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à propos de cible de pulvérisation en silicium
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cible de pulvérisation en silicium60+ usines vérifiées

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Cible céramique au silicium-polyéthylène pour pulvérisation de la cible/photovoltaïque solaire

Cible céramique au silicium-polyéthylène pour pulvérisation de la cible/photovoltaïque solaire

35,00-50,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible en silicium monocristallin Mono-Si pour la pulvérisation, cible céramique pour photovoltaïques solaires, téléphone mobile

Cible en silicium monocristallin Mono-Si pour la pulvérisation, cible céramique pour photovoltaïques solaires, téléphone mobile

35,00-75,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible de sélénium en germanium-silicium pour le revêtement de films minces optiques

Cible de sélénium en germanium-silicium pour le revêtement de films minces optiques

40,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible de sélénium en germanium, indium, silicium pour le revêtement de films minces optiques

Cible de sélénium en germanium, indium, silicium pour le revêtement de films minces optiques

40,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

Envoyer demande
99.999% Cibles de pulvérisation en silicium Si Disque en silicium non dopé Plaque Feuille Cible pour revêtement PVD

99.999% Cibles de pulvérisation en silicium Si Disque en silicium non dopé Plaque Feuille Cible pour revêtement PVD

35,00-40,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en alliage de nickel et de silicium Nisi97/3wt% plaque feuille pour revêtement PVD

Cible de pulvérisation en alliage de nickel et de silicium Nisi97/3wt% plaque feuille pour revêtement PVD

35,00-40,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.999% Cible de pulvérisation en silicium pur avec silicium monocristallin et silicium polycristallin

99.999% Cible de pulvérisation en silicium pur avec silicium monocristallin et silicium polycristallin

30,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en aluminium silicium de haute qualité pour revêtements avancés

Cible de pulvérisation en aluminium silicium de haute qualité pour revêtements avancés

50,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Cible de pulvérisation en alliage de chrome-silicium Crsi de haute pureté 99.99% pour une utilisation dans les semi-conducteurs

Cible de pulvérisation en alliage de chrome-silicium Crsi de haute pureté 99.99% pour une utilisation dans les semi-conducteurs

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible en alliage Nicrsi nickel chrome silicium pour revêtement PVD

Cible en alliage Nicrsi nickel chrome silicium pour revêtement PVD

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.9% Cible de pulvérisation en alliage d'aluminium silicium cuivre Alsicu

99.9% Cible de pulvérisation en alliage d'aluminium silicium cuivre Alsicu

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible de pulvérisation en alliage de titane, d'aluminium et de silicium Tialsi pour revêtement par magnétron

Cible de pulvérisation en alliage de titane, d'aluminium et de silicium Tialsi pour revêtement par magnétron

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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Cible de pulvérisation de silicium en aluminium pur de haute pureté pour les couches minces Industrie

Cible de pulvérisation de silicium en aluminium pur de haute pureté pour les couches minces Industrie

50,00-1 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.98%~99.998% Cible en aluminium Al pour condensateurs électrolytiques

99.98%~99.998% Cible en aluminium Al pour condensateurs électrolytiques

Négociable
1 Pièce(MOQ)
99.99% Matériau en tungstène pur 4n Cible de pulvérisation en tungstène W

99.99% Matériau en tungstène pur 4n Cible de pulvérisation en tungstène W

200,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Target rectangulaire tungstène titane Wti10

Target rectangulaire tungstène titane Wti10

1 000,00-2 000,00 $US
1 pieces(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Cible de pulvérisation en zirconium 705 pour des solutions métalliques personnalisées de haute qualité

Cible de pulvérisation en zirconium 705 pour des solutions métalliques personnalisées de haute qualité

Négociable
10 Kg(MOQ)
Cible de pulvérisation en zirconium de haute qualité 705 pour des solutions sur mesure aujourd'hui

Cible de pulvérisation en zirconium de haute qualité 705 pour des solutions sur mesure aujourd'hui

Négociable
10 Kg(MOQ)
Plaque cible de pulvérisation en hafnium métallique, résistante à l'usure, multi-fonctionnelle, en gros

Plaque cible de pulvérisation en hafnium métallique, résistante à l'usure, multi-fonctionnelle, en gros

Négociable
10 Kg(MOQ)
Fabrication sur mesure OEM ODM Usinage de précision Coulée de précision Plaque de métaux hafnium

Fabrication sur mesure OEM ODM Usinage de précision Coulée de précision Plaque de métaux hafnium

Négociable
10 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

Envoyer demande
Matériau de cible de pulvérisation sous vide en alliage d'aluminium silicium de haute pureté

Matériau de cible de pulvérisation sous vide en alliage d'aluminium silicium de haute pureté

6 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible ronde en silicium haute pureté pour revêtement sous vide/PVD

Cible ronde en silicium haute pureté pour revêtement sous vide/PVD

6 200,00 $US
1 Pièce(MOQ)
6n Cible en silicium de haute pureté, dos et liaison disponibles

6n Cible en silicium de haute pureté, dos et liaison disponibles

6 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Sio2 Fabrication de cible en silicium par pulvérisation

Sio2 Fabrication de cible en silicium par pulvérisation

80,00-800,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Oxyde de silicium Sio2 Disque personnalisé usine Chine

Oxyde de silicium Sio2 Disque personnalisé usine Chine

80,00-800,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Pusheng Iron &Steel Co., Ltd.

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Cible de pulvérisation de silicium polycristallin de haute pureté 99.999% polysilicium

Cible de pulvérisation de silicium polycristallin de haute pureté 99.999% polysilicium

2 769,00-3 100,00 $US
22 Tonnes(MOQ)
Matériaux Bruts Haute Pureté 99.7% Lingots de Silicium Cibles Métalliques Lingot de Silicium Pur Cibles de Sputtering

Matériaux Bruts Haute Pureté 99.7% Lingots de Silicium Cibles Métalliques Lingot de Silicium Pur Cibles de Sputtering

2 000,00-2 500,00 $US
22 Tonnes(MOQ)
1/4

Yangzhou Jingge Semiconductor Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible rotative poly-si/rotation de tubes en silicium mono/cible de pulvérisation pour magnétron Pulvérisation

Cible rotative poly-si/rotation de tubes en silicium mono/cible de pulvérisation pour magnétron Pulvérisation

50,00-9 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
6n tube en silicium polycristallin/tube en silicium monocristallin/cible de pulvérisation magnétron/anneau en silicium

6n tube en silicium polycristallin/tube en silicium monocristallin/cible de pulvérisation magnétron/anneau en silicium

10,00-999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible rotative poly-si/rotation de tubes en silicium mono/cible de pulvérisation pour magnétron Pulvérisation

Cible rotative poly-si/rotation de tubes en silicium mono/cible de pulvérisation pour magnétron Pulvérisation

50,00-9 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
cible 6n Poly Silicon / cible Mono Silicon / cible Scraptering Silicon / silicone rond pour Revêtement PVD

cible 6n Poly Silicon / cible Mono Silicon / cible Scraptering Silicon / silicone rond pour Revêtement PVD

10,00-99,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Matériau cible en silicium PVD (dépôt physique de vapeur) de haute pureté pour revêtement de pulvérisation magnétron, cible en dioxyde de silicium (SiO2)

Matériau cible en silicium PVD (dépôt physique de vapeur) de haute pureté pour revêtement de pulvérisation magnétron, cible en dioxyde de silicium (SiO2)

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Société Commerciale
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Cible en tungstène rotative premium pour des applications de pulvérisation efficaces

Cible en tungstène rotative premium pour des applications de pulvérisation efficaces

50,00-270,00 $US
10 Kg(MOQ)
Cible de Molybdène Pur Ultra Dense 99.9% 100mm Diamètre Revêtement de Film Mince Optionnel RoHS

Cible de Molybdène Pur Ultra Dense 99.9% 100mm Diamètre Revêtement de Film Mince Optionnel RoHS

30,00-60,00 $US
10 Kg(MOQ)
Cible en tungstène poli de haute pureté pour des applications avancées de bombardement ionique

Cible en tungstène poli de haute pureté pour des applications avancées de bombardement ionique

50,00-270,00 $US
10 Kg(MOQ)
Cible de molybdène de haute pureté pour des applications industrielles avancées

Cible de molybdène de haute pureté pour des applications industrielles avancées

30,00-60,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

5 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Bloc en titane de haute pureté personnalisé, matériau en titane sous vide, matériau de plaquage ionique multi-arc, cible métallique

Bloc en titane de haute pureté personnalisé, matériau en titane sous vide, matériau de plaquage ionique multi-arc, cible métallique

500,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de magnétron cylindrique pour revêtement PVD sous vide, tubes en titane, matériaux bruts pour le revêtement, cathodes

Cible de magnétron cylindrique pour revêtement PVD sous vide, tubes en titane, matériaux bruts pour le revêtement, cathodes

800,00-1 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Système de revêtement de surface en verre miroir en aluminium par machine de pulvérisation en ligne

Système de revêtement de surface en verre miroir en aluminium par machine de pulvérisation en ligne

1 500 000,00-2 500 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Revêtement en verre d'oxyde d'indium et d'étain par pulvérisation magnétron ligne de pulvérisation magnétron

Revêtement en verre d'oxyde d'indium et d'étain par pulvérisation magnétron ligne de pulvérisation magnétron

1 500 000,00-2 500 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

Envoyer demande
Chrome Cr PVD planaire cible le collage sur Cooper Plaque d'appui

Chrome Cr PVD planaire cible le collage sur Cooper Plaque d'appui

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Pulvérisation Tiox rotatif Sial Silver Tube cathodique cible la pureté de haute qualité pour les dépôts à film mince Nano PVD

Pulvérisation Tiox rotatif Sial Silver Tube cathodique cible la pureté de haute qualité pour les dépôts à film mince Nano PVD

Négociable
1 Pièce(MOQ)
PVD rotatif cylindrique en aluminium cible Al pur à 99,999 % cible de pulvérisation (2n-5N)

PVD rotatif cylindrique en aluminium cible Al pur à 99,999 % cible de pulvérisation (2n-5N)

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Azo Sputering cible, matériau de revêtement, membrane métallique mince film

Azo Sputering cible, matériau de revêtement, membrane métallique mince film

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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Le phosphore phosphure de cible de Cibles Cible de Phosphore Silicium SIP

Le phosphore phosphure de cible de Cibles Cible de Phosphore Silicium SIP

Négociable
1 Pièce(MOQ)
N Type 99.99% pureté silicone phosphore pulvérisation cible

N Type 99.99% pureté silicone phosphore pulvérisation cible

Négociable
1 Pièce(MOQ)
5n Cu 99.999% Cuprum Cu taille personnalisée cible rotatif Cible de pulvérisation de cuivre

5n Cu 99.999% Cuprum Cu taille personnalisée cible rotatif Cible de pulvérisation de cuivre

Négociable
1 Pièce(MOQ)
99,9 % cible de pulvérisation Znsn usine Znsn magnétique de haute pureté d'alimentation Zinc Étain pulvérisation pulvérisation cible rotatif

99,9 % cible de pulvérisation Znsn usine Znsn magnétique de haute pureté d'alimentation Zinc Étain pulvérisation pulvérisation cible rotatif

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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99.999% Plaque de cible en silicium monocrystallin de haute pureté / Cible en céramique de silicium

99.999% Plaque de cible en silicium monocrystallin de haute pureté / Cible en céramique de silicium

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
3n Cible de pulvérisation en aluminium de silicium haute pureté, plaque plate / cibles rotatives en aluminium de silicium

3n Cible de pulvérisation en aluminium de silicium haute pureté, plaque plate / cibles rotatives en aluminium de silicium

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
3n Cible de pulvérisation en silicium de chrome à haute pureté / Cibles rotatives en silicium de chrome

3n Cible de pulvérisation en silicium de chrome à haute pureté / Cibles rotatives en silicium de chrome

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cibles de pulvérisation en graphite carboné de haute pureté sur mesure 99.99% Cible en cuivre de liaison

Cibles de pulvérisation en graphite carboné de haute pureté sur mesure 99.99% Cible en cuivre de liaison

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Tai'an Hongfei Carbon Fiber Products Co., Ltd.

4 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Cible en tube de graphite de haute pureté et haute performance avec conductivité uniforme et faible usure

Cible en tube de graphite de haute pureté et haute performance avec conductivité uniforme et faible usure

5,00-100,00 $US
10 Pièces(MOQ)
Cible en tube en graphite de haute pureté et haute performance sur mesure

Cible en tube en graphite de haute pureté et haute performance sur mesure

5,00-100,00 $US
10 Pièces(MOQ)
Joint d'électrode en graphite pour des opérations efficaces de four à haute température

Joint d'électrode en graphite pour des opérations efficaces de four à haute température

5,00-30,00 $US
10 Pièces(MOQ)
Barre de graphite ultra haute densité pour une conductivité électrique et une stabilité améliorées

Barre de graphite ultra haute densité pour une conductivité électrique et une stabilité améliorées

10,00-50,00 $US
10 Pièces(MOQ)
1/4

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Pulvérisation rotative en aluminium silicium cible (pulvérisation de haute qualité à la cible)

Pulvérisation rotative en aluminium silicium cible (pulvérisation de haute qualité à la cible)

200,00-300,00 $US
2 Pièces(MOQ)
Le titane cible de pulvérisation à haute pureté

Le titane cible de pulvérisation à haute pureté

30,00-50,00 $US
1 Pièce(MOQ)
La pureté de 99,99 % cible de pulvérisation en aluminium de haute qualité, cible en aluminium

La pureté de 99,99 % cible de pulvérisation en aluminium de haute qualité, cible en aluminium

10,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Pulvérisation de titane de haute pureté planaire cibles à partir de 2N6 à 4n, 4n5, 5n

Pulvérisation de titane de haute pureté planaire cibles à partir de 2N6 à 4n, 4n5, 5n

30,00-50,00 $US
1 Pièce(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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99,99 % Alsi rotatif de haute pureté en alliage aluminium Silicon cible cible de pulvérisation

99,99 % Alsi rotatif de haute pureté en alliage aluminium Silicon cible cible de pulvérisation

Négociable
2 Pièces(MOQ)
Cible de pulvérisation de tubes en alliage de sial de haute pureté, rotatifs et planaires Pour le revêtement hors ligne sous vide, utiliser pour la PV basse en verre E. Champ solaire

Cible de pulvérisation de tubes en alliage de sial de haute pureté, rotatifs et planaires Pour le revêtement hors ligne sous vide, utiliser pour la PV basse en verre E. Champ solaire

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Si rotatif cible cible de pulvérisation de haute qualité

Si rotatif cible cible de pulvérisation de haute qualité

Négociable
2 Pièces(MOQ)
Pivoter le Sial 90 : 10, 92 : 8, 94 : 6, 95 : 5, 98 : 2, cible principalement en alliage de demande de Film solaire Revêtement, pulvérisation magnétron cible, cible d'aluminium silicium

Pivoter le Sial 90 : 10, 92 : 8, 94 : 6, 95 : 5, 98 : 2, cible principalement en alliage de demande de Film solaire Revêtement, pulvérisation magnétron cible, cible d'aluminium silicium

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Luoyang Bless Tungsten & Molybdenum Materials Co., Ltd.

12 ans
·Société Commerciale
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Disques au molybdène de haute qualité

Disques au molybdène de haute qualité

63,00-66,00 $US
1 Kg(MOQ)
Tube et tuyau en molybdène

Tube et tuyau en molybdène

49,00-72,00 $US
1 Kg(MOQ)
Crucible en molybdène selon le dessin des douanes

Crucible en molybdène selon le dessin des douanes

65,00-68,00 $US
1 Kg(MOQ)
Crucible en molybdène haute performance pour la métallurgie des poudres

Crucible en molybdène haute performance pour la métallurgie des poudres

65,00-68,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/1

Xiamen U-Spring Technology Co., Ltd

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Cible planétaire en silicium pour pulvérisation cathodique et revêtement sous vide

Cible planétaire en silicium pour pulvérisation cathodique et revêtement sous vide

2 000,00 $US
1 Pcs(MOQ)
Cible rotative U-Spring Sial / Cible de pulvérisation pour pulvérisation magnétron et revêtement sous vide

Cible rotative U-Spring Sial / Cible de pulvérisation pour pulvérisation magnétron et revêtement sous vide

2 000,00 $US
1 Pcs(MOQ)
Cible rotative U-Spring Si / Cible de pulvérisation pour pulvérisation magnétron et revêtement sous vide

Cible rotative U-Spring Si / Cible de pulvérisation pour pulvérisation magnétron et revêtement sous vide

2 000,00 $US
1 Pcs(MOQ)
1/2

Huita Opto-Electronic Materials Co., Ltd

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Rotation de la cible de silicium

Rotation de la cible de silicium

Négociable
5 Sets(MOQ)
Le chrome silicium (CrSi) cible

Le chrome silicium (CrSi) cible

Négociable
5 Pièces(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Target Specttering en aluminium

Target Specttering en aluminium

15,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible Sputtering

Cible Sputtering

18,00-20,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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Si la cible dans l'industrie d'affichage à écran plat

Si la cible dans l'industrie d'affichage à écran plat

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Al2O3 cible de pulvérisation en céramique

Al2O3 cible de pulvérisation en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Personnalisation pulvérisation OLED titane de Target ITO 99.99% cuivre silicium électronique Composants

Personnalisation pulvérisation OLED titane de Target ITO 99.99% cuivre silicium électronique Composants

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Dépôt à couche mince PVD cathodes en cuivre arçés revêtement de surface sous vide Cibles de pulvérisation

Dépôt à couche mince PVD cathodes en cuivre arçés revêtement de surface sous vide Cibles de pulvérisation

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)

Able Target Limited

Envoyer demande
Pulvérisation,cible cible en céramique,revêtement PVD

Pulvérisation,cible cible en céramique,revêtement PVD

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Changsha Xinkang Advanced Materials Co, Ltd

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Cible de pulvérisation de silicium

Cible de pulvérisation de silicium

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Beijing Founde Star Science & Technology Co., Ltd.

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Le silicium cible de pulvérisation

Le silicium cible de pulvérisation

Négociable

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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La source d'ions améliore la machine de revêtement par évaporation de faisceau d'électrons

La source d'ions améliore la machine de revêtement par évaporation de faisceau d'électrons

103 200,00-285 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement par évaporation de faisceau d'électrons pour films minces de semi-conducteurs

Machine de revêtement par évaporation de faisceau d'électrons pour films minces de semi-conducteurs

103 200,00-285 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Système de revêtement par évaporation organique, inorganique et combiné

Système de revêtement par évaporation organique, inorganique et combiné

39 500,00-64 900,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Système de revêtement par évaporation organique et inorganique à sources multiples avec rotation de substrat et épaisseur de film uniforme

Système de revêtement par évaporation organique et inorganique à sources multiples avec rotation de substrat et épaisseur de film uniforme

39 500,00-64 900,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 ans
·Fabricant/Usine
Envoyer demande
3 Têtes Compactes de Bureau 2" Dépôt par Sputtering Magnetron

3 Têtes Compactes de Bureau 2" Dépôt par Sputtering Magnetron

28 000,00-28 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coateur de pulvérisation par magnétron à cible unique pour le revêtement de films sur wafers en silicium

Coateur de pulvérisation par magnétron à cible unique pour le revêtement de films sur wafers en silicium

25 000,00-26 500,00 $US
1 set(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Matériau cible en silicium pour revêtement de pulvérisation magnétron, cible en dioxyde de silicium, cible en silicium-germanium et cible en alliage de nitrure de silicium.

Matériau cible en silicium pour revêtement de pulvérisation magnétron, cible en dioxyde de silicium, cible en silicium-germanium et cible en alliage de nitrure de silicium.

Négociable
1 Pièce(MOQ)
13
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