITO pour pulvérisation sous vide PVD cible verte

4 600,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Dépôt par pulvérisation magnétron à double cible en courant continu pour films minces métalliques et oxydes

Dépôt par pulvérisation magnétron à double cible en courant continu pour films minces métalliques et oxydes

21 000,00-26 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Trois instruments de pulvérisation par magnétron à trois cibles pour films semi-conducteurs

Trois instruments de pulvérisation par magnétron à trois cibles pour films semi-conducteurs

37 300,00-126 870,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation rotative simple par RF pour revêtement par magnétron pour la recherche sur les cellules solaires

Cible de pulvérisation rotative simple par RF pour revêtement par magnétron pour la recherche sur les cellules solaires

30 000,00-39 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coqueur de pulvérisation par magnétron à trois cibles DC pour film PTFE

Coqueur de pulvérisation par magnétron à trois cibles DC pour film PTFE

28 500,00-40 100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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99.99% Cible de Sputtering en Oxyde de Gallium Cible Plane Ga2o3 Cible

99.99% Cible de Sputtering en Oxyde de Gallium Cible Plane Ga2o3 Cible

300,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Équipement de pulvérisation plasma revêtement anti-adhérent résistant à l'usure en silice aluminium alumine zirconium

Équipement de pulvérisation plasma revêtement anti-adhérent résistant à l'usure en silice aluminium alumine zirconium

35 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Cible de pulvérisation Titane Al Cu Chrome Ni Tube de magnétro PVD rotatif de revêtement

Cible de pulvérisation Titane Al Cu Chrome Ni Tube de magnétro PVD rotatif de revêtement

0,50-10,00 $US
10 Pièces(MOQ)
Pièces de tournage CNC en aluminium anodisé pour machines de précision

Pièces de tournage CNC en aluminium anodisé pour machines de précision

0,50-10,00 $US
10 Pièces(MOQ)
1/4

Jiangxi CNP New Chemical Materials Co., Ltd.

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Oxyde d'étain (SnO2) Matériau d'évaporation en pellet 1-10mm Pureté 99.99% Cible de pulvérisation

Oxyde d'étain (SnO2) Matériau d'évaporation en pellet 1-10mm Pureté 99.99% Cible de pulvérisation

200,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 ans
·Société Commerciale
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Barre cible en métal de thulium granulaire, numéro CAS 7440-30-4 TM 2n 3n 3n5

Barre cible en métal de thulium granulaire, numéro CAS 7440-30-4 TM 2n 3n 3n5

Négociable
1 Piece(MOQ)
Tige en métal d'holmium granulaire, numéro CAS 7440-60-0 Ho 3n 4n

Tige en métal d'holmium granulaire, numéro CAS 7440-60-0 Ho 3n 4n

Négociable
1 Piece(MOQ)
Cible en métal d'europium tige granulaire CAS No 7440-53-1 EU 3n 4n

Cible en métal d'europium tige granulaire CAS No 7440-53-1 EU 3n 4n

Négociable
1 Piece(MOQ)
Barre cible en métal de praséodyme granulaire, numéro CAS 7440-10-0 Pr 2n5 3n

Barre cible en métal de praséodyme granulaire, numéro CAS 7440-10-0 Pr 2n5 3n

Négociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Plaque de cuivre Usine de Guangdong l'Indium tin oxide ITO Cibles de pulvérisation

Plaque de cuivre Usine de Guangdong l'Indium tin oxide ITO Cibles de pulvérisation

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Pulvérisation en usine de cuivre cible rotatif pour conducteur semi-conducteur à revêtement métallique

Pulvérisation en usine de cuivre cible rotatif pour conducteur semi-conducteur à revêtement métallique

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Plaque de revêtement PVD Cu Multi Arc pulvérisation en usine cuivre cible Rotary Semiconductor

Plaque de revêtement PVD Cu Multi Arc pulvérisation en usine cuivre cible Rotary Semiconductor

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Guangdong Factory Wholesale Pure 99.95% cuivre plaque pulvérisation de Target Fabrication

Guangdong Factory Wholesale Pure 99.95% cuivre plaque pulvérisation de Target Fabrication

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 ans
·Fabricant/Usine
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4-Inch Coater à Sputtering DC Magnetron à Cible Unique pour Film d'Oxyde

4-Inch Coater à Sputtering DC Magnetron à Cible Unique pour Film d'Oxyde

32 000,00-34 000,00 $US
1 set(MOQ)
500W DC 300W RF Coater à Sputtering à Double Cible Magnetron pour le Sputtering de Métaux et d'Oxydes

500W DC 300W RF Coater à Sputtering à Double Cible Magnetron pour le Sputtering de Métaux et d'Oxydes

31 000,00-32 500,00 $US
1 set(MOQ)
Revêtement par pulvérisation magnétron à double cible RF en céramique, diélectrique, optique, oxyde, film dur, film PTFE

Revêtement par pulvérisation magnétron à double cible RF en céramique, diélectrique, optique, oxyde, film dur, film PTFE

26 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement PVD sous vide par pulvérisation magnétron à double cible pour films semi-conducteurs

Machine de revêtement PVD sous vide par pulvérisation magnétron à double cible pour films semi-conducteurs

26 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 ans
·Société Commerciale
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Igh Pureté 99.9%Min 1-10inch Ruo2 Oxyde de Ruthénium Targ

Igh Pureté 99.9%Min 1-10inch Ruo2 Oxyde de Ruthénium Targ

2 000,00-4 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.99. % Plaque en tungstène Wolfram Cible en tungstène pour pulvérisation sous vide au meilleur prix

99.99. % Plaque en tungstène Wolfram Cible en tungstène pour pulvérisation sous vide au meilleur prix

Négociable
1 Pièce(MOQ)
99.999% Wti20 Cible de pulvérisation en titane tungstène

99.999% Wti20 Cible de pulvérisation en titane tungstène

Négociable
1 Pièce(MOQ)
99.99% Cible de pulvérisation en tungstène de haute pureté, 5n Cible en tungstène

99.99% Cible de pulvérisation en tungstène de haute pureté, 5n Cible en tungstène

Négociable
1 Pièce(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent pour semi-conducteur d'oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron, spécifications personnalisées

Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent pour semi-conducteur d'oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron, spécifications personnalisées

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Matériau cible d'oxyde de zinc aluminium (AZO) de haute pureté, oxyde de zinc (ZnO) dopé d'oxyde d'aluminium (Al2O3), cible d'oxyde de pulvérisation de magnétron, liaison de plaque arrière.

Matériau cible d'oxyde de zinc aluminium (AZO) de haute pureté, oxyde de zinc (ZnO) dopé d'oxyde d'aluminium (Al2O3), cible d'oxyde de pulvérisation de magnétron, liaison de plaque arrière.

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Matériau cible de l'oxyde d'ytterbium Yb2o3, matériau expérimental de recherche scientifique, revêtement de pulvérisation, revêtement par évaporation, semi-conducteur

Matériau cible de l'oxyde d'ytterbium Yb2o3, matériau expérimental de recherche scientifique, revêtement de pulvérisation, revêtement par évaporation, semi-conducteur

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Résistance à la chaleur, solidité et ténacité cible ronde en titane

Résistance à la chaleur, solidité et ténacité cible ronde en titane

10,00 $US
5 Pièces(MOQ)
Feuille d'anode en titane selon le dessin du client

Feuille d'anode en titane selon le dessin du client

30,00 $US
1 kg(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Blocs de métal en aluminium, cible de pulvérisation en aluminium pour la recherche en laboratoire

Blocs de métal en aluminium, cible de pulvérisation en aluminium pour la recherche en laboratoire

2 960,00 $US
1 Tonne(MOQ)
1/4

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

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Ybco YBA2CU3O7 Yttrium oxyde de cuivre de baryum cible de pulvérisation

Ybco YBA2CU3O7 Yttrium oxyde de cuivre de baryum cible de pulvérisation

250,00-500,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Tianjin Jilian Technology Co., Ltd.

3 ans·5.0
·Société Commerciale
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Poudre de cible de pulvérisation d'oxyde de magnésium (MGO) CAS1309-48-4

Poudre de cible de pulvérisation d'oxyde de magnésium (MGO) CAS1309-48-4

550,00-1 500,00 $US
10 Tonnes(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Cible en tantale pour usinage de précision et applications avancées

Cible en tantale pour usinage de précision et applications avancées

Négociable
10 Kg(MOQ)
Cible en tantale pour la recherche et le développement de matériaux avancés

Cible en tantale pour la recherche et le développement de matériaux avancés

Négociable
10 Kg(MOQ)
Cible en platine de tantale de haute pureté pour les applications aérospatiales et de défense

Cible en platine de tantale de haute pureté pour les applications aérospatiales et de défense

Négociable
10 Kg(MOQ)
Cible en tantale pour des projets de recherche et développement innovants

Cible en tantale pour des projets de recherche et développement innovants

Négociable
10 Kg(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 ans·5.0
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Cible en molybdène pour le revêtement par pulvérisation sous vide

Cible en molybdène pour le revêtement par pulvérisation sous vide

45,00 $US
1 kg(MOQ)
Fabricant chinois de haute pureté feuille ronde de molybdène de super qualité

Fabricant chinois de haute pureté feuille ronde de molybdène de super qualité

40,00 $US
1 kg(MOQ)
Métallurgie des poudres métalliques Plaque de tungstène

Métallurgie des poudres métalliques Plaque de tungstène

45,00 $US
1 Kg(MOQ)
Plaque de tungstène pur à haute densité 19.3G/Cm3

Plaque de tungstène pur à haute densité 19.3G/Cm3

50,00 $US
10 Kg(MOQ)
1/2

Taizhou ATS Optical Material Co., Ltd.

26 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Cible en silicium pièce de polysilicium

Cible en silicium pièce de polysilicium

26,00-28,00 $US
1 piece(MOQ)
Cible en silicium, plaquette de silicium, pièce en silicium monocrystallin

Cible en silicium, plaquette de silicium, pièce en silicium monocrystallin

4,00-5,00 $US
1 piece(MOQ)
Pièce de silicium monocristallin, plaquette de silicium

Pièce de silicium monocristallin, plaquette de silicium

4,00-5,00 $US
1 piece(MOQ)
99.9999% Granules de silicium pur pour la génération d'énergie solaire

99.9999% Granules de silicium pur pour la génération d'énergie solaire

97,50-100,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Alliage de haute pureté de 99,99 % cible 4n'oxyde de nickel NIO pour revêtement optique Thin-Film PVD l'évaporation

Alliage de haute pureté de 99,99 % cible 4n'oxyde de nickel NIO pour revêtement optique Thin-Film PVD l'évaporation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Pulvérisation de l'OTI cible de l'Indium tin oxide 4n 99,99 % pour le revêtement optique

Pulvérisation de l'OTI cible de l'Indium tin oxide 4n 99,99 % pour le revêtement optique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'oxyde de cible de pulvérisation de gallium Ga2O3 de la pureté de 99,99 % 4n

L'oxyde de cible de pulvérisation de gallium Ga2O3 de la pureté de 99,99 % 4n

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'Yttrium oxyde de zirconium Ysz(ZRO2/Y2O3 99,99 % cible de pulvérisation cible en céramique

L'Yttrium oxyde de zirconium Ysz(ZRO2/Y2O3 99,99 % cible de pulvérisation cible en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

Envoyer demande
4n Nbo2 Cibles en oxyde de niobium rotatives Cibles plates

4n Nbo2 Cibles en oxyde de niobium rotatives Cibles plates

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
4n TiO2 Cibles en oxyde de titane Cibles rotatives Cibles plates

4n TiO2 Cibles en oxyde de titane Cibles rotatives Cibles plates

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
4n Cible en alumine Al2O3 Cible, oxyde d'aluminium cibles rotatives cibles plates

4n Cible en alumine Al2O3 Cible, oxyde d'aluminium cibles rotatives cibles plates

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cibles rondes en oxyde de titane avec 99.99% pureté

Cibles rondes en oxyde de titane avec 99.99% pureté

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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Le Rotary Tiox cible, principalement pour l'application Low-E le revêtement du verre, pulvérisation magnétron cible, cible d'oxyde de titane

Le Rotary Tiox cible, principalement pour l'application Low-E le revêtement du verre, pulvérisation magnétron cible, cible d'oxyde de titane

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Plaque cible de collage ITO oxyde d'étain indium cible de pulvérisation 99.99% 4n céramique.

Plaque cible de collage ITO oxyde d'étain indium cible de pulvérisation 99.99% 4n céramique.

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible 99.99 % ITO 97: 3 95: 5 90: 10 cible d'expectoration d'oxyde d'étain indium pour film conducteur

Cible 99.99 % ITO 97: 3 95: 5 90: 10 cible d'expectoration d'oxyde d'étain indium pour film conducteur

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Dans de haute pureté2O3 Poudre d'oxyde d'indium, utilisé pour produire de l'OTI cible de pulvérisation, indium Oxyde en trioxyde d2O3 en poudre

Dans de haute pureté2O3 Poudre d'oxyde d'indium, utilisé pour produire de l'OTI cible de pulvérisation, indium Oxyde en trioxyde d2O3 en poudre

Négociable
50 Kg(MOQ)

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Équipement de revêtement PVD par pulvérisation pour cibles doubles RF&DC&MF pour films multicouches conducteurs

Équipement de revêtement PVD par pulvérisation pour cibles doubles RF&DC&MF pour films multicouches conducteurs

45 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Système de pulvérisation par magnétron à haute vacuum polyvalent avec plusieurs cibles pour le dépôt de films multicouches composés

Système de pulvérisation par magnétron à haute vacuum polyvalent avec plusieurs cibles pour le dépôt de films multicouches composés

50 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coateur de pulvérisation par magnétron automatique de laboratoire pour films minces métalliques, oxydes et semi-conducteurs dans SEM, matériaux énergétiques

Coateur de pulvérisation par magnétron automatique de laboratoire pour films minces métalliques, oxydes et semi-conducteurs dans SEM, matériaux énergétiques

30 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Matériaux de revêtement PVD de haute pureté de la marque TMAXCN, cible de pulvérisation en oxyde de tungstène Wo3

Matériaux de revêtement PVD de haute pureté de la marque TMAXCN, cible de pulvérisation en oxyde de tungstène Wo3

78,00-90,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

Envoyer demande
Le Bi2O3 cible de pulvérisation en céramique

Le Bi2O3 cible de pulvérisation en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
ITO Target / In2o3: Sno2 = 90: 10wt% / ITO Planar Sputtering Target

ITO Target / In2o3: Sno2 = 90: 10wt% / ITO Planar Sputtering Target

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Al2O3 cible de pulvérisation en céramique

Al2O3 cible de pulvérisation en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Pulvérisation azo cible cible en oxyde de zinc en aluminium

Pulvérisation azo cible cible en oxyde de zinc en aluminium

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

Envoyer demande
L'OTI pulvérisation planaire cible, film de verre de l'OTI, TP/TN/STN/TFT-LCD cible de l'OTI

L'OTI pulvérisation planaire cible, film de verre de l'OTI, TP/TN/STN/TFT-LCD cible de l'OTI

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de l'OTI, LED / / OLED Tp cible de l'OTI, LED Semiconductor ITO Slug

Cible de l'OTI, LED / / OLED Tp cible de l'OTI, LED Semiconductor ITO Slug

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de l'ATO, IR Film de fenêtre ATO, l'antimoine tin oxide cible

Cible de l'ATO, IR Film de fenêtre ATO, l'antimoine tin oxide cible

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'oxyde d'Indium cible, cible de l'In2O3

L'oxyde d'Indium cible, cible de l'In2O3

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

Envoyer demande
99,95 % ZnO pour produire du verre à haute efficacité énergétique low-e verre Verre pulvérisation Smart oxyde de zinc ZnO cible les plaques de feuille

99,95 % ZnO pour produire du verre à haute efficacité énergétique low-e verre Verre pulvérisation Smart oxyde de zinc ZnO cible les plaques de feuille

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Plaques de feuilles cibles Gzo Gallium Zin à pulvérisation d'oxyde 99.95 % Cible de pulvérisation Gzo

Plaques de feuilles cibles Gzo Gallium Zin à pulvérisation d'oxyde 99.95 % Cible de pulvérisation Gzo

Négociable
1 Pièce(MOQ)
99,9 % Tiox oxyde de titane Rotary pulvérisation Cible Cible revêtement sous vide PVD oxyde de titane Tiox cible de pulvérisation

99,9 % Tiox oxyde de titane Rotary pulvérisation Cible Cible revêtement sous vide PVD oxyde de titane Tiox cible de pulvérisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Panneau d'extérieur rotatif à cible 99.99 % nbox à oxyde de niobium haute pureté Matériau de revêtement cible rotative de pulvérisation

Panneau d'extérieur rotatif à cible 99.99 % nbox à oxyde de niobium haute pureté Matériau de revêtement cible rotative de pulvérisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Able Target Limited

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Cibles de pulvérisation de Gdbacuox et cibles de pulvérisation de Ybacuox, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

Cibles de pulvérisation de Gdbacuox et cibles de pulvérisation de Ybacuox, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation, Al2O3/oxyde d'aluminium, Al2O3/ZnO/azo oxyde de zinc en aluminium

Cible de pulvérisation, Al2O3/oxyde d'aluminium, Al2O3/ZnO/azo oxyde de zinc en aluminium

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cibles de pulvérisation

Cibles de pulvérisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation de terre rare

Cible de pulvérisation de terre rare

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Weihai Chenyu Vacuum Technology Co., Ltd

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·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Machine de revêtement par pulvérisation cathodique à grande échelle avec plusieurs cibles cathodiques pour le revêtement à l'argon

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Machine de revêtement de film conducteur transparent à haut rendement avec cible ITO et revêtement à l'argon

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Production de revêtement anti-reflet pour l'industrie de l'optique Machine de revêtement Ar

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Machine de revêtement optique de précision avec nettoyage plasma avancé

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