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à propos de Cible d'oxyde
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Cible d'oxyde500+ usines vérifiées

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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In2O3+Cu céramique cible oxyde indium+Cuprum céramique cible de pulvérisation pour LCD/Touch Panneau

In2O3+Cu céramique cible oxyde indium+Cuprum céramique cible de pulvérisation pour LCD/Touch Panneau

40,00 $US
1 Kg(MOQ)
IAO Target Indium oxyde d'aluminium céramique Tergret pour écran tactile LCD/LED Panneau

IAO Target Indium oxyde d'aluminium céramique Tergret pour écran tactile LCD/LED Panneau

340,00 $US
1 Kg(MOQ)
SnO2 Cible en oxyde d'étain pour céramique pour semi-conducteur

SnO2 Cible en oxyde d'étain pour céramique pour semi-conducteur

100,00 $US
1 Kg(MOQ)
SiO2 Cible céramique de pulvérisation oxyde de silicium cible céramique de pulvérisation pour revêtement de film PVD

SiO2 Cible céramique de pulvérisation oxyde de silicium cible céramique de pulvérisation pour revêtement de film PVD

25,00-100,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.99% Haute Densité Y2o3 Cible Yttria Oxyde de Yttrium Cible de Sputtering

99.99% Haute Densité Y2o3 Cible Yttria Oxyde de Yttrium Cible de Sputtering

55,00-85,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.99 Oxyde de Niobium Pur Nb2o5 Fournisseur de Cibles de Sputtering pour Revêtement PVD

99.99 Oxyde de Niobium Pur Nb2o5 Fournisseur de Cibles de Sputtering pour Revêtement PVD

500,00-1 500,00 $US
1 Kg(MOQ)
Wo3 Matériau de revêtement en céramique d'oxyde de tungstène cible

Wo3 Matériau de revêtement en céramique d'oxyde de tungstène cible

100,00-500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.99% Cibles d'oxyde d'indium et d'étain, cible ITO pour le revêtement PVD

99.99% Cibles d'oxyde d'indium et d'étain, cible ITO pour le revêtement PVD

20,00-30,00 $US
10 Pièces(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Cible de pulvérisation ITO (oxyde d'indium et d'étain) de haute pureté 99.99% pour revêtement PVD

Cible de pulvérisation ITO (oxyde d'indium et d'étain) de haute pureté 99.99% pour revêtement PVD

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible en oxyde de zinc et d'étain en céramique Zto pour le revêtement de films minces

Cible en oxyde de zinc et d'étain en céramique Zto pour le revêtement de films minces

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
3n, 4n, 5n Personnalisé Al2O3 Cible Céramique Cibles de Pulvérisation d'Oxyde d'Aluminium

3n, 4n, 5n Personnalisé Al2O3 Cible Céramique Cibles de Pulvérisation d'Oxyde d'Aluminium

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.99 % Haute Pureté Gd2o3 Cible Céramique Oxyde de Gadolinium Cible de Sputtering

99.99 % Haute Pureté Gd2o3 Cible Céramique Oxyde de Gadolinium Cible de Sputtering

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Cible de pulvérisation d'oxyde d'ytterbium de haute pureté pour des applications électroniques

Cible de pulvérisation d'oxyde d'ytterbium de haute pureté pour des applications électroniques

190,00-199,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en oxyde de yttrium de haute pureté pour des applications de revêtement

Cible de pulvérisation en oxyde de yttrium de haute pureté pour des applications de revêtement

115,00-130,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Disque de cible de pulvérisation en oxyde de baryum de yttrium cuivre premium pour l'électronique

Disque de cible de pulvérisation en oxyde de baryum de yttrium cuivre premium pour l'électronique

190,00-199,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de gadolinium de haute pureté pour la fabrication avancée d'électronique

Cible de gadolinium de haute pureté pour la fabrication avancée d'électronique

55,00-85,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Cible de Sputtering en Oxyde d'Aluminium Al2O3 Cible

Cible de Sputtering en Oxyde d'Aluminium Al2O3 Cible

6 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de Sputtering d'Oxyde de Magnésium MGO2 Cible

Cible de Sputtering d'Oxyde de Magnésium MGO2 Cible

6 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible d'oxyde d'indium et d'étain

Cible d'oxyde d'indium et d'étain

7 800,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible en oxyde d'indium et d'étain ITO pour pulvérisation sous vide PVD cible verte

Cible en oxyde d'indium et d'étain ITO pour pulvérisation sous vide PVD cible verte

4 600,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Dépôt par pulvérisation magnétron à double cible en courant continu pour films minces métalliques et oxydes

Dépôt par pulvérisation magnétron à double cible en courant continu pour films minces métalliques et oxydes

21 000,00-26 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
3 Dépôt par pulvérisation magnétron cible à trois pouces

3 Dépôt par pulvérisation magnétron cible à trois pouces

28 500,00-40 100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coateur de pulvérisation par magnétron à haute performance coût trois cibles (500W DC&500W RF)

Coateur de pulvérisation par magnétron à haute performance coût trois cibles (500W DC&500W RF)

28 500,00-40 100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coqueur de pulvérisation par magnétron à trois cibles DC pour film PTFE

Coqueur de pulvérisation par magnétron à trois cibles DC pour film PTFE

28 500,00-40 100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

Envoyer demande
99.99% Cible de Sputtering en Oxyde de Gallium Cible Plane Ga2o3 Cible

99.99% Cible de Sputtering en Oxyde de Gallium Cible Plane Ga2o3 Cible

300,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Équipement de pulvérisation plasma revêtement anti-adhérent résistant à l'usure en silice aluminium alumine zirconium

Équipement de pulvérisation plasma revêtement anti-adhérent résistant à l'usure en silice aluminium alumine zirconium

35 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Cible de pulvérisation Titane Al Cu Chrome Ni Tube de magnétro PVD rotatif de revêtement

Cible de pulvérisation Titane Al Cu Chrome Ni Tube de magnétro PVD rotatif de revêtement

0,50-10,00 $US
10 Pièces(MOQ)
Pièces de tournage CNC en aluminium anodisé pour machines de précision

Pièces de tournage CNC en aluminium anodisé pour machines de précision

0,50-10,00 $US
10 Pièces(MOQ)
1/4

Jiangxi CNP New Chemical Materials Co., Ltd.

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Oxyde d'étain (SnO2) Matériau d'évaporation en pellet 1-10mm Pureté 99.99% Cible de pulvérisation

Oxyde d'étain (SnO2) Matériau d'évaporation en pellet 1-10mm Pureté 99.99% Cible de pulvérisation

200,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 ans
·Société Commerciale
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Barre cible en métal de samarium granulaire CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Barre cible en métal de samarium granulaire CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Négociable
1 Piece(MOQ)
Prix d'usine vente cible en alliage d'aluminium de yttrium Y de Easchem

Prix d'usine vente cible en alliage d'aluminium de yttrium Y de Easchem

Négociable
1 Piece(MOQ)
Barre cible en métal de thulium granulaire, numéro CAS 7440-30-4 TM 2n 3n 3n5

Barre cible en métal de thulium granulaire, numéro CAS 7440-30-4 TM 2n 3n 3n5

Négociable
1 Piece(MOQ)
Tige cible en métal d'ytterbium granulaire Numéro CAS 7440-64-4 Yb 3n 4n

Tige cible en métal d'ytterbium granulaire Numéro CAS 7440-64-4 Yb 3n 4n

Négociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Plaque de cuivre Usine de Guangdong l'Indium tin oxide ITO Cibles de pulvérisation

Plaque de cuivre Usine de Guangdong l'Indium tin oxide ITO Cibles de pulvérisation

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Plaque de revêtement PVD Cu Multi Arc pulvérisation en usine cuivre cible Rotary Semiconductor

Plaque de revêtement PVD Cu Multi Arc pulvérisation en usine cuivre cible Rotary Semiconductor

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Guangdong Factory Wholesale Pure 99.95% cuivre plaque pulvérisation de Target Fabrication

Guangdong Factory Wholesale Pure 99.95% cuivre plaque pulvérisation de Target Fabrication

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Pulvérisation en usine de cuivre cible rotatif pour conducteur semi-conducteur à revêtement métallique

Pulvérisation en usine de cuivre cible rotatif pour conducteur semi-conducteur à revêtement métallique

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 ans
·Fabricant/Usine
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Revêtement par pulvérisation magnétron à double cible RF en céramique, diélectrique, optique, oxyde, film dur, film PTFE

Revêtement par pulvérisation magnétron à double cible RF en céramique, diélectrique, optique, oxyde, film dur, film PTFE

26 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
4-Inch Coater à Sputtering DC Magnetron à Cible Unique pour Film d'Oxyde

4-Inch Coater à Sputtering DC Magnetron à Cible Unique pour Film d'Oxyde

32 000,00-34 000,00 $US
1 set(MOQ)
500W DC 300W RF Coater à Sputtering à Double Cible Magnetron pour le Sputtering de Métaux et d'Oxydes

500W DC 300W RF Coater à Sputtering à Double Cible Magnetron pour le Sputtering de Métaux et d'Oxydes

31 000,00-32 500,00 $US
1 set(MOQ)
Machine de revêtement PVD sous vide par pulvérisation magnétron à double cible pour films semi-conducteurs

Machine de revêtement PVD sous vide par pulvérisation magnétron à double cible pour films semi-conducteurs

26 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 ans
·Société Commerciale
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Igh Pureté 99.9%Min 1-10inch Ruo2 Oxyde de Ruthénium Targ

Igh Pureté 99.9%Min 1-10inch Ruo2 Oxyde de Ruthénium Targ

2 000,00-4 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
cible de pulvérisation 5n Wolfram

cible de pulvérisation 5n Wolfram

Négociable
1 Pièce(MOQ)
99.98%~99.998% Cible en aluminium Al pour condensateurs électrolytiques

99.98%~99.998% Cible en aluminium Al pour condensateurs électrolytiques

Négociable
1 Pièce(MOQ)
99.99% Cible de pulvérisation en métal wolfram W de haute pureté

99.99% Cible de pulvérisation en métal wolfram W de haute pureté

Négociable
1 Pièce(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent pour semi-conducteur d'oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron, spécifications personnalisées

Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent pour semi-conducteur d'oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron, spécifications personnalisées

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Matériau cible d'oxyde de zinc aluminium (AZO) de haute pureté, oxyde de zinc (ZnO) dopé d'oxyde d'aluminium (Al2O3), cible d'oxyde de pulvérisation de magnétron, liaison de plaque arrière.

Matériau cible d'oxyde de zinc aluminium (AZO) de haute pureté, oxyde de zinc (ZnO) dopé d'oxyde d'aluminium (Al2O3), cible d'oxyde de pulvérisation de magnétron, liaison de plaque arrière.

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Matériau cible de l'oxyde d'ytterbium Yb2o3, matériau expérimental de recherche scientifique, revêtement de pulvérisation, revêtement par évaporation, semi-conducteur

Matériau cible de l'oxyde d'ytterbium Yb2o3, matériau expérimental de recherche scientifique, revêtement de pulvérisation, revêtement par évaporation, semi-conducteur

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Résistance à la chaleur, solidité et ténacité cible ronde en titane

Résistance à la chaleur, solidité et ténacité cible ronde en titane

10,00 $US
5 Pièces(MOQ)
Feuille d'anode en titane selon le dessin du client

Feuille d'anode en titane selon le dessin du client

30,00 $US
1 kg(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

Envoyer demande
Blocs de métal en aluminium, cible de pulvérisation en aluminium pour la recherche en laboratoire

Blocs de métal en aluminium, cible de pulvérisation en aluminium pour la recherche en laboratoire

2 960,00 $US
1 Tonne(MOQ)
1/4

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

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Ybco YBA2CU3O7 Yttrium oxyde de cuivre de baryum cible de pulvérisation

Ybco YBA2CU3O7 Yttrium oxyde de cuivre de baryum cible de pulvérisation

250,00-500,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Tianjin Jilian Technology Co., Ltd.

3 ans·5.0
·Société Commerciale
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Poudre de cible de pulvérisation d'oxyde de magnésium (MGO) CAS1309-48-4

Poudre de cible de pulvérisation d'oxyde de magnésium (MGO) CAS1309-48-4

550,00-1 500,00 $US
10 Tonnes(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible en tantale pour les applications aérospatiales et les besoins de haute précision

Cible en tantale pour les applications aérospatiales et les besoins de haute précision

Négociable
10 Kg(MOQ)
Cible en tantale pour la science des matériaux avancés et les applications de recherche

Cible en tantale pour la science des matériaux avancés et les applications de recherche

Négociable
10 Kg(MOQ)
Cible en tantale pour des projets de recherche et développement innovants

Cible en tantale pour des projets de recherche et développement innovants

Négociable
10 Kg(MOQ)
Cible en tantale pour usinage de précision et applications avancées

Cible en tantale pour usinage de précision et applications avancées

Négociable
10 Kg(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 ans·5.0
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
Envoyer demande
Cible en molybdène pour le revêtement par pulvérisation sous vide

Cible en molybdène pour le revêtement par pulvérisation sous vide

45,00 $US
1 kg(MOQ)
Fabricant chinois de haute pureté feuille ronde de molybdène de super qualité

Fabricant chinois de haute pureté feuille ronde de molybdène de super qualité

40,00 $US
1 kg(MOQ)
Vente chaude, meilleure qualité, meilleur prix, feuille de tungstène, plaque de tungstène, film de tungstène à vendre

Vente chaude, meilleure qualité, meilleur prix, feuille de tungstène, plaque de tungstène, film de tungstène à vendre

40,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Plaque de tungstène pur à haute densité 19.3G/Cm3

Plaque de tungstène pur à haute densité 19.3G/Cm3

50,00 $US
10 Kg(MOQ)
1/2

Taizhou ATS Optical Material Co., Ltd.

26 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
Envoyer demande
Cible en silicium pièce de polysilicium

Cible en silicium pièce de polysilicium

26,00-28,00 $US
1 piece(MOQ)
Cible en silicium, plaquette de silicium, pièce en silicium monocrystallin

Cible en silicium, plaquette de silicium, pièce en silicium monocrystallin

4,00-5,00 $US
1 piece(MOQ)
Granule de silicium utilisé comme matériau semi-conducteur

Granule de silicium utilisé comme matériau semi-conducteur

97,50-100,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.95% Granules de chrome Granulat pour revêtement sous vide

99.95% Granules de chrome Granulat pour revêtement sous vide

29,00-37,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

Envoyer demande
Pulvérisation de l'OTI cible de l'Indium tin oxide 4n 99,99 % pour le revêtement optique

Pulvérisation de l'OTI cible de l'Indium tin oxide 4n 99,99 % pour le revêtement optique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation de Feo 4n d'oxyde ferreux pour revêtement PVD

Cible de pulvérisation de Feo 4n d'oxyde ferreux pour revêtement PVD

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Alliage de haute pureté de 99,99 % cible 4n'oxyde de nickel NIO pour revêtement optique Thin-Film PVD l'évaporation

Alliage de haute pureté de 99,99 % cible 4n'oxyde de nickel NIO pour revêtement optique Thin-Film PVD l'évaporation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'Yttrium oxyde de zirconium Ysz(ZRO2/Y2O3 99,99 % cible de pulvérisation cible en céramique

L'Yttrium oxyde de zirconium Ysz(ZRO2/Y2O3 99,99 % cible de pulvérisation cible en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

Envoyer demande
4n Nbo2 Cibles en oxyde de niobium rotatives Cibles plates

4n Nbo2 Cibles en oxyde de niobium rotatives Cibles plates

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
4n TiO2 Cibles en oxyde de titane Cibles rotatives Cibles plates

4n TiO2 Cibles en oxyde de titane Cibles rotatives Cibles plates

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cibles rotatives en oxyde de titane avec 99.99% pureté

Cibles rotatives en oxyde de titane avec 99.99% pureté

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.99% Rond Nbo2 Cibles en céramique à pulvérisation pour revêtement sous vide

99.99% Rond Nbo2 Cibles en céramique à pulvérisation pour revêtement sous vide

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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Le Rotary Tiox cible, principalement pour l'application Low-E le revêtement du verre, pulvérisation magnétron cible, cible d'oxyde de titane

Le Rotary Tiox cible, principalement pour l'application Low-E le revêtement du verre, pulvérisation magnétron cible, cible d'oxyde de titane

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible 99.99 % ITO 97: 3 95: 5 90: 10 cible d'expectoration d'oxyde d'étain indium pour film conducteur

Cible 99.99 % ITO 97: 3 95: 5 90: 10 cible d'expectoration d'oxyde d'étain indium pour film conducteur

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Plaque cible de collage ITO oxyde d'étain indium cible de pulvérisation 99.99% 4n céramique.

Plaque cible de collage ITO oxyde d'étain indium cible de pulvérisation 99.99% 4n céramique.

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Zrox rotatif cible cible de pulvérisation de haute qualité

Zrox rotatif cible cible de pulvérisation de haute qualité

Négociable
2 Pièces(MOQ)

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
Envoyer demande
Équipement de revêtement PVD par pulvérisation pour cibles doubles RF&DC&MF pour films multicouches conducteurs

Équipement de revêtement PVD par pulvérisation pour cibles doubles RF&DC&MF pour films multicouches conducteurs

45 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Système de pulvérisation par magnétron à haute vacuum polyvalent avec plusieurs cibles pour le dépôt de films multicouches composés

Système de pulvérisation par magnétron à haute vacuum polyvalent avec plusieurs cibles pour le dépôt de films multicouches composés

50 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coateur conductif à magnétron par pulvérisation DC/RF de banc pour métaux, oxydes, céramiques et semi-conducteurs

Coateur conductif à magnétron par pulvérisation DC/RF de banc pour métaux, oxydes, céramiques et semi-conducteurs

15 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coateur de pulvérisation par magnétron automatique de laboratoire pour films minces métalliques, oxydes et semi-conducteurs dans SEM, matériaux énergétiques

Coateur de pulvérisation par magnétron automatique de laboratoire pour films minces métalliques, oxydes et semi-conducteurs dans SEM, matériaux énergétiques

50 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Able Target Limited

Envoyer demande
Cible de pulvérisation, Al2O3/oxyde d'aluminium, Al2O3/ZnO/azo oxyde de zinc en aluminium

Cible de pulvérisation, Al2O3/oxyde d'aluminium, Al2O3/ZnO/azo oxyde de zinc en aluminium

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cibles de pulvérisation de Gdbacuox et cibles de pulvérisation de Ybacuox, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

Cibles de pulvérisation de Gdbacuox et cibles de pulvérisation de Ybacuox, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cibles de pulvérisation

Cibles de pulvérisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation de terre rare

Cible de pulvérisation de terre rare

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

Envoyer demande
99,9 % Tiox oxyde de titane Rotary pulvérisation Cible Cible revêtement sous vide PVD oxyde de titane Tiox cible de pulvérisation

99,9 % Tiox oxyde de titane Rotary pulvérisation Cible Cible revêtement sous vide PVD oxyde de titane Tiox cible de pulvérisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'OTI personnalisable de 99,99 % de la taille de l'Indium tin oxide Rotation de pulvérisation en céramique de l'oti la cible

L'OTI personnalisable de 99,99 % de la taille de l'Indium tin oxide Rotation de pulvérisation en céramique de l'oti la cible

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Panneau d'extérieur rotatif à cible 99.99 % nbox à oxyde de niobium haute pureté Matériau de revêtement cible rotative de pulvérisation

Panneau d'extérieur rotatif à cible 99.99 % nbox à oxyde de niobium haute pureté Matériau de revêtement cible rotative de pulvérisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
99.95% Zro pulvérisation d'oxyde de zirconium Zro plaques de feuille de cible Zro Cible de mastic aux oxydes de zirconium

99.95% Zro pulvérisation d'oxyde de zirconium Zro plaques de feuille de cible Zro Cible de mastic aux oxydes de zirconium

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

Envoyer demande
Pulvérisation azo cible cible en oxyde de zinc en aluminium

Pulvérisation azo cible cible en oxyde de zinc en aluminium

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Al2O3 cible de pulvérisation en céramique

Al2O3 cible de pulvérisation en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Le Bi2O3 cible de pulvérisation en céramique

Le Bi2O3 cible de pulvérisation en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
ITO Target / In2o3: Sno2 = 90: 10wt% / ITO Planar Sputtering Target

ITO Target / In2o3: Sno2 = 90: 10wt% / ITO Planar Sputtering Target

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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L'OTI cible, cible rotatif de l'OTI, Tp Tn TFT-LCD STN cible de l'OTI

L'OTI cible, cible rotatif de l'OTI, Tp Tn TFT-LCD STN cible de l'OTI

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'OTI pulvérisation planaire cible, film de verre de l'OTI, TP/TN/STN/TFT-LCD cible de l'OTI

L'OTI pulvérisation planaire cible, film de verre de l'OTI, TP/TN/STN/TFT-LCD cible de l'OTI

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'oxyde d'Indium cible, cible de l'In2O3

L'oxyde d'Indium cible, cible de l'In2O3

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Iwo cible, frappé de cellule solaire Iwo cible, cible d'oxyde Indium-Tungsten

Iwo cible, frappé de cellule solaire Iwo cible, cible d'oxyde Indium-Tungsten

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Weihai Chenyu Vacuum Technology Co., Ltd

4 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Machine de revêtement de film conducteur transparent à haut rendement avec cible ITO et revêtement à l'argon

Machine de revêtement de film conducteur transparent à haut rendement avec cible ITO et revêtement à l'argon

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation cathodique à grande échelle avec plusieurs cibles cathodiques pour le revêtement à l'argon

Machine de revêtement par pulvérisation cathodique à grande échelle avec plusieurs cibles cathodiques pour le revêtement à l'argon

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Laboratoire de conception compact avec machine de revêtement Ar de taille de bureau

Laboratoire de conception compact avec machine de revêtement Ar de taille de bureau

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Machinerie de revêtement de type batch personnalisable avec plusieurs cathodes machine de revêtement Ar

Machinerie de revêtement de type batch personnalisable avec plusieurs cathodes machine de revêtement Ar

Négociable
1 Pièce(MOQ)
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