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à propos de Cible d'oxyde
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Cible d'oxyde500+ usines vérifiées

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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In2O3+Cu céramique cible oxyde indium+Cuprum céramique cible de pulvérisation pour LCD/Touch Panneau

In2O3+Cu céramique cible oxyde indium+Cuprum céramique cible de pulvérisation pour LCD/Touch Panneau

40,00 $US
1 Kg(MOQ)
SiO2 Cible céramique de pulvérisation oxyde de silicium cible céramique de pulvérisation pour revêtement de film PVD

SiO2 Cible céramique de pulvérisation oxyde de silicium cible céramique de pulvérisation pour revêtement de film PVD

25,00-100,00 $US
1 Kg(MOQ)
IAO Target Indium oxyde d'aluminium céramique Tergret pour écran tactile LCD/LED Panneau

IAO Target Indium oxyde d'aluminium céramique Tergret pour écran tactile LCD/LED Panneau

340,00 $US
1 Kg(MOQ)
Nb2O5 Cible Nb2Ox Cible en oxyde de niobium pour le revêtement de films minces optiques semi-conducteurs

Nb2O5 Cible Nb2Ox Cible en oxyde de niobium pour le revêtement de films minces optiques semi-conducteurs

100,00-130,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.99% Noir Pur TiO2 Cible de Sputtering en Céramique d'Oxyde de Titane

99.99% Noir Pur TiO2 Cible de Sputtering en Céramique d'Oxyde de Titane

30,00-800,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation d'oxyde de tantale de haute pureté

Cible de pulvérisation d'oxyde de tantale de haute pureté

20,00-30,00 $US
10 Pièces(MOQ)
Cibles de pulvérisation en céramique d'oxyde d'aluminium de haute pureté pour revêtement

Cibles de pulvérisation en céramique d'oxyde d'aluminium de haute pureté pour revêtement

110,00-120,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de sputtering en céramique d'oxyde d'aluminium 99.99% Al2O3 Cibles pour film diélectrique de porte

Cible de sputtering en céramique d'oxyde d'aluminium 99.99% Al2O3 Cibles pour film diélectrique de porte

110,00-120,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Al2O3-MGO Cibles en céramique oxyde d'aluminium - oxyde de magnésium cibles de pulvérisation

Al2O3-MGO Cibles en céramique oxyde d'aluminium - oxyde de magnésium cibles de pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Zro2-Sio2 Cible en céramique Zirconium - Oxyde de silicium Dioxyde de zirconium Silicate de zirconium Cibles de pulvérisation

Zro2-Sio2 Cible en céramique Zirconium - Oxyde de silicium Dioxyde de zirconium Silicate de zirconium Cibles de pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible en céramique d'alliage Tiox dioxyde de titane oxyde de titane cible de pulvérisation

Cible en céramique d'alliage Tiox dioxyde de titane oxyde de titane cible de pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.99% Cible en céramique MGO oxyde de magnésium cibles de pulvérisation

99.99% Cible en céramique MGO oxyde de magnésium cibles de pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
Envoyer demande
Disque de cible de pulvérisation en oxyde de baryum de yttrium de haute qualité

Disque de cible de pulvérisation en oxyde de baryum de yttrium de haute qualité

190,00-199,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation d'oxyde de yttrium premium Y2o3 pour revêtements

Cible de pulvérisation d'oxyde de yttrium premium Y2o3 pour revêtements

115,00-130,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation d'oxyde d'ytterbium de haute pureté pour des applications avancées

Cible de pulvérisation d'oxyde d'ytterbium de haute pureté pour des applications avancées

190,00-199,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible cylindrique en terres rares pour une efficacité améliorée des semi-conducteurs

Cible cylindrique en terres rares pour une efficacité améliorée des semi-conducteurs

55,00-85,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
Envoyer demande
Dépôt par pulvérisation magnétron à double cible en courant continu pour films minces métalliques et oxydes

Dépôt par pulvérisation magnétron à double cible en courant continu pour films minces métalliques et oxydes

21 000,00-26 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation rotative simple par RF pour revêtement par magnétron pour la recherche sur les cellules solaires

Cible de pulvérisation rotative simple par RF pour revêtement par magnétron pour la recherche sur les cellules solaires

30 000,00-39 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Quatre machines de revêtement par pulvérisation magnétron à cible pour semi-conducteurs

Quatre machines de revêtement par pulvérisation magnétron à cible pour semi-conducteurs

8 730,00-8 900,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coateur de pulvérisation par magnétron à haute performance coût trois cibles (500W DC&500W RF)

Coateur de pulvérisation par magnétron à haute performance coût trois cibles (500W DC&500W RF)

28 500,00-40 100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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99.99% Cible de Sputtering en Oxyde de Gallium Cible Plane Ga2o3 Cible

99.99% Cible de Sputtering en Oxyde de Gallium Cible Plane Ga2o3 Cible

300,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Équipement de pulvérisation plasma revêtement anti-adhérent résistant à l'usure en silice aluminium alumine zirconium

Équipement de pulvérisation plasma revêtement anti-adhérent résistant à l'usure en silice aluminium alumine zirconium

35 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

Envoyer demande
Cible d'oxyde d'indium et d'étain

Cible d'oxyde d'indium et d'étain

7 800,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible en oxyde d'indium et d'étain ITO pour pulvérisation sous vide PVD cible verte

Cible en oxyde d'indium et d'étain ITO pour pulvérisation sous vide PVD cible verte

4 600,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Cible de pulvérisation Titane Al Cu Chrome Ni Tube de magnétro PVD rotatif de revêtement

Cible de pulvérisation Titane Al Cu Chrome Ni Tube de magnétro PVD rotatif de revêtement

0,50-10,00 $US
10 Pièces(MOQ)
Pièces de tournage CNC en aluminium anodisé pour machines de précision

Pièces de tournage CNC en aluminium anodisé pour machines de précision

0,50-10,00 $US
10 Pièces(MOQ)
1/4

Jiangxi CNP New Chemical Materials Co., Ltd.

Envoyer demande
Oxyde d'étain (SnO2) Matériau d'évaporation en pellet 1-10mm Pureté 99.99% Cible de pulvérisation

Oxyde d'étain (SnO2) Matériau d'évaporation en pellet 1-10mm Pureté 99.99% Cible de pulvérisation

200,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 ans
·Société Commerciale
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Barre cible en métal de gadolinium granulaire CAS No 7440-54-2 Gd 3n 4n

Barre cible en métal de gadolinium granulaire CAS No 7440-54-2 Gd 3n 4n

Négociable
1 Piece(MOQ)
Barre cible en métal de thulium granulaire, numéro CAS 7440-30-4 TM 2n 3n 3n5

Barre cible en métal de thulium granulaire, numéro CAS 7440-30-4 TM 2n 3n 3n5

Négociable
1 Piece(MOQ)
Tige en métal d'holmium granulaire, numéro CAS 7440-60-0 Ho 3n 4n

Tige en métal d'holmium granulaire, numéro CAS 7440-60-0 Ho 3n 4n

Négociable
1 Piece(MOQ)
Barre cible en métal de praséodyme granulaire, numéro CAS 7440-10-0 Pr 2n5 3n

Barre cible en métal de praséodyme granulaire, numéro CAS 7440-10-0 Pr 2n5 3n

Négociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

Envoyer demande
Plaque de cuivre Usine de Guangdong l'Indium tin oxide ITO Cibles de pulvérisation

Plaque de cuivre Usine de Guangdong l'Indium tin oxide ITO Cibles de pulvérisation

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Pulvérisation en usine de cuivre cible rotatif pour conducteur semi-conducteur à revêtement métallique

Pulvérisation en usine de cuivre cible rotatif pour conducteur semi-conducteur à revêtement métallique

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Guangdong Factory Wholesale Pure 99.95% cuivre plaque pulvérisation de Target Fabrication

Guangdong Factory Wholesale Pure 99.95% cuivre plaque pulvérisation de Target Fabrication

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Plaque de revêtement PVD Cu Multi Arc pulvérisation en usine cuivre cible Rotary Semiconductor

Plaque de revêtement PVD Cu Multi Arc pulvérisation en usine cuivre cible Rotary Semiconductor

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 ans
·Fabricant/Usine
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500W DC 300W RF Coater à Sputtering à Double Cible Magnetron pour le Sputtering de Métaux et d'Oxydes

500W DC 300W RF Coater à Sputtering à Double Cible Magnetron pour le Sputtering de Métaux et d'Oxydes

31 000,00-32 500,00 $US
1 set(MOQ)
Revêtement par pulvérisation magnétron à double cible RF en céramique, diélectrique, optique, oxyde, film dur, film PTFE

Revêtement par pulvérisation magnétron à double cible RF en céramique, diélectrique, optique, oxyde, film dur, film PTFE

26 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
4-Inch Coater à Sputtering DC Magnetron à Cible Unique pour Film d'Oxyde

4-Inch Coater à Sputtering DC Magnetron à Cible Unique pour Film d'Oxyde

32 000,00-34 000,00 $US
1 set(MOQ)
Machine de revêtement PVD sous vide par pulvérisation magnétron à double cible pour films semi-conducteurs

Machine de revêtement PVD sous vide par pulvérisation magnétron à double cible pour films semi-conducteurs

26 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

Envoyer demande
Igh Pureté 99.9%Min 1-10inch Ruo2 Oxyde de Ruthénium Targ

Igh Pureté 99.9%Min 1-10inch Ruo2 Oxyde de Ruthénium Targ

2 000,00-4 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.99% Cible de pulvérisation en tungstène de haute pureté, 5n Cible en tungstène

99.99% Cible de pulvérisation en tungstène de haute pureté, 5n Cible en tungstène

Négociable
1 Pièce(MOQ)
99.98%~99.998% Cible en aluminium Al pour condensateurs électrolytiques

99.98%~99.998% Cible en aluminium Al pour condensateurs électrolytiques

Négociable
1 Pièce(MOQ)
5n Tungsten en en forme de croissant W pulvérisation personnalisation de la cible

5n Tungsten en en forme de croissant W pulvérisation personnalisation de la cible

Négociable
1 Pièce(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent pour semi-conducteur d'oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron, spécifications personnalisées

Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent pour semi-conducteur d'oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron, spécifications personnalisées

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Matériau cible de l'oxyde d'ytterbium Yb2o3, matériau expérimental de recherche scientifique, revêtement de pulvérisation, revêtement par évaporation, semi-conducteur

Matériau cible de l'oxyde d'ytterbium Yb2o3, matériau expérimental de recherche scientifique, revêtement de pulvérisation, revêtement par évaporation, semi-conducteur

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Matériau cible d'oxyde de zinc aluminium (AZO) de haute pureté, oxyde de zinc (ZnO) dopé d'oxyde d'aluminium (Al2O3), cible d'oxyde de pulvérisation de magnétron, liaison de plaque arrière.

Matériau cible d'oxyde de zinc aluminium (AZO) de haute pureté, oxyde de zinc (ZnO) dopé d'oxyde d'aluminium (Al2O3), cible d'oxyde de pulvérisation de magnétron, liaison de plaque arrière.

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Résistance à la chaleur, solidité et ténacité cible ronde en titane

Résistance à la chaleur, solidité et ténacité cible ronde en titane

10,00 $US
5 Pièces(MOQ)
Feuille d'anode en titane selon le dessin du client

Feuille d'anode en titane selon le dessin du client

30,00 $US
1 kg(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Blocs de métal en aluminium, cible de pulvérisation en aluminium pour la recherche en laboratoire

Blocs de métal en aluminium, cible de pulvérisation en aluminium pour la recherche en laboratoire

2 960,00 $US
1 Tonne(MOQ)
1/4

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

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Ybco YBA2CU3O7 Yttrium oxyde de cuivre de baryum cible de pulvérisation

Ybco YBA2CU3O7 Yttrium oxyde de cuivre de baryum cible de pulvérisation

250,00-500,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Tianjin Jilian Technology Co., Ltd.

3 ans·5.0
·Société Commerciale
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Poudre de cible de pulvérisation d'oxyde de magnésium (MGO) CAS1309-48-4

Poudre de cible de pulvérisation d'oxyde de magnésium (MGO) CAS1309-48-4

550,00-1 500,00 $US
10 Tonnes(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible en tantale pour usinage de précision et applications avancées

Cible en tantale pour usinage de précision et applications avancées

Négociable
10 Kg(MOQ)
Cible en tantale pour les applications aérospatiales et les besoins de haute précision

Cible en tantale pour les applications aérospatiales et les besoins de haute précision

Négociable
10 Kg(MOQ)
Cible en tantale pour des projets de recherche et développement innovants

Cible en tantale pour des projets de recherche et développement innovants

Négociable
10 Kg(MOQ)
Cible en tantale pour la science des matériaux avancés et les applications de recherche

Cible en tantale pour la science des matériaux avancés et les applications de recherche

Négociable
10 Kg(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 ans·5.0
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
Envoyer demande
Cible en molybdène pour le revêtement par pulvérisation sous vide

Cible en molybdène pour le revêtement par pulvérisation sous vide

45,00 $US
1 kg(MOQ)
Plaque de tungstène pur à haute densité 19.3G/Cm3

Plaque de tungstène pur à haute densité 19.3G/Cm3

50,00 $US
10 Kg(MOQ)
Feuille de tungstène pur personnalisée à bon prix

Feuille de tungstène pur personnalisée à bon prix

50,00 $US
10 Kg(MOQ)
Plaque ronde en molybdène expérimentée 99.95%

Plaque ronde en molybdène expérimentée 99.95%

30,00 $US
1 kg(MOQ)
1/2

Taizhou ATS Optical Material Co., Ltd.

26 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Cible en silicium, plaquette de silicium, pièce en silicium monocrystallin

Cible en silicium, plaquette de silicium, pièce en silicium monocrystallin

4,00-5,00 $US
1 piece(MOQ)
Cible en silicium pièce de polysilicium

Cible en silicium pièce de polysilicium

26,00-28,00 $US
1 piece(MOQ)
99.99% Granule de silicium Si pour revêtement optique sous vide

99.99% Granule de silicium Si pour revêtement optique sous vide

97,50-100,00 $US
1 Kg(MOQ)
Bateau en molybdène de bonne qualité utilisé pour le revêtement sous vide optique

Bateau en molybdène de bonne qualité utilisé pour le revêtement sous vide optique

1,00-11,00 $US
10 Pièces(MOQ)
1/4

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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L'oxyde de cible de pulvérisation de gallium Ga2O3 de la pureté de 99,99 % 4n

L'oxyde de cible de pulvérisation de gallium Ga2O3 de la pureté de 99,99 % 4n

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation de Feo 4n d'oxyde ferreux pour revêtement PVD

Cible de pulvérisation de Feo 4n d'oxyde ferreux pour revêtement PVD

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Pulvérisation de l'OTI cible de l'Indium tin oxide 4n 99,99 % pour le revêtement optique

Pulvérisation de l'OTI cible de l'Indium tin oxide 4n 99,99 % pour le revêtement optique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'Yttrium oxyde de zirconium Ysz(ZRO2/Y2O3 99,99 % cible de pulvérisation cible en céramique

L'Yttrium oxyde de zirconium Ysz(ZRO2/Y2O3 99,99 % cible de pulvérisation cible en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

Envoyer demande
4n TiO2 Cibles en oxyde de titane Cibles rotatives Cibles plates

4n TiO2 Cibles en oxyde de titane Cibles rotatives Cibles plates

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
4n Nbo2 Cibles en oxyde de niobium rotatives Cibles plates

4n Nbo2 Cibles en oxyde de niobium rotatives Cibles plates

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cibles rondes en oxyde de titane avec 99.99% pureté

Cibles rondes en oxyde de titane avec 99.99% pureté

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cibles de pulvérisation rotative à 99.99 % d'oxyde de titane pour revêtement sous vide

Cibles de pulvérisation rotative à 99.99 % d'oxyde de titane pour revêtement sous vide

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

Envoyer demande
Le Rotary Tiox cible, principalement pour l'application Low-E le revêtement du verre, pulvérisation magnétron cible, cible d'oxyde de titane

Le Rotary Tiox cible, principalement pour l'application Low-E le revêtement du verre, pulvérisation magnétron cible, cible d'oxyde de titane

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Plaque cible de collage ITO oxyde d'étain indium cible de pulvérisation 99.99% 4n céramique.

Plaque cible de collage ITO oxyde d'étain indium cible de pulvérisation 99.99% 4n céramique.

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible 99.99 % ITO 97: 3 95: 5 90: 10 cible d'expectoration d'oxyde d'étain indium pour film conducteur

Cible 99.99 % ITO 97: 3 95: 5 90: 10 cible d'expectoration d'oxyde d'étain indium pour film conducteur

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Pivoter de Nb2Ox cible avec Thickess à 10mm, pulvérisation magnétron cible, cible oxyde de niobium

Pivoter de Nb2Ox cible avec Thickess à 10mm, pulvérisation magnétron cible, cible oxyde de niobium

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
Envoyer demande
Équipement de revêtement PVD par pulvérisation pour cibles doubles RF&DC&MF pour films multicouches conducteurs

Équipement de revêtement PVD par pulvérisation pour cibles doubles RF&DC&MF pour films multicouches conducteurs

45 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Système de pulvérisation par magnétron à haute vacuum polyvalent avec plusieurs cibles pour le dépôt de films multicouches composés

Système de pulvérisation par magnétron à haute vacuum polyvalent avec plusieurs cibles pour le dépôt de films multicouches composés

50 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coateur de pulvérisation par magnétron automatique de laboratoire pour films minces métalliques, oxydes et semi-conducteurs dans SEM, matériaux énergétiques

Coateur de pulvérisation par magnétron automatique de laboratoire pour films minces métalliques, oxydes et semi-conducteurs dans SEM, matériaux énergétiques

50 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Matériaux de revêtement PVD de haute pureté de la marque TMAXCN, cible de pulvérisation en oxyde de tungstène Wo3

Matériaux de revêtement PVD de haute pureté de la marque TMAXCN, cible de pulvérisation en oxyde de tungstène Wo3

78,00-90,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

Envoyer demande
ITO Target / In2o3: Sno2 = 90: 10wt% / ITO Planar Sputtering Target

ITO Target / In2o3: Sno2 = 90: 10wt% / ITO Planar Sputtering Target

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Al2O3 cible de pulvérisation en céramique

Al2O3 cible de pulvérisation en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Le Bi2O3 cible de pulvérisation en céramique

Le Bi2O3 cible de pulvérisation en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Pulvérisation azo cible cible en oxyde de zinc en aluminium

Pulvérisation azo cible cible en oxyde de zinc en aluminium

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Able Target Limited

Envoyer demande
Cible de pulvérisation, Al2O3/oxyde d'aluminium, Al2O3/ZnO/azo oxyde de zinc en aluminium

Cible de pulvérisation, Al2O3/oxyde d'aluminium, Al2O3/ZnO/azo oxyde de zinc en aluminium

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cibles de pulvérisation de Gdbacuox et cibles de pulvérisation de Ybacuox, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

Cibles de pulvérisation de Gdbacuox et cibles de pulvérisation de Ybacuox, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cibles de pulvérisation

Cibles de pulvérisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation de terre rare

Cible de pulvérisation de terre rare

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

Envoyer demande
L'OTI personnalisable de 99,99 % de la taille de l'Indium tin oxide Rotation de pulvérisation en céramique de l'oti la cible

L'OTI personnalisable de 99,99 % de la taille de l'Indium tin oxide Rotation de pulvérisation en céramique de l'oti la cible

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Panneau d'extérieur rotatif à cible 99.99 % nbox à oxyde de niobium haute pureté Matériau de revêtement cible rotative de pulvérisation

Panneau d'extérieur rotatif à cible 99.99 % nbox à oxyde de niobium haute pureté Matériau de revêtement cible rotative de pulvérisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
99,9 % Tiox oxyde de titane Rotary pulvérisation Cible Cible revêtement sous vide PVD oxyde de titane Tiox cible de pulvérisation

99,9 % Tiox oxyde de titane Rotary pulvérisation Cible Cible revêtement sous vide PVD oxyde de titane Tiox cible de pulvérisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Plaques de feuilles cibles Gzo Gallium Zin à pulvérisation d'oxyde 99.95 % Cible de pulvérisation Gzo

Plaques de feuilles cibles Gzo Gallium Zin à pulvérisation d'oxyde 99.95 % Cible de pulvérisation Gzo

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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Cible de l'ATO, IR Film de fenêtre ATO, l'antimoine tin oxide cible

Cible de l'ATO, IR Film de fenêtre ATO, l'antimoine tin oxide cible

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'oxyde d'Indium cible, cible de l'In2O3

L'oxyde d'Indium cible, cible de l'In2O3

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'OTI pulvérisation planaire cible, film de verre de l'OTI, TP/TN/STN/TFT-LCD cible de l'OTI

L'OTI pulvérisation planaire cible, film de verre de l'OTI, TP/TN/STN/TFT-LCD cible de l'OTI

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Iwo cible, frappé de cellule solaire Iwo cible, cible d'oxyde Indium-Tungsten

Iwo cible, frappé de cellule solaire Iwo cible, cible d'oxyde Indium-Tungsten

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Weihai Chenyu Vacuum Technology Co., Ltd

4 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Machine de revêtement de film conducteur transparent à haut rendement avec cible ITO et revêtement à l'argon

Machine de revêtement de film conducteur transparent à haut rendement avec cible ITO et revêtement à l'argon

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation cathodique à grande échelle avec plusieurs cibles cathodiques pour le revêtement à l'argon

Machine de revêtement par pulvérisation cathodique à grande échelle avec plusieurs cibles cathodiques pour le revêtement à l'argon

Négociable
1 Pièce(MOQ)
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Équipement de revêtement de laboratoire polyvalent pour le développement de recherche machine de revêtement Ar

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