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à propos de cible de pulvérisation d'oxyde de silicium
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  • Capacités de Fabrication Substantielles

cible de pulvérisation d'oxyde de silicium20+ usines vérifiées

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Matériaux de Revêtement 99.99% Cible de Sputtering en Silicium Oxyde Sio Céramique pour Recherche en Laboratoire

Matériaux de Revêtement 99.99% Cible de Sputtering en Silicium Oxyde Sio Céramique pour Recherche en Laboratoire

100,00-120,00 $US
1 pieces(MOQ)
Cible de pulvérisation en céramique de dioxyde de titane personnalisée TiO2 Taille personnalisée

Cible de pulvérisation en céramique de dioxyde de titane personnalisée TiO2 Taille personnalisée

100,00-120,00 $US
1 pieces(MOQ)
Matériaux céramiques cibles de zinc sélénium 99.99% cible de Znse pour revêtement

Matériaux céramiques cibles de zinc sélénium 99.99% cible de Znse pour revêtement

100,00-120,00 $US
1 pieces(MOQ)
99.95% Cobalt Fer (CoFe 90/10%) Cible de Sputtering Alliage pour Processus PVD

99.95% Cobalt Fer (CoFe 90/10%) Cible de Sputtering Alliage pour Processus PVD

50,00-1 000,00 $US
1 pieces(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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SiO2 Cible céramique de pulvérisation oxyde de silicium cible céramique de pulvérisation pour revêtement de film PVD

SiO2 Cible céramique de pulvérisation oxyde de silicium cible céramique de pulvérisation pour revêtement de film PVD

25,00-100,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 ans
·Société Commerciale
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99.999% 5n Cible de pulvérisation en métal tungstène Wolfram

99.999% 5n Cible de pulvérisation en métal tungstène Wolfram

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation de tungstène de haute pureté 99.999%, cible de pulvérisation de métal tungstène

Cible de pulvérisation de tungstène de haute pureté 99.999%, cible de pulvérisation de métal tungstène

200,00-1 000,00 $US
1 pieces(MOQ)
cible de pulvérisation 5n Wolfram

cible de pulvérisation 5n Wolfram

Négociable
1 Pièce(MOQ)
99.99% Cible de pulvérisation en tungstène de haute pureté, 5n Cible en tungstène

99.99% Cible de pulvérisation en tungstène de haute pureté, 5n Cible en tungstène

Négociable
1 Pièce(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.99% Cible en céramique Igzo oxyde d'indium, de gallium et de zinc

99.99% Cible en céramique Igzo oxyde d'indium, de gallium et de zinc

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.9% Nisi2 Cibles en céramique Cibles de siliciure de nickel

99.9% Nisi2 Cibles en céramique Cibles de siliciure de nickel

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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Al2O3 cible de pulvérisation en céramique

Al2O3 cible de pulvérisation en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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Panneau d'extérieur rotatif à cible 99.99 % nbox à oxyde de niobium haute pureté Matériau de revêtement cible rotative de pulvérisation

Panneau d'extérieur rotatif à cible 99.99 % nbox à oxyde de niobium haute pureté Matériau de revêtement cible rotative de pulvérisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Target Specttering en aluminium

Target Specttering en aluminium

15,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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La pureté de 99,99 % cible de pulvérisation en aluminium de haute qualité, cible en aluminium

La pureté de 99,99 % cible de pulvérisation en aluminium de haute qualité, cible en aluminium

10,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Pulvérisation de bonne qualité de l'aluminium de haute qualité cible, cible en aluminium

Pulvérisation de bonne qualité de l'aluminium de haute qualité cible, cible en aluminium

10,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en aluminium de haute qualité, Al la cible de haute pureté

Cible de pulvérisation en aluminium de haute qualité, Al la cible de haute pureté

10,00 $US
1 Pièce(MOQ)
4n pureté cible de pulvérisation en aluminium de haute qualité, cible en aluminium

4n pureté cible de pulvérisation en aluminium de haute qualité, cible en aluminium

10,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Oxyde de silicium Sio2 Disque personnalisé usine Chine

Oxyde de silicium Sio2 Disque personnalisé usine Chine

80,00-800,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 ans
·Fabricant/Usine
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3 Têtes Compactes de Bureau 2" Dépôt par Sputtering Magnetron

3 Têtes Compactes de Bureau 2" Dépôt par Sputtering Magnetron

28 000,00-28 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Résistance à haute température, anti-vieillissement, plaque en oxyde de zirconium sur mesure OEM ODM

Résistance à haute température, anti-vieillissement, plaque en oxyde de zirconium sur mesure OEM ODM

Négociable
10 Kg(MOQ)
Feuille et plaque en hafnium usinées de haute précision personnalisées OEM ODM de haute qualité

Feuille et plaque en hafnium usinées de haute précision personnalisées OEM ODM de haute qualité

Négociable
10 Kg(MOQ)
Plaque en hafnium sur mesure OEM avec bonne résistance à la corrosion et haute ténacité pour revêtement sous vide

Plaque en hafnium sur mesure OEM avec bonne résistance à la corrosion et haute ténacité pour revêtement sous vide

Négociable
10 Kg(MOQ)
Plaque de hafnium chimiquement stable avec une faible section efficace d'absorption des neutrons thermiques

Plaque de hafnium chimiquement stable avec une faible section efficace d'absorption des neutrons thermiques

Négociable
10 Kg(MOQ)
1/4

High-Energy Intelligent Control (Xiamen) Machinery Equipment Co., Ltd.

3 ans
·Fabricant/Usine
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Machine de revêtement de laboratoire écologique Gn-Zn320 avec lame de docteur

Machine de revêtement de laboratoire écologique Gn-Zn320 avec lame de docteur

2 450,00-2 550,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Nettoyage Rapide Gn-Gd200 0.003 mm Précision Petite Machine de Revêtement de Laboratoire

Nettoyage Rapide Gn-Gd200 0.003 mm Précision Petite Machine de Revêtement de Laboratoire

1 600,00-1 700,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Niveau Micron Gn-Gd200 220X200 mm Surface de Revêtement Petite Machine de Revêtement de Laboratoire

Niveau Micron Gn-Gd200 220X200 mm Surface de Revêtement Petite Machine de Revêtement de Laboratoire

1 600,00-1 700,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement de laboratoire multifonctionnelle Gn-Gd200 0.005-5mm pour l'épaisseur de revêtement, petit revêtement de film mince

Machine de revêtement de laboratoire multifonctionnelle Gn-Gd200 0.005-5mm pour l'épaisseur de revêtement, petit revêtement de film mince

1 600,00-1 700,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Système de revêtement de miroirs en verre sous vide en aluminium pour la production de miroirs

Système de revêtement de miroirs en verre sous vide en aluminium pour la production de miroirs

1 000 000,00-1 500 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Ligne de pulvérisation par magnétron continu pour verre miroir en aluminium / argent

Ligne de pulvérisation par magnétron continu pour verre miroir en aluminium / argent

800 000,00-2 000 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Ligne de revêtement continu ligne de pulvérisation pour verre

Ligne de revêtement continu ligne de pulvérisation pour verre

890 000,00 $US
1 sets(MOQ)
Système de pulvérisation PVD de revêtement en verre ITO

Système de pulvérisation PVD de revêtement en verre ITO

1 500 000,00-2 500 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Machine de revêtement sous vide PVD continu par pulvérisation magnétron pour cellules solaires en verre Hcvac

Machine de revêtement sous vide PVD continu par pulvérisation magnétron pour cellules solaires en verre Hcvac

150 000,00-500 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Ligne de production de revêtement en oxyde d'indium-étain (ITO) par dépôt physique en phase vapeur sous vide

Ligne de production de revêtement en oxyde d'indium-étain (ITO) par dépôt physique en phase vapeur sous vide

1 500 000,00-5 000 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Machine de revêtement en verre par pulvérisation magnétron d'oxyde d'indium et d'étain

Machine de revêtement en verre par pulvérisation magnétron d'oxyde d'indium et d'étain

1 500 000,00-5 000 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Machine de revêtement TMAXCN Marque VTC-3HD-VP 3 Heads RF/DC Plasma Sputtering Coater pour poudres avec 1 Système de purification de gaz PPM

Machine de revêtement TMAXCN Marque VTC-3HD-VP 3 Heads RF/DC Plasma Sputtering Coater pour poudres avec 1 Système de purification de gaz PPM

13 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation magnétron compacte TMAXCN VTC-STX-XX 2" avec source d'alimentation DC ou RF sélectionnable pour boîte à gants

Machine de revêtement par pulvérisation magnétron compacte TMAXCN VTC-STX-XX 2" avec source d'alimentation DC ou RF sélectionnable pour boîte à gants

13 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Marque TMAXCN - VTC-3RF Option de pulvérisation par magnétron à courant continu 3 Têtes 1" Machine de pulvérisation par magnétron à plasma RF

Marque TMAXCN - VTC-3RF Option de pulvérisation par magnétron à courant continu 3 Têtes 1" Machine de pulvérisation par magnétron à plasma RF

12 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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Équipement de pulvérisation plasma revêtement anti-adhérent résistant à l'usure en silice aluminium alumine zirconium

Équipement de pulvérisation plasma revêtement anti-adhérent résistant à l'usure en silice aluminium alumine zirconium

35 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Henan HIQ Furnace Co., Ltd

Envoyer demande
Éléments chauffants en carbure de silicium de type double spirale à haute température 1625c, chauffage de four en carbure de silicium, fabricant professionnel d'éléments chauffants spiraux en carbure de silicium

Éléments chauffants en carbure de silicium de type double spirale à haute température 1625c, chauffage de four en carbure de silicium, fabricant professionnel d'éléments chauffants spiraux en carbure de silicium

Négociable
5 pcs(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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3 Système de dépôt par pulvérisation magnétron à plasma RF compact Heads

3 Système de dépôt par pulvérisation magnétron à plasma RF compact Heads

25 000,00-27 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Pièce de frittage SIO 99.99 % de monoxyde de silicium haute pureté 4n

Pièce de frittage SIO 99.99 % de monoxyde de silicium haute pureté 4n

170,00-200,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible de pulvérisation Si3n4 d'azote au silicium céramique avec liaison au Cu

Cible de pulvérisation Si3n4 d'azote au silicium céramique avec liaison au Cu

500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Matériau de revêtement optique pour bloc de monoxyde de silice SIO

Matériau de revêtement optique pour bloc de monoxyde de silice SIO

170,00-200,00 $US
1 Kg(MOQ)
Matériau de revêtement optique Silicon Monoxide SIO Sinter Granule Factory

Matériau de revêtement optique Silicon Monoxide SIO Sinter Granule Factory

170,00-200,00 $US
1 Kg(MOQ)

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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Une grande pureté 99,999% de silicium cible de pulvérisation

Une grande pureté 99,999% de silicium cible de pulvérisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Le silicium monocristallin cible de pulvérisation avec collage la plaque de cuivre

Le silicium monocristallin cible de pulvérisation avec collage la plaque de cuivre

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Forme carrée de haute pureté silicium polycristallin cible de pulvérisation

Forme carrée de haute pureté silicium polycristallin cible de pulvérisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Rotation de silicium pulvérisation pulvérisation Rotative / cible si cible pour revêtement Antireflective grand verre

Rotation de silicium pulvérisation pulvérisation Rotative / cible si cible pour revêtement Antireflective grand verre

Négociable
1 Pièce(MOQ)
1/2

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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Matériaux d'évaporation de haute pureté ACETRON Dioxyde de silicium SiO2 Granules

Matériaux d'évaporation de haute pureté ACETRON Dioxyde de silicium SiO2 Granules

5,00-30,00 $US
1 Kg(MOQ)
Matériaux de revêtement sous vide de haute pureté ACETRON Pellets d'oxyde de silicium SiO

Matériaux de revêtement sous vide de haute pureté ACETRON Pellets d'oxyde de silicium SiO

10,00-2 999,00 $US
1 Kg(MOQ)
ACETRON 4N Cible rotative haute pureté AZO pour revêtement sous vide/revêtement PVD

ACETRON 4N Cible rotative haute pureté AZO pour revêtement sous vide/revêtement PVD

99,00-99 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Matériau d'évaporation en granulés de haute pureté ACETRON SiO2+Al2O3 cible de pulvérisation

Matériau d'évaporation en granulés de haute pureté ACETRON SiO2+Al2O3 cible de pulvérisation

100,00-150,00 $US
1 Kg(MOQ)

Foyol Co., Ltd.

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L'oxyde de silicium SiO2( ) (F-ST-2023)

L'oxyde de silicium SiO2( ) (F-ST-2023)

Négociable
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