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à propos de cible céramique de pulvérisation
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cible céramique de pulvérisation90+ usines vérifiées

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

Envoyer demande
Cible céramique au silicium-polyéthylène pour pulvérisation de la cible/photovoltaïque solaire

Cible céramique au silicium-polyéthylène pour pulvérisation de la cible/photovoltaïque solaire

35,00-50,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible en silicium monocristallin Mono-Si pour la pulvérisation, cible céramique pour photovoltaïques solaires, téléphone mobile

Cible en silicium monocristallin Mono-Si pour la pulvérisation, cible céramique pour photovoltaïques solaires, téléphone mobile

35,00-75,00 $US
1 Kg(MOQ)
In2O3+Cu céramique cible oxyde indium+Cuprum céramique cible de pulvérisation pour LCD/Touch Panneau

In2O3+Cu céramique cible oxyde indium+Cuprum céramique cible de pulvérisation pour LCD/Touch Panneau

40,00 $US
1 Kg(MOQ)
SrRuO3 cible Strontium ruthénate cible de pulvérisation céramique pour optique mince Revêtement de film

SrRuO3 cible Strontium ruthénate cible de pulvérisation céramique pour optique mince Revêtement de film

40,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible de pulvérisation en céramique de ferrite de bismuth Bifeo3 haute pureté pour applications de revêtement

Cible de pulvérisation en céramique de ferrite de bismuth Bifeo3 haute pureté pour applications de revêtement

25,00-30,00 $US
10 Pièces(MOQ)
Cibles en céramique Baryum Strontium Titanate Cible de pulvérisation Srbatio3 pour revêtement

Cibles en céramique Baryum Strontium Titanate Cible de pulvérisation Srbatio3 pour revêtement

25,00-30,00 $US
10 Pièces(MOQ)
Cible de pulvérisation ronde en céramique de silicium monocristallin de pureté Xinkang 99.999% 5n

Cible de pulvérisation ronde en céramique de silicium monocristallin de pureté Xinkang 99.999% 5n

85,00-125,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible ronde en oxyde d'aluminium céramique personnalisée Al2O3

Cible ronde en oxyde d'aluminium céramique personnalisée Al2O3

45,00-85,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Cible en céramique d'alliage Tiox dioxyde de titane oxyde de titane cible de pulvérisation

Cible en céramique d'alliage Tiox dioxyde de titane oxyde de titane cible de pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.95% Lac2 Cible de céramique de carbure de lanthane

99.95% Lac2 Cible de céramique de carbure de lanthane

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.99% Tisi2 Cibles en céramique Cibles de siliciure de titane

99.99% Tisi2 Cibles en céramique Cibles de siliciure de titane

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.99% Cible en céramique MGO oxyde de magnésium cibles de pulvérisation

99.99% Cible en céramique MGO oxyde de magnésium cibles de pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 ans
·Société Commerciale
Envoyer demande
Cible céramique revêtue en carbure de silicium Sic haute pureté traitement par pulvérisation magnétron personnalisation

Cible céramique revêtue en carbure de silicium Sic haute pureté traitement par pulvérisation magnétron personnalisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Carbure de silicium cible SIC 99.9% revêtement revêtement cible céramique

Carbure de silicium cible SIC 99.9% revêtement revêtement cible céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de haute pureté 99.9%- 99.99% Ruo2, cible de dioxyde de ruthénium pour pulvérisation 1-10inch

Cible de haute pureté 99.9%- 99.99% Ruo2, cible de dioxyde de ruthénium pour pulvérisation 1-10inch

2 000,00-4 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation de métal au tantale de haute pureté pour le revêtement de couche mince

Cible de pulvérisation de métal au tantale de haute pureté pour le revêtement de couche mince

300,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

Envoyer demande
Disque céramique de hexaborure de lanthane Lab6 pour pulvérisation

Disque céramique de hexaborure de lanthane Lab6 pour pulvérisation

50,00-200,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation céramique d'hexaborure de lanthane Lab6 pour le revêtement de film mince PVD

Cible de pulvérisation céramique d'hexaborure de lanthane Lab6 pour le revêtement de film mince PVD

50,00-200,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cibles en céramique de hexaborure de lanthane à haute émissivité électronique Lab6

Cibles en céramique de hexaborure de lanthane à haute émissivité électronique Lab6

50,00-200,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation Disque céramique de borure de lanthane Lab6

Cible de pulvérisation Disque céramique de borure de lanthane Lab6

50,00-200,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
Envoyer demande
Cible en carbure de silicium céramique TMAXCN 99.5% pour le dépôt par pulvérisation

Cible en carbure de silicium céramique TMAXCN 99.5% pour le dépôt par pulvérisation

78,00-90,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation céramique de haute pureté TMAXCN 99.5% en carbure de bore pur B4c

Cible de pulvérisation céramique de haute pureté TMAXCN 99.5% en carbure de bore pur B4c

78,00-90,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Marque TMAXCN Haute Densité Zn2sno4 Cible de Pulvérisation de Stannate de Zinc Matériau de Revêtement Céramique

Marque TMAXCN Haute Densité Zn2sno4 Cible de Pulvérisation de Stannate de Zinc Matériau de Revêtement Céramique

78,00-90,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coateur conductif à magnétron par pulvérisation DC/RF de banc pour métaux, oxydes, céramiques et semi-conducteurs

Coateur conductif à magnétron par pulvérisation DC/RF de banc pour métaux, oxydes, céramiques et semi-conducteurs

15 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Fabricant Fournisseur de Cible en Titane

Fabricant Fournisseur de Cible en Titane

30,00-100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation magnétron

Machine de revêtement par pulvérisation magnétron

55 000,00-150 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement sous vide par pulvérisation magnétron à fréquence moyenne entièrement automatique

Machine de revêtement sous vide par pulvérisation magnétron à fréquence moyenne entièrement automatique

15 000,00-150 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement sous vide par pulvérisation cathodique en acier inoxydable haut de gamme

Machine de revêtement sous vide par pulvérisation cathodique en acier inoxydable haut de gamme

95 000,00-160 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Shandong Pengcheng Advanced Ceramics Co., Ltd.

12 ans·5.0
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Cible de pulvérisation en nitrure de bore, bateaux d'évaporation en nitrure de bore, crucible en céramique de nitrure de bore pour applications électriques

Cible de pulvérisation en nitrure de bore, bateaux d'évaporation en nitrure de bore, crucible en céramique de nitrure de bore pour applications électriques

150,00-160,00 $US
100 Kg(MOQ)
Cibles de pulvérisation en diborure de titane (TiB2) Plaque en céramique

Cibles de pulvérisation en diborure de titane (TiB2) Plaque en céramique

30,00 $US
50 Kg(MOQ)
Tib2 Cible de pulvérisation en céramique diborure de titane

Tib2 Cible de pulvérisation en céramique diborure de titane

30,00 $US
50 Kg(MOQ)
1/4

Hebei Zhongyi Import and Export Co., Ltd.

3 ans
·Société Commerciale
Envoyer demande
Cible de pulvérisation céramique en disulfure de tungstène de haute pureté Ws2 pour applications de revêtement

Cible de pulvérisation céramique en disulfure de tungstène de haute pureté Ws2 pour applications de revêtement

9,00-12,00 $US
10 Kg(MOQ)
Cible de pulvérisation en disulfure de tungstène pur Ws2 pour un revêtement céramique de haute qualité

Cible de pulvérisation en disulfure de tungstène pur Ws2 pour un revêtement céramique de haute qualité

9,00-12,00 $US
10 Kg(MOQ)
1/4

BIOTIO SHANGHAI CORP CO., LTD.

5.0
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Paillettes d'aluminium API-625 Cible de pulvérisation haute pureté 99.999% en stock

Paillettes d'aluminium API-625 Cible de pulvérisation haute pureté 99.999% en stock

3 180,00-8 500,00 $US
1 Tonne(MOQ)
Pellets d'aluminium APP-512 Cible de pulvérisation haute pureté 99.999% en stock

Pellets d'aluminium APP-512 Cible de pulvérisation haute pureté 99.999% en stock

3 180,00-8 500,00 $US
1 Tonne(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Cible de ruthénium par pulvérisation magnétron haute pureté

Cible de ruthénium par pulvérisation magnétron haute pureté

32 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Matériau cible en nitrure de silicium de haute pureté

Matériau cible en nitrure de silicium de haute pureté

15 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de ruthénium haute pureté cible ronde de pulvérisation

Cible de ruthénium haute pureté cible ronde de pulvérisation

75 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible en cuivre de haute pureté pour pulvérisation sous vide

Cible en cuivre de haute pureté pour pulvérisation sous vide

2 200,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible ronde en nickel de haute qualité pour la pulvérisation

Cible ronde en nickel de haute qualité pour la pulvérisation

10,00 $US
1 pcs(MOQ)
Cible de pulvérisation ronde en zirconium à haute température de fusion Zr702

Cible de pulvérisation ronde en zirconium à haute température de fusion Zr702

15,00 $US
1 pcs(MOQ)
Surface polie de haute dureté et cible en tube de nickel de pureté supérieure

Surface polie de haute dureté et cible en tube de nickel de pureté supérieure

30,00 $US
10 Pièces(MOQ)
Bonne conductivité thermique et électrique tige ronde en zirconium pur

Bonne conductivité thermique et électrique tige ronde en zirconium pur

15,00 $US
10 kg(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Prix des cibles de titane de haute pureté pour le revêtement PVD / Cible de titane par pulvérisation / Cible ronde en titane à vendre

Prix des cibles de titane de haute pureté pour le revêtement PVD / Cible de titane par pulvérisation / Cible ronde en titane à vendre

80,00-300,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Ligne de revêtement par pulvérisation magnétron en verre / Machine de revêtement de verre à faible émissivité

Ligne de revêtement par pulvérisation magnétron en verre / Machine de revêtement de verre à faible émissivité

45 000,00-150 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Machine de revêtement sous vide de haute qualité pour pièces automobiles en bleu, rouge, orange, or rose, noir, vert, argent, coloré, etc

Machine de revêtement sous vide de haute qualité pour pièces automobiles en bleu, rouge, orange, or rose, noir, vert, argent, coloré, etc

45 000,00-150 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Système de revêtement de miroir en aluminium par pulvérisation, machine de revêtement, équipement de revêtement, ligne de production

Système de revêtement de miroir en aluminium par pulvérisation, machine de revêtement, équipement de revêtement, ligne de production

45 000,00-150 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Nitrude de bore (BN) Nitrude céramique PVD Sputtering Target, Diboride de titane, boride de titane, taille personnalisée, fixation de plaque de support

Nitrude de bore (BN) Nitrude céramique PVD Sputtering Target, Diboride de titane, boride de titane, taille personnalisée, fixation de plaque de support

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Titanate de baryum Batio3 cible, baryum strontium titanate cible Basrtio3, PVD Magnetron cible de pulvérisation, consommables de laboratoire

Titanate de baryum Batio3 cible, baryum strontium titanate cible Basrtio3, PVD Magnetron cible de pulvérisation, consommables de laboratoire

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent à oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron

Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent à oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Matériau cible en oxyde de zinc aluminium (AZO) de haute pureté, oxyde de zinc (ZnO) dopé d'oxyde d'aluminium (Al2O3), cible en oxyde de pulvérisation de magnétron, fixation de plaque arrière

Matériau cible en oxyde de zinc aluminium (AZO) de haute pureté, oxyde de zinc (ZnO) dopé d'oxyde d'aluminium (Al2O3), cible en oxyde de pulvérisation de magnétron, fixation de plaque arrière

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 ans
·Fabricant/Usine
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Revêtement par pulvérisation magnétron à double cible RF en céramique, diélectrique, optique, oxyde, film dur, film PTFE

Revêtement par pulvérisation magnétron à double cible RF en céramique, diélectrique, optique, oxyde, film dur, film PTFE

26 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Revêtement par pulvérisation magnétron à cible unique avec moniteur d'épaisseur de film

Revêtement par pulvérisation magnétron à cible unique avec moniteur d'épaisseur de film

18 000,00-19 200,00 $US
1 set(MOQ)
Revêtement par pulvérisation magnétron simple, double, triple avec moniteur d'épaisseur de film

Revêtement par pulvérisation magnétron simple, double, triple avec moniteur d'épaisseur de film

60 000,00-61 200,00 $US
1 set(MOQ)
Sputtering à cible unique avec fonction d'enroulement de fibre optique

Sputtering à cible unique avec fonction d'enroulement de fibre optique

28 000,00-29 500,00 $US
1 set(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Quatre coateurs à magnétron par pulvérisation cible avec chambre de chargement pour film mince en céramique

Quatre coateurs à magnétron par pulvérisation cible avec chambre de chargement pour film mince en céramique

28 500,00-40 100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Appareil de revêtement par pulvérisation magnétron à cible unique en acier inoxydable de bureau

Appareil de revêtement par pulvérisation magnétron à cible unique en acier inoxydable de bureau

8 730,00-8 900,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Dépôt par pulvérisation magnétron à double cible en courant continu pour films minces métalliques et oxydes

Dépôt par pulvérisation magnétron à double cible en courant continu pour films minces métalliques et oxydes

21 000,00-26 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Instrument de pulvérisation par magnétron à cavité en quartz pour échantillon sem de bureau

Instrument de pulvérisation par magnétron à cavité en quartz pour échantillon sem de bureau

8 730,00-8 900,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Nitrude de bore (BN) Nitrude céramique PVD Sputtering Target, Diboride de titane, boride de titane, taille personnalisée, fixation de plaque de support

Nitrude de bore (BN) Nitrude céramique PVD Sputtering Target, Diboride de titane, boride de titane, taille personnalisée, fixation de plaque de support

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent pour semi-conducteur d'oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron, spécifications personnalisées

Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent pour semi-conducteur d'oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron, spécifications personnalisées

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Baryum tianate Batio3 cible, baryum strontium titanate cible Basrtio3, PVD Magnetron cible de pulvérisation, consommables de laboratoire, particules, collage de support

Baryum tianate Batio3 cible, baryum strontium titanate cible Basrtio3, PVD Magnetron cible de pulvérisation, consommables de laboratoire, particules, collage de support

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Matériau cible IGZO (oxyde de zinc de Gallium indium) de haute pureté pour revêtement sous vide, matériel de recherche et matériel expérimental par pulvérisation de magnétron PVD

Matériau cible IGZO (oxyde de zinc de Gallium indium) de haute pureté pour revêtement sous vide, matériel de recherche et matériel expérimental par pulvérisation de magnétron PVD

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Huita Opto-Electronic Materials Co., Ltd

Envoyer demande
ITO (comprimés) Cible de pulvérisation

ITO (comprimés) Cible de pulvérisation

Négociable
5 Pièces(MOQ)
Le zirconium cible de pulvérisation

Le zirconium cible de pulvérisation

Négociable
5 Pièces(MOQ)
Rotation de la cible de silicium

Rotation de la cible de silicium

Négociable
5 Sets(MOQ)
Cible Tiox

Cible Tiox

Négociable
5 Pièces(MOQ)

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

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Ybco YBA2CU3O7 Yttrium oxyde de cuivre de baryum cible de pulvérisation

Ybco YBA2CU3O7 Yttrium oxyde de cuivre de baryum cible de pulvérisation

250,00-500,00 $US
1 Pièce(MOQ)

China Rare Metal Material Co., Ltd.

Envoyer demande
Cibles de pulvérisation en céramique

Cibles de pulvérisation en céramique

100,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Deyang Aijialun Vacuum Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible de pulvérisation ITO

Cible de pulvérisation ITO

20,00-1 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)

Hunan Ultra Minor Metals Ltd

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Haut de la pureté de l'osmium pulvérisation cible cible pour l'industrie à film mince

Haut de la pureté de l'osmium pulvérisation cible cible pour l'industrie à film mince

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Cible de pulvérisation de gadolinium premium pour la fabrication d'électronique avancée

Cible de pulvérisation de gadolinium premium pour la fabrication d'électronique avancée

55,00-85,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.9% Cible de pulvérisation en métal d'yttrium rare Y disque d'yttrium pour semi-conducteur

99.9% Cible de pulvérisation en métal d'yttrium rare Y disque d'yttrium pour semi-conducteur

115,00-130,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en ytterbium avancée pour des solutions optiques supérieures

Cible de pulvérisation en ytterbium avancée pour des solutions optiques supérieures

190,00-199,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible métallique de pulvérisation sur mesure de haute qualité pour solutions de stockage de données

Cible métallique de pulvérisation sur mesure de haute qualité pour solutions de stockage de données

115,00-130,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 ans·5.0
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Mo1 Prix de la cible de molybdène pour la pulvérisation

Mo1 Prix de la cible de molybdène pour la pulvérisation

40,00-88,00 $US
1 kg(MOQ)
Plaque de molybdène cible de qualité supérieure

Plaque de molybdène cible de qualité supérieure

40,00-88,00 $US
1 kg(MOQ)
Barre de tungstène pur personnalisée W1

Barre de tungstène pur personnalisée W1

39,00-65,00 $US
1 kg(MOQ)
Bateau en Molybdène Pur, Bateau en Molybdène (La2O3) et Alliage Tzm le Plus Fiable

Bateau en Molybdène Pur, Bateau en Molybdène (La2O3) et Alliage Tzm le Plus Fiable

31,00-54,00 $US
1 kg(MOQ)
1/2

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Pulvérisation azo cible oxyde de zinc en aluminium pour l'évaporation Thin-Film revêtement optique

Pulvérisation azo cible oxyde de zinc en aluminium pour l'évaporation Thin-Film revêtement optique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'oxyde de cible de pulvérisation de gallium Ga2O3 de la pureté de 99,99 % 4n

L'oxyde de cible de pulvérisation de gallium Ga2O3 de la pureté de 99,99 % 4n

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en céramique de formes diverses pour le composé de revêtement PVD Cible

Cible de pulvérisation en céramique de formes diverses pour le composé de revêtement PVD Cible

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'Yttrium oxyde de zirconium Ysz(ZRO2/Y2O3 99,99 % cible de pulvérisation cible en céramique

L'Yttrium oxyde de zirconium Ysz(ZRO2/Y2O3 99,99 % cible de pulvérisation cible en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
Envoyer demande
Cathode rotative, tube cylindrique cible pour machine à revêtement

Cathode rotative, tube cylindrique cible pour machine à revêtement

6 700,00-6 800,00 $US
2 sets(MOQ)
5-200kw Source de pulvérisation typique pour les industries de revêtement en film mince cathode à magnétron rotatif cible de pulvérisation rotative

5-200kw Source de pulvérisation typique pour les industries de revêtement en film mince cathode à magnétron rotatif cible de pulvérisation rotative

6 900,00-7 000,00 $US
2 sets(MOQ)
Machine de pulvérisation par magnétron PVD pour le traitement de surface céramique

Machine de pulvérisation par magnétron PVD pour le traitement de surface céramique

80 000,00-180 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation magnétron à haute précision pour substrats en métal, verre et céramique

Machine de revêtement par pulvérisation magnétron à haute précision pour substrats en métal, verre et céramique

80 000,00-180 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
1/4

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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99.999% Plaque de cible en silicium monocrystallin de haute pureté / Cible en céramique de silicium

99.999% Plaque de cible en silicium monocrystallin de haute pureté / Cible en céramique de silicium

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
4n Cible Azo ZnO : Al2O3 Cibles de pulvérisation rotative

4n Cible Azo ZnO : Al2O3 Cibles de pulvérisation rotative

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cibles de pulvérisation en graphite carboné de haute pureté sur mesure 99.99% Cible en cuivre de liaison

Cibles de pulvérisation en graphite carboné de haute pureté sur mesure 99.99% Cible en cuivre de liaison

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
4n TiO2 Cibles en oxyde de titane Cibles rotatives Cibles plates

4n TiO2 Cibles en oxyde de titane Cibles rotatives Cibles plates

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 ans
·Société Commerciale
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Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible de Sputtering ITO Rotatif 4n In2o3 et Sno2

Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible de Sputtering ITO Rotatif 4n In2o3 et Sno2

Négociable
1 Piece(MOQ)
Prix d'usine Vendre faible densité 4n cible ronde ITO petite

Prix d'usine Vendre faible densité 4n cible ronde ITO petite

Négociable
1 Piece(MOQ)
Prix d'usine vendre cible ITO haute pureté pour Rpd 4n

Prix d'usine vendre cible ITO haute pureté pour Rpd 4n

Négociable
1 Piece(MOQ)
Cible métallique ITO de haute pureté 4n oxyde d'indium et oxyde d'étain In2o3 et Sno2

Cible métallique ITO de haute pureté 4n oxyde d'indium et oxyde d'étain In2o3 et Sno2

Négociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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Cible de l'OTI, LED / / OLED Tp cible de l'OTI, LED Semiconductor ITO Slug

Cible de l'OTI, LED / / OLED Tp cible de l'OTI, LED Semiconductor ITO Slug

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Izo cible, vaporisation Izo cible, oxyde de Indium-Zinc

Izo cible, vaporisation Izo cible, oxyde de Indium-Zinc

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Igzo cible, TFT Igzo de canal, de la couche cible Indium-Gallium-oxyde de zinc

Igzo cible, TFT Igzo de canal, de la couche cible Indium-Gallium-oxyde de zinc

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'OTI cible, cible rotatif de l'OTI, Tp Tn TFT-LCD STN cible de l'OTI

L'OTI cible, cible rotatif de l'OTI, Tp Tn TFT-LCD STN cible de l'OTI

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

Envoyer demande
Al2O3 cible de pulvérisation en céramique

Al2O3 cible de pulvérisation en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Azo cibles cylindrique

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Le Bi2O3 cible de pulvérisation en céramique

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Le Bi2Te3 cible de pulvérisation

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