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à propos de cibles de pulvérisation en argent
  • Innovation technologique
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  • Capacités de Fabrication Substantielles

cibles de pulvérisation en argent60+ usines vérifiées

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible de pulvérisation en argent pour dépôt de vapeur de plasma pour revêtement en film mince

Cible de pulvérisation en argent pour dépôt de vapeur de plasma pour revêtement en film mince

60,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en argent pour revêtement par magnétron

Cible de pulvérisation en argent pour revêtement par magnétron

99,00-6 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Matériau de revêtement en film mince 1mm Épais dans la cible de pulvérisation d'indium

Matériau de revêtement en film mince 1mm Épais dans la cible de pulvérisation d'indium

30,00-999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.9% Cible de pulvérisation en aluminium titane Tial pour revêtement

99.9% Cible de pulvérisation en aluminium titane Tial pour revêtement

50,00-900,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 ans
·Société Commerciale
Envoyer demande
Cible de pulvérisation en métal argent pur, 99.99 Cibles en métaux précieux argent AG Personnalisation

Cible de pulvérisation en métal argent pur, 99.99 Cibles en métaux précieux argent AG Personnalisation

630,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Usine 99.95% pur ruthénium pulvérisation cible avec meilleur prix, métaux précieux Ru IR RH PT matériau cible Fabricant

Usine 99.95% pur ruthénium pulvérisation cible avec meilleur prix, métaux précieux Ru IR RH PT matériau cible Fabricant

1 000,00-5 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation de ruthénium de prix d'usine

Cible de pulvérisation de ruthénium de prix d'usine

1 000,00-5 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
3mm Cible épaisse en ruthénium, cible de pulvérisation de Ru

3mm Cible épaisse en ruthénium, cible de pulvérisation de Ru

Négociable
1 Pièce(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
Envoyer demande
Cible de pulvérisation de la marque TMAXCN en argent (AG)

Cible de pulvérisation de la marque TMAXCN en argent (AG)

78,00-90,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Marque TMAXCN VTC-16-3HD-LD 3 Machine de pulvérisation par plasma rotatif pour revêtement, y compris 3 cibles

Marque TMAXCN VTC-16-3HD-LD 3 Machine de pulvérisation par plasma rotatif pour revêtement, y compris 3 cibles

8 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Marque TMAXCN - VTC-3RF Option de pulvérisation par magnétron à courant continu 3 Têtes 1" Machine de pulvérisation par magnétron à plasma RF

Marque TMAXCN - VTC-3RF Option de pulvérisation par magnétron à courant continu 3 Têtes 1" Machine de pulvérisation par magnétron à plasma RF

12 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement TMAXCN Marque VTC-3HD-VP 3 Heads RF/DC Plasma Sputtering Coater pour poudres avec 1 Système de purification de gaz PPM

Machine de revêtement TMAXCN Marque VTC-3HD-VP 3 Heads RF/DC Plasma Sputtering Coater pour poudres avec 1 Système de purification de gaz PPM

13 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
Envoyer demande
Cible en alliage d'aluminium argenté pour le dépôt par pulvérisation pour revêtements réfléchissants

Cible en alliage d'aluminium argenté pour le dépôt par pulvérisation pour revêtements réfléchissants

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Nanoparticules de nanorods d'argent de haute pureté CAS 7440-22-4

Nanoparticules de nanorods d'argent de haute pureté CAS 7440-22-4

35,00-1 370,00 $US
1 Kg(MOQ)
Aluminium pur premium 99.99% pour usage industriel

Aluminium pur premium 99.99% pour usage industriel

30,00-50,00 $US
1 Kg(MOQ)
Pellets de titane de haute pureté 99.99% Granules de titane pour revêtement par évaporation

Pellets de titane de haute pureté 99.99% Granules de titane pour revêtement par évaporation

50,00-200,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

Envoyer demande
Cible en alliage AlSc, cible de pulvérisation en alliage d'aluminium et de scandium pour semi-conducteur

Cible en alliage AlSc, cible de pulvérisation en alliage d'aluminium et de scandium pour semi-conducteur

9 400,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible de pulvérisation en alliage d'aluminium et de néodyme AlNd pour écran LCD/panneau tactile

Cible de pulvérisation en alliage d'aluminium et de néodyme AlNd pour écran LCD/panneau tactile

50,00 $US
1 Kg(MOQ)
C cible cible de pulvérisation de carbone/cible de pulvérisation de carbone pyrolytique pour optique Revêtement à couche mince/semi-conducteur

C cible cible de pulvérisation de carbone/cible de pulvérisation de carbone pyrolytique pour optique Revêtement à couche mince/semi-conducteur

80,00-100,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible en alliage WTi, cible de pulvérisation en alliage de tungstène et de titane pour semi-conducteurs / puces mémoire

Cible en alliage WTi, cible de pulvérisation en alliage de tungstène et de titane pour semi-conducteurs / puces mémoire

270,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible de pulvérisation tubulaire planaire en alliage de cuivre-nickel à haute pureté

Cible de pulvérisation tubulaire planaire en alliage de cuivre-nickel à haute pureté

300,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en alliage Cu/Ni à prix abordable

Cible de pulvérisation en alliage Cu/Ni à prix abordable

300,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en alliage de titane et d'aluminium Ti/Al multi-PCS 99.99% pur

Cible de pulvérisation en alliage de titane et d'aluminium Ti/Al multi-PCS 99.99% pur

80,00-500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation tubulaire plane en nickel de haute pureté valeur prix usine

Cible de pulvérisation tubulaire plane en nickel de haute pureté valeur prix usine

300,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 ans·5.0
Envoyer demande
Cibles de pulvérisation en nickel de précision pour films conducteurs d'instruments de précision

Cibles de pulvérisation en nickel de précision pour films conducteurs d'instruments de précision

110,00-130,00 $US
50 kilograms(MOQ)
Cibles de pulvérisation en nickel résistant à l'usure pour le revêtement de capteurs électroniques automobiles

Cibles de pulvérisation en nickel résistant à l'usure pour le revêtement de capteurs électroniques automobiles

120,00-140,00 $US
50 kilograms(MOQ)
Cibles de pulvérisation en nickel à haute densité Msgp - Parfaitement adaptées aux applications de revêtement de dispositifs médicaux

Cibles de pulvérisation en nickel à haute densité Msgp - Parfaitement adaptées aux applications de revêtement de dispositifs médicaux

260,00-280,00 $US
50 kilograms(MOQ)
Cibles de pulvérisation planaires en nickel pur Msgp pour la fabrication de capteurs Garantie de base

Cibles de pulvérisation planaires en nickel pur Msgp pour la fabrication de capteurs Garantie de base

160,00-200,00 $US
50 kilograms(MOQ)
1/4

Shenzhen Silver Technologies Ltd

Envoyer demande
99.99% Cible de pulvérisation en or pur de haute qualité Au

99.99% Cible de pulvérisation en or pur de haute qualité Au

200,00 $US
10 g(MOQ)
Cible de pulvérisation en or pur premium 99.99% pour applications avancées

Cible de pulvérisation en or pur premium 99.99% pour applications avancées

200,00 $US
10 g(MOQ)
Cible de pulvérisation en or 99.99% Cible de haute qualité en Au Cible en or pur

Cible de pulvérisation en or 99.99% Cible de haute qualité en Au Cible en or pur

200,00 $US
100 g(MOQ)
Cible de pulvérisation en or de haute pureté, adaptée aux 5g matériaux

Cible de pulvérisation en or de haute pureté, adaptée aux 5g matériaux

200,00 $US
100 g(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
Envoyer demande
Cible de pulvérisation en titane Ti Target / Cible rotative en titane pour semi-conducteurs / Pulvérisation de revêtement sous vide

Cible de pulvérisation en titane Ti Target / Cible rotative en titane pour semi-conducteurs / Pulvérisation de revêtement sous vide

1,00-100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Prix d'usine 99.95% Cible de pulvérisation en tantale pur métal Ta cibles planaires en tantale

Prix d'usine 99.95% Cible de pulvérisation en tantale pur métal Ta cibles planaires en tantale

1,00-100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en titane de haute pureté, planétaire pour l'industrie des semi-conducteurs, circuits intégrés, verre de construction et automobile

Cible de pulvérisation en titane de haute pureté, planétaire pour l'industrie des semi-conducteurs, circuits intégrés, verre de construction et automobile

1,00-100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Zr702 Zr705 Cible en tube de zirconium Conductivité thermique Haute pureté Cible de pulvérisation

Zr702 Zr705 Cible en tube de zirconium Conductivité thermique Haute pureté Cible de pulvérisation

1,00-3 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible de pulvérisation en zirconium de haute qualité 705 pour des solutions sur mesure aujourd'hui

Cible de pulvérisation en zirconium de haute qualité 705 pour des solutions sur mesure aujourd'hui

Négociable
10 Kg(MOQ)
Cible de pulvérisation en zirconium 705 pour des solutions métalliques personnalisées de haute qualité

Cible de pulvérisation en zirconium 705 pour des solutions métalliques personnalisées de haute qualité

Négociable
10 Kg(MOQ)
Plaque en Zirconium de Haute Qualité 705 pour des Solutions Métalliques de Précision Personnalisées

Plaque en Zirconium de Haute Qualité 705 pour des Solutions Métalliques de Précision Personnalisées

Négociable
10 Kg(MOQ)
Plaque d'Applications Personnalisées : Zirconium Brillant 705 pour des Solutions Durables

Plaque d'Applications Personnalisées : Zirconium Brillant 705 pour des Solutions Durables

Négociable
10 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

Envoyer demande
99.99% Cible de pulvérisation en alliage d'or et d'étain de haute pureté

99.99% Cible de pulvérisation en alliage d'or et d'étain de haute pureté

265 000,00 $US
10 Pièces(MOQ)
Cible de pulvérisation PVD en argent et cuivre, cible plane ronde

Cible de pulvérisation PVD en argent et cuivre, cible plane ronde

8 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Étain Argent Cuivre Cible Sac Cible

Étain Argent Cuivre Cible Sac Cible

6 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Matériaux en alliage de haute pureté en étain, argent et cuivre

Matériaux en alliage de haute pureté en étain, argent et cuivre

25 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Shandong Quansheng Material Technology Group Co., LTD

3 ans
Envoyer demande
Cibles de tungstène premium pour les processus de revêtement sous vide

Cibles de tungstène premium pour les processus de revêtement sous vide

56,00-61,00 $US
5 Kg(MOQ)
Plaque de pulvérisation de molybdène ultra haute pureté 99.95% pour des applications de précision

Plaque de pulvérisation de molybdène ultra haute pureté 99.95% pour des applications de précision

61,00-69,00 $US
1 Kg(MOQ)
Plaque en molybdène fritté premium pour la croissance de cristaux

Plaque en molybdène fritté premium pour la croissance de cristaux

78,00-88,00 $US
100 Kg(MOQ)
Plaques de Molybdène à Haute Résistance Mo1 Mo2 Certifiées ASTM GB par le Fabricant

Plaques de Molybdène à Haute Résistance Mo1 Mo2 Certifiées ASTM GB par le Fabricant

78,00-88,00 $US
100 Kg(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible de pulvérisation en aluminium titane Alloy/50 pour machine de revêtement PVD

Cible de pulvérisation en aluminium titane Alloy/50 pour machine de revêtement PVD

3 380,00 $US
1 Tonne(MOQ)
Cible de pulvérisation en aluminium titane Alti, cible de pulvérisation en titane aluminium Tial

Cible de pulvérisation en aluminium titane Alti, cible de pulvérisation en titane aluminium Tial

3 380,00 $US
1 Tonne(MOQ)
1/4

BIOTIO SHANGHAI CORP CO., LTD.

5.0
Envoyer demande
Pellets d'aluminium APP-512 Cible de pulvérisation haute pureté 99.999% en stock

Pellets d'aluminium APP-512 Cible de pulvérisation haute pureté 99.999% en stock

3 180,00-8 500,00 $US
1 Tonne(MOQ)
Paillettes d'aluminium API-625 Cible de pulvérisation haute pureté 99.999% en stock

Paillettes d'aluminium API-625 Cible de pulvérisation haute pureté 99.999% en stock

3 180,00-8 500,00 $US
1 Tonne(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Pusheng Iron &Steel Co., Ltd.

Envoyer demande
Matériaux Bruts Haute Pureté 99.7% Lingots de Silicium Cibles Métalliques Lingot de Silicium Pur Cibles de Sputtering

Matériaux Bruts Haute Pureté 99.7% Lingots de Silicium Cibles Métalliques Lingot de Silicium Pur Cibles de Sputtering

2 000,00-2 500,00 $US
22 Tonnes(MOQ)
Cible de pulvérisation de silicium polycristallin de haute pureté 99.999% polysilicium

Cible de pulvérisation de silicium polycristallin de haute pureté 99.999% polysilicium

2 769,00-3 100,00 $US
22 Tonnes(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

Envoyer demande
Pulvérisation Tiox rotatif Sial Silver Tube cathodique cible la pureté de haute qualité pour les dépôts à film mince Nano PVD

Pulvérisation Tiox rotatif Sial Silver Tube cathodique cible la pureté de haute qualité pour les dépôts à film mince Nano PVD

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Zr Zirconium Retangular planaire de la plaque de cible de pulvérisation

Zr Zirconium Retangular planaire de la plaque de cible de pulvérisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation d'usine Uvtm fabricant en Chine de 18 ans Experiece pour Msvd et PVD pulvérisation continue de revêtement sous vide de ligne de production Vicky 13249153016

Cible de pulvérisation d'usine Uvtm fabricant en Chine de 18 ans Experiece pour Msvd et PVD pulvérisation continue de revêtement sous vide de ligne de production Vicky 13249153016

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Azo Sputering cible, matériau de revêtement, membrane métallique mince film

Azo Sputering cible, matériau de revêtement, membrane métallique mince film

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 ans
·Fabricant/Usine
Envoyer demande
Nouveau système de pulvérisation par magnétron PVD pour le revêtement d'or, d'argent et de platine

Nouveau système de pulvérisation par magnétron PVD pour le revêtement d'or, d'argent et de platine

39 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coateur de pulvérisation à magnétron DC de laboratoire avec cible de pulvérisation en argent, or et platine

Coateur de pulvérisation à magnétron DC de laboratoire avec cible de pulvérisation en argent, or et platine

18 000,00-19 500,00 $US
1 set(MOQ)
Coqueur plasma triple cible en acier inoxydable en poudre avec 150W alimentation électrique haute tension DC pour instrument chirurgical

Coqueur plasma triple cible en acier inoxydable en poudre avec 150W alimentation électrique haute tension DC pour instrument chirurgical

12 000,00-13 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coateur de pulvérisation à plasma à double cible de bureau pour échantillon SEM et chrome

Coateur de pulvérisation à plasma à double cible de bureau pour échantillon SEM et chrome

7 900,00-8 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Société Commerciale
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Cible de pulvérisation en molybdène personnalisable avec haute densité pour des applications de revêtement de semi-conducteurs et de verre

Cible de pulvérisation en molybdène personnalisable avec haute densité pour des applications de revêtement de semi-conducteurs et de verre

30,00-80,00 $US
10 Kg(MOQ)
Cible en tungstène poli de haute pureté pour des applications avancées de bombardement ionique

Cible en tungstène poli de haute pureté pour des applications avancées de bombardement ionique

50,00-270,00 $US
10 Kg(MOQ)
Cible de molybdène de haute pureté pour des applications industrielles avancées

Cible de molybdène de haute pureté pour des applications industrielles avancées

30,00-60,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible de pulvérisation en tungstène haute pureté 99.95% Dépôt de films minces pour semi-conducteurs personnalisable norme ASTM

Cible de pulvérisation en tungstène haute pureté 99.95% Dépôt de films minces pour semi-conducteurs personnalisable norme ASTM

60,00-100,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 ans
·Société Commerciale
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Cible de pulvérisation en niobium de haute qualité avec le numéro CAS 7440-03-1

Cible de pulvérisation en niobium de haute qualité avec le numéro CAS 7440-03-1

Négociable
1 Piece(MOQ)
Barre cible en métal de samarium granulaire CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Barre cible en métal de samarium granulaire CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Négociable
1 Piece(MOQ)
Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible de Sputtering ITO Rotatif 4n In2o3 et Sno2

Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible de Sputtering ITO Rotatif 4n In2o3 et Sno2

Négociable
1 Piece(MOQ)
Prix d'usine Vendre faible densité 4n cible ronde ITO petite

Prix d'usine Vendre faible densité 4n cible ronde ITO petite

Négociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

Envoyer demande
Surface polie de haute dureté et cible en tube de nickel de pureté supérieure

Surface polie de haute dureté et cible en tube de nickel de pureté supérieure

30,00 $US
10 Pièces(MOQ)
Cible en tantale de haute pureté, gris, ductilité pour revêtement sous vide

Cible en tantale de haute pureté, gris, ductilité pour revêtement sous vide

73,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Jiyuan Yujin Target Material Technology Co., Ltd

Envoyer demande
Cible argentée pour verre Low-E.

Cible argentée pour verre Low-E.

Négociable
1 Kg(MOQ)
Cible argentée pour composants électroniques

Cible argentée pour composants électroniques

Négociable
1 Kg(MOQ)

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Cibles de revêtement argent (AG) haute pureté, tubes en alliage d'argent, fils, particules, plaques d'argent, Matériaux de revêtement PVD.

Cibles de revêtement argent (AG) haute pureté, tubes en alliage d'argent, fils, particules, plaques d'argent, Matériaux de revêtement PVD.

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
Envoyer demande
5-200kw Source de pulvérisation typique pour les industries de revêtement en film mince cathode à magnétron rotatif cible de pulvérisation rotative

5-200kw Source de pulvérisation typique pour les industries de revêtement en film mince cathode à magnétron rotatif cible de pulvérisation rotative

6 900,00-7 000,00 $US
2 sets(MOQ)
Système de dépôt de film mince en argent par pulvérisation magnétron sous vide pilote

Système de dépôt de film mince en argent par pulvérisation magnétron sous vide pilote

80 000,00-180 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Ligne de revêtement par pulvérisation magnétron pour miroir en aluminium et en argent

Ligne de revêtement par pulvérisation magnétron pour miroir en aluminium et en argent

500 000,00-800 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de fabrication de miroir en argent par pulvérisation magnétron sous vide

Machine de fabrication de miroir en argent par pulvérisation magnétron sous vide

500 000,00-800 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

UV Tech Material Co., Ltd.

Envoyer demande
Silver Plaque cible de pulvérisation magnétron, revêtement en métal précieux Ag Argent cible pour revêtement de pulvérisation magnétron

Silver Plaque cible de pulvérisation magnétron, revêtement en métal précieux Ag Argent cible pour revêtement de pulvérisation magnétron

Négociable
2 Pièces(MOQ)
99,99% de métal de haute pureté Ag Argent cible de pulvérisation avec de bons prix, Ag Argent cible planaire

99,99% de métal de haute pureté Ag Argent cible de pulvérisation avec de bons prix, Ag Argent cible planaire

Négociable
1 Pièce(MOQ)
AG Argent cible de pulvérisation

AG Argent cible de pulvérisation

Négociable
2 Pièces(MOQ)
Pivoter AG Cible Cible de pulvérisation de haute qualité

Pivoter AG Cible Cible de pulvérisation de haute qualité

Négociable
2 Pièces(MOQ)

Hubei Fotma Machinery Co., Ltd.

Envoyer demande
Produit personnalisé en tungstène, cible en tungstène pur pour pulvérisation

Produit personnalisé en tungstène, cible en tungstène pur pour pulvérisation

40,00-50,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.95% Cible de pulvérisation de molybdène Moly Tube

99.95% Cible de pulvérisation de molybdène Moly Tube

5,00-200,00 $US
1 Kilogram(MOQ)
99.95% Feuilles de tungstène noir usinées à la machine, plaque de tungstène

99.95% Feuilles de tungstène noir usinées à la machine, plaque de tungstène

1,00-20,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Tengzhou Fast Silver Trading Co., Limited.

Envoyer demande
Cible de pulvérisation d'argent de haute pureté AG métal pur Pièces pour le dépôt de couches minces

Cible de pulvérisation d'argent de haute pureté AG métal pur Pièces pour le dépôt de couches minces

200,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible d'or de haute pureté ua pulvérisation cathodique cible pour le dépôt à film mince semi-conducteurs

Cible d'or de haute pureté ua pulvérisation cathodique cible pour le dépôt à film mince semi-conducteurs

Négociable
1 Pièce(MOQ)
99.99% de pureté matériel métal de titane ronde cible Ti Titane pulvérisation cible

99.99% de pureté matériel métal de titane ronde cible Ti Titane pulvérisation cible

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

Envoyer demande
99.9999% 6n Cibles de pulvérisation en cuivre de haute pureté avec plaque de support

99.9999% 6n Cibles de pulvérisation en cuivre de haute pureté avec plaque de support

335,00-350,00 $US
100 Kg(MOQ)
99.9999% Pellets de cuivre pur 6n 3mm Cu-Ofe/C10100 pour déposition sous vide &3D impression

99.9999% Pellets de cuivre pur 6n 3mm Cu-Ofe/C10100 pour déposition sous vide &3D impression

45,99-59,99 $US
100 kilograms(MOQ)
Matériaux d'évaporation en pellets de cuivre de haute pureté 2mm/3mm/5mm personnalisés 6n

Matériaux d'évaporation en pellets de cuivre de haute pureté 2mm/3mm/5mm personnalisés 6n

35,00-67,00 $US
100 kilograms(MOQ)
1/4

Luoyang Modi Tungsten & Molybdenum Material Co., Ltd.

Envoyer demande
Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

75,00-95,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

Envoyer demande
Cible de pulvérisation pour la Basse-E80-20verre Nicr wt revêtement PVD

Cible de pulvérisation pour la Basse-E80-20verre Nicr wt revêtement PVD

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Able Target Limited

Envoyer demande
Pulvérisation,cible cible en céramique,revêtement PVD

Pulvérisation,cible cible en céramique,revêtement PVD

Négociable
1 Pièce(MOQ)
13
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